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Growth Conditions of Φ100 mm n <111> FZ Silicon Single Crystal
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作者 周旗钢 曾世铭 +2 位作者 张福珍 陈勇钢 孙华英 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1995年第2期154-157,共4页
For large diarneter silicon single crystal, the solid-liquid growth interface is necessary to be a coneaveshape with a certain radius range. If the change of the radius of growth interface is not in this limited range... For large diarneter silicon single crystal, the solid-liquid growth interface is necessary to be a coneaveshape with a certain radius range. If the change of the radius of growth interface is not in this limited range,the growth of DF (dislocation free) sinsle crystal is very difficult. The growth of FZ-Si single crystal was stud-ied. It is found that the growth speed ( 2. 5~2. 7 mm/min) as well as the rotation speed (3. 5 r/min) for theΦ100 mm crystal can be smaller . comparing with the Φ76. 2 mm crystal with the same coil. In order to satisfythe demand of large diameter crystal . the size of coil should be large enough, and the shape should satisfy theneed of the growth interface of crystal. With the increasing of diameter , the heating power , the anode voltageand the strength of electric field within the coil should be increased, and Ar pressure in surrounding circum-stance should also be higher , from 1. 96 × 1 0 ̄4 Pa to 4. 90 × 10 ̄4 Pa.According to the above growth factors, three rods of Φ100 mm FZ-Si single crystal were grown success-fully , the weights are 8~10 kg. When the diameter of crystal cone is increased to a limited size, “remeltingarca” will occur in the surface of the crystal , which cause a failure of growing DF crystal , this reason may bethat the recrystalliztion direction has been chansed , as it does. 展开更多
关键词 e: Float-zone single crystal silicon Stress Dislocation-free silicon
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悬浮区熔法中线圈中心厚度对电磁场的影响
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作者 张伟才 郑万超 +1 位作者 李聪 冯旭 《材料导报》 CSCD 北大核心 2023年第S01期62-65,共4页
