2219铝合金电子束焊接匙孔演变过程的数值模拟

文中主要借助Fluent软件,基于有限体积离散方法建立了2219铝合金电子束点焊熔池传热、流动和匙孔演变的二维耦合数学模型.在模型中,考虑了表面张力、Marangoni剪切力、流体静压力、金属蒸气反冲压力的作用,并采用VOF(volume of fluid)方法跟踪了匙孔的形成与演变过程.结果表明,反冲压力钻取和涡旋输运的综合作用是匙孔加深的根本原因;沿深度方向热源功率密度的降低会导致前者钻取速度的减小.铝合金的点焊工艺试验表明,数值计算结果与实际吻合较好.

电子束流焦点和测量方法进展及分类

回顾了焦点定义和测量方法 ,首次明确将电子束流焦点状态与焊接过程建立直接联系 ,揭示了具有焊接特征焦点与测量方法的内在关系 ,并根据束流与金属是否产生作用和作用的程度 ,将焦点分类成静态焦点、准动态焦点和动态焦点。指出静态焦点是轨迹形状焦点 ,AB法实质就是斜面 -熔宽极值焦点测量法 ,认识了焦点测量方法本身定义的焦点与静态焦点的本质区别 ,使得在电子束焊接工程中焦点概念应用更清晰 ,焦点参数使用更方便 ,并且为进一步开发新的焦点测量方法提供了理论指导。

高辐射通量空间相干X射线管(英文)

针对光栅X射线相位衬度成像技术中如何获取高辐射通量和高空间相干的台式X射线源的问题,研制一种桌面X射线源.与传统X射线源不同,其阳极采用平行深沟道阵列的结构靶,灯丝发出的电子经加速聚焦后作用于结构靶,产生高辐射通量的一维相干X射线,其焦斑呈平行线阵列结构分布.将这种X射线管用于基于光栅的X射线相衬成像系统的光源,利用5步相移法得到了新鲜鸡翅的X射线相衬图像照片.

X射线管焦点控制研究

X射线管的焦点是通过静电场对电子束的会聚作用而形成的。焦点的尺寸大小及聚焦质量直接影响X射线机透视、摄影图像的