为提高悬浮区熔(FZ)法的成晶率,使用模拟计算软件深入研究FZ硅单晶的生长过程。本文通过Comsol Multiphysics软件模拟FZ炉内的电磁场,分析不同线圈中心厚度对于电磁场的影响。随着线圈中心厚度增加,熔化的多晶硅表面电磁能量减小,而熔... 为提高悬浮区熔(FZ)法的成晶率,使用模拟计算软件深入研究FZ硅单晶的生长过程。本文通过Comsol Multiphysics软件模拟FZ炉内的电磁场,分析不同线圈中心厚度对于电磁场的影响。随着线圈中心厚度增加,熔化的多晶硅表面电磁能量减小,而熔体自由表面电磁能量增加。如果线圈中心厚度过小,较小熔体自由表面电磁能量会导致穿过线圈的多晶硅棒中心区域不熔化;如果线圈中心厚度过大,较小熔化的多晶硅表面电磁能量使熔化的多晶硅减少,引起熔体自由表面形状改变。之后,本文使用中心厚度为1 mm、1.5 mm和2 mm线圈生长6英寸硅单晶,发现线圈中心厚度为1.5 mm时,线圈产生的电磁场更有利于硅单晶生长。 展开更多
关键词 悬浮区熔硅 线圈中心厚度 熔化的多晶硅表面 熔体自由表面 电磁场
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悬浮区熔炉线圈后狭缝倾角对电磁场的影响
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作者 郑万超 李聪 +1 位作者 冯旭 李明佳 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第3期262-267,共6页
为提高悬浮区熔(FZ)法的成品率,使用模拟计算软件研究了FZ硅单晶的生长过程。通过Comsol Multiphysics软件模拟了FZ炉线圈产生的电磁场,分析了线圈后狭缝倾角对电磁场的影响。随着线圈后狭缝倾角的增加,线圈台阶处和线圈底面坡面处的后... 为提高悬浮区熔(FZ)法的成品率,使用模拟计算软件研究了FZ硅单晶的生长过程。通过Comsol Multiphysics软件模拟了FZ炉线圈产生的电磁场,分析了线圈后狭缝倾角对电磁场的影响。随着线圈后狭缝倾角的增加,线圈台阶处和线圈底面坡面处的后狭缝位置向后狭缝倾斜方向偏移,导致后狭缝下方的磁场强度减弱,熔化的多晶硅表面和熔体自由表面的电磁能量等值线向后狭缝偏转方向偏移。结合熔化的多晶硅表面和熔体自由表面的电磁能量、电磁能量差与线圈后狭缝倾角的关系曲线,发现线圈后狭缝倾角为30°左右时,线圈产生的电磁场更有利于硅单晶生长。 展开更多
关键词 悬浮区熔(fz)硅 线圈 后狭缝倾角 电磁场 熔化的多晶硅表面 熔体自由表面
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高纯区熔单晶硅高增益光晶体管的研究 被引量:2
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作者 田晓娜 张秀荣 +2 位作者 张海君 韩德俊 G.Batignani 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期838-841,共4页
区熔单晶硅与直拉单晶硅以及其他半导体材料相比杂质含量少 ,少子寿命长 ,所以以区熔单晶硅为衬底制作的光晶体管在弱的光信号下仍然有高的增益 ,适宜于弱光探测 报道了以区熔单晶硅为衬底的光晶体管的实验结果 为了保持区熔高纯单晶... 区熔单晶硅与直拉单晶硅以及其他半导体材料相比杂质含量少 ,少子寿命长 ,所以以区熔单晶硅为衬底制作的光晶体管在弱的光信号下仍然有高的增益 ,适宜于弱光探测 报道了以区熔单晶硅为衬底的光晶体管的实验结果 为了保持区熔高纯单晶硅内的少子寿命 ,背面淀积了一层掺磷多晶硅作为外吸杂层 已经测量得到对于实验中发射极直径为 2mm的光晶体管在波长为0 .83μm的入射光照射下 ,光功率低至 0 .16nW时 ,光晶体管的增益仍然高达 4 40 展开更多
关键词 区熔单晶硅 外部吸杂 光晶体管 增益 少子寿命
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真空提纯对n型高阻区熔硅单晶研制的影响 被引量:1
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作者 庞炳远 闫萍 刘洪 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2015年第10期676-680,共5页
采用真空提纯工艺对棒状多晶硅原料进行了区熔(FZ)提纯,之后对提纯后的多晶硅进行单晶生长。通过检测每次提纯后的多晶硅和最终生长成的硅单晶的电阻率变化,得到了真空提纯工艺对电阻率变化的影响规律。之后,通过计算得到了原料中主要... 采用真空提纯工艺对棒状多晶硅原料进行了区熔(FZ)提纯,之后对提纯后的多晶硅进行单晶生长。通过检测每次提纯后的多晶硅和最终生长成的硅单晶的电阻率变化,得到了真空提纯工艺对电阻率变化的影响规律。之后,通过计算得到了原料中主要杂质磷杂质在每次真空提纯后的去除量,并讨论了磷杂质去除量对材料导电类型的影响。分析认为真空提纯工艺具有较高的提纯效率,通过真空提纯工艺可大幅提高材料的纯度和电阻率。提出要研制n型高纯高阻硅单晶,还需通过真空提纯工艺精确地控制硼、磷杂质的相对含量,并充分考虑杂质在径向上的分布规律。 展开更多
关键词 真空提纯 N型 高阻 硅单晶 区熔(fz)
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生长系统对高阻区熔硅单晶径向电阻率变化的影响 被引量:2
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作者 闫萍 索开南 庞炳远 《电子工业专用设备》 2011年第9期11-13,38,共4页
分别采用L4375-ZE区熔炉和CFG/1400P区熔炉,生长了N型、(1.5~4.5)×103Ω.cm和P型、(1.0~5.0)×104Ω.cm两种规格的高阻区熔硅单晶,单晶的直径为52~54 mm,晶向为<111>。经对单晶的电阻率及其径向分布进行检测对比后发... 分别采用L4375-ZE区熔炉和CFG/1400P区熔炉,生长了N型、(1.5~4.5)×103Ω.cm和P型、(1.0~5.0)×104Ω.cm两种规格的高阻区熔硅单晶,单晶的直径为52~54 mm,晶向为<111>。经对单晶的电阻率及其径向分布进行检测对比后发现,在加热线圈几何结构(包括上下表面角度、内径尺寸及台阶设计)基本相同、单晶生长速率相同且上、下晶轴旋转具有相同配置的情况下,不同的单晶生长系统所生长的单晶,其电阻率径向均匀性有明显差异,用L4575-ZE区熔炉生长的单晶的电阻率径向分布更均匀。 展开更多
关键词 区熔炉 高阻 硅单晶 电阻率径向分布
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硅中微量硼元素的区熔掺杂
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作者 闫萍 庞炳远 索开南 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期60-63,共4页
以高纯B2O2的水溶液为掺杂剂,采用将掺杂剂逐点滴涂在硅棒表面后再进行区熔的方式,实现了硅材料的微量硼掺杂,研制出了导电类型为P型、电阻率为3000~5000Ω·cm的区熔用硅多晶。实验表明,区熔掺杂完成后附加的一次真空区熔过... 以高纯B2O2的水溶液为掺杂剂,采用将掺杂剂逐点滴涂在硅棒表面后再进行区熔的方式,实现了硅材料的微量硼掺杂,研制出了导电类型为P型、电阻率为3000~5000Ω·cm的区熔用硅多晶。实验表明,区熔掺杂完成后附加的一次真空区熔过程,使杂质在多晶硅中的分布变得更加均匀。在确定的工艺条件下,由于掺杂前及掺杂后多晶硅轴向电阻率的一致性、实验用多晶硅样本的大小、所需掺杂剂剂量的多少等因素均会影响掺杂的准确性,因此需要在相同条件下进行多次实验,通过积累大量的实验数据以实现准确掺杂。 展开更多
关键词 区熔(fz) 掺硼 高电阻率 高纯度
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旋转工艺对高阻区熔硅单晶研制的影响
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作者 庞炳远 闫萍 刘洪 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第9期630-633,共4页
采用区熔工艺对多次真空提纯后的多晶硅进行了n型高阻硅单晶生长。真空提纯时,通过对工艺参数的精确控制,稳步提升了晶体的纯度和电阻率。单晶生长时,对比分析了常规旋转工艺和正反转旋转工艺两种生长方式对单晶径向电阻率分布的影响,... 采用区熔工艺对多次真空提纯后的多晶硅进行了n型高阻硅单晶生长。真空提纯时,通过对工艺参数的精确控制,稳步提升了晶体的纯度和电阻率。单晶生长时,对比分析了常规旋转工艺和正反转旋转工艺两种生长方式对单晶径向电阻率分布的影响,并通过计算得到了杂质在单晶径向上的分布规律。分析认为正反转旋转工艺可以精确地控制杂质在单晶径向上的分布情况,进而确保了单晶径向上的磷杂质含量略大于硼杂质含量。最终,通过采用正反转旋转工艺,成功研制了电阻率为8 000Ω·cm以上的n型高均匀性区熔硅单晶。 展开更多
关键词 旋转工艺 区熔(fz) 硅单晶 高阻 高均匀性
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区熔单晶硅光晶体管瞬态特性的实验研究
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作者 梁琨 张海君 +4 位作者 周地宝 杨茹 韩德俊 张录 宁宝俊 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期376-381,共6页
现有光晶体管具有噪声较低、增益较高(光信号强度适中时)等优点;但它同时也存在线性较差、光信号较弱时增益较低等缺点,限制了它的实际应用。本文报道了一种基于高纯区熔单晶硅和发射结-集电结接近穿通状态的具有高灵敏度、高线性度光... 现有光晶体管具有噪声较低、增益较高(光信号强度适中时)等优点;但它同时也存在线性较差、光信号较弱时增益较低等缺点,限制了它的实际应用。本文报道了一种基于高纯区熔单晶硅和发射结-集电结接近穿通状态的具有高灵敏度、高线性度光晶体管的瞬态特性研究结果,采用负载电阻法和互阻放大器法分别测量响应时间对偏置电压和入射光功率的依赖关系。测量结果显示,器件的上升及下降时间明显依赖于入射光功率的变化,对偏置电压的依赖性较弱;416nW和1128nW入射光功率下大尺寸器件的响应时间分别在170μs和10μs量级,在416nW入射光功率下小尺寸器件的上升时间约为30μs,与理论计算结果具有较好的符合。 展开更多
关键词 瞬态特性 光晶体管 区熔硅 互阻放大器
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区熔单晶硅生产操作指导专家系统
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作者 郑德玲 李燕杰 李育苗 《控制与决策》 EI CSCD 北大核心 1994年第1期64-69,共6页
本文介绍区熔单晶硅生产操作指导专家系统。首先,系统实现了连续图象的自动变周期、定瞬间采样,并提出一种新的区域扩张增量图象处理算法.其次,叙述了知识的获取过程及类规则,提出分布的多库结构,并实现了不确定性推理.最后,开... 本文介绍区熔单晶硅生产操作指导专家系统。首先,系统实现了连续图象的自动变周期、定瞬间采样,并提出一种新的区域扩张增量图象处理算法.其次,叙述了知识的获取过程及类规则,提出分布的多库结构,并实现了不确定性推理.最后,开发了区熔单晶硅生产操作指导专家系统,实现了从数据和图象采集、处理、事实获取、推理到给出操作指导一体化。 展开更多
关键词 单晶硅 专家系统 图象处理
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区熔高阻硅单晶电阻率均匀性控制技术研究 被引量:1
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作者 庞炳远 闫萍 《电子工业专用设备》 2017年第6期6-9,33,共5页
区熔工艺中各项参数的设置会直接影响高阻单晶的电阻率均匀性。在高阻区熔硅单晶生长时,通过采用下轴正、反向交替旋转的模式,可使直径75 mm的高阻单晶的径向电阻率变化可控制在15%以下,而这一参数在下轴单向旋转时则为30%~40%或更高。... 区熔工艺中各项参数的设置会直接影响高阻单晶的电阻率均匀性。在高阻区熔硅单晶生长时,通过采用下轴正、反向交替旋转的模式,可使直径75 mm的高阻单晶的径向电阻率变化可控制在15%以下,而这一参数在下轴单向旋转时则为30%~40%或更高。从单晶断面及轴向电阻率分布情况可以看出,区熔硅单晶的径向电阻率分布主要由晶体生长界面的形状以及晶体旋转、电磁力及重力等因素决定,并在生长界面边缘形成高电阻率区,杂质分凝对径向电阻率分布的影响较小,只体现在轴向电阻率的变化上。 展开更多
关键词 区熔 硅单晶 生长工艺 电阻率均匀性
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直拉区熔联合法硅单晶生长技术研究
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作者 庞炳远 闫萍 +2 位作者 索开南 董军恒 刘洪 《电子工业专用设备》 2014年第8期11-14,共4页
通过直拉工艺生长直径60 mm的N型〈100〉单晶,之后以该单晶作为原料,采用区熔工艺生长成50mm(2英寸)N型〈111〉单晶,单晶的电阻率为2.71~5.35Ω·cm,少子寿命为500~750 μs,氧碳含量均低于1×16 cm-3.实验表明,通过直拉工... 通过直拉工艺生长直径60 mm的N型〈100〉单晶,之后以该单晶作为原料,采用区熔工艺生长成50mm(2英寸)N型〈111〉单晶,单晶的电阻率为2.71~5.35Ω·cm,少子寿命为500~750 μs,氧碳含量均低于1×16 cm-3.实验表明,通过直拉工艺和区熔工艺联合方式研制的低阻硅单晶具有电阻率控制准确、氧碳含量低、工艺易于实施等特点.同时,对直拉区熔联合法生长单晶的技术特点进行了探讨. 展开更多
关键词 直拉 区熔 硅单晶 电阻率
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线圈台阶数量对悬浮区熔炉内电磁场和热场的影响 被引量:2
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作者 郑万超 李聪 +2 位作者 冯旭 张伟才 王东兴 《半导体技术》 CAS 北大核心 2022年第6期468-474,共7页
为了提高悬浮区熔(FZ)法的成晶率和增加FZ法生长硅单晶的直径,使用模拟计算软件对FZ硅单晶生长过程进行了深入研究。通过Comsol Multiphysics软件模拟了FZ炉内的电磁场和热场,分析了加热线圈台阶数量对电磁场和热场的影响。随着加热线... 为了提高悬浮区熔(FZ)法的成晶率和增加FZ法生长硅单晶的直径,使用模拟计算软件对FZ硅单晶生长过程进行了深入研究。通过Comsol Multiphysics软件模拟了FZ炉内的电磁场和热场,分析了加热线圈台阶数量对电磁场和热场的影响。随着加热线圈台阶数量的增加,台阶处磁场强度降低,熔化的多晶硅表面远离中心位置附近的电磁能量和面电流密度增加,在主狭缝前缝尖端和后缝末端正下方的自由熔化表面的电磁能量、面电流密度和温度降低。因此,加热线圈台阶数量的增加可以使多晶硅表面熔化更加均匀并有效抑制液态硅从主狭缝下方边缘处溢出,提高FZ硅单晶生长的稳定性。 展开更多
关键词 悬浮区熔(fz)硅 加热线圈 电磁场 热场 Comsol Multiphysics
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高频加热线圈台阶对区熔炉磁场的影响 被引量:2
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作者 曹建伟 傅林坚 +6 位作者 沈文杰 朱亮 张俊 石刚 欧阳鹏根 叶欣 邱敏秀 《机电工程》 CAS 2013年第11期1397-1400,共4页
区熔法是生长单晶硅的重要方法之一,针对区熔法生长单晶硅过程因多晶硅熔化表面热量不均匀而出现"冷针"的问题,利用有限元法对生长区熔硅单晶进行了数值模拟。区熔法生长单晶硅采用高频感应加热,高频加热线圈是区熔炉最为关... 区熔法是生长单晶硅的重要方法之一,针对区熔法生长单晶硅过程因多晶硅熔化表面热量不均匀而出现"冷针"的问题,利用有限元法对生长区熔硅单晶进行了数值模拟。区熔法生长单晶硅采用高频感应加热,高频加热线圈是区熔炉最为关键的部件之一,线圈的结构、尺寸直接影响到磁场及焦耳热的分布及熔区形状。基于此,建立了有台阶线圈和无台阶线圈下的两种模型,对比了两种模型下熔区附近磁场分布和焦耳热分布,着重分析了高频加热线圈的台阶对磁场及焦耳热分布的影响。研究结果表明,高频加热线圈的结构会直接影响到熔区附近磁场的分布,进而影响熔区生成的焦耳热分布,线圈台阶可使磁场在熔区附近分布得更均匀,从而有效地解决了"冷针"问题。 展开更多
关键词 区熔法 线圈台阶 数值模拟
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稀土金属真空提纯炉的研制
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作者 赵秦延 杨润 《电子工业专用设备》 2005年第1期68-70,共3页
介绍了一种用于稀土金属提纯的单晶炉,根据区熔法提纯单晶的特殊工艺要求,分析了其主要结构及特点。该设备也适用于多种激光晶体的生长和激光晶体的真空退火。
关键词 单晶炉 提纯 稀土 区熔法
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区熔硅单晶生长过程建模综述
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作者 云娜 庞炳远 《电子工业专用设备》 2018年第3期7-9,31,共4页
针对区熔法高阻硅单晶的生长过程描述和基本特征,以晶体生长基本原理为基础,从生长机理与模型建立热传导模型(晶体内的热量传输模型和固液界面处的热量传输模型)、热对流模型(晶体表面与氩气之间的对流传热模型和熔体内的对流传热模型)... 针对区熔法高阻硅单晶的生长过程描述和基本特征,以晶体生长基本原理为基础,从生长机理与模型建立热传导模型(晶体内的热量传输模型和固液界面处的热量传输模型)、热对流模型(晶体表面与氩气之间的对流传热模型和熔体内的对流传热模型)热辐射模型等方面进行了阐述,并针对高品质区熔硅单晶生长提出了相应的研究思路和方法。 展开更多
关键词 区熔法 硅单晶 过程建模
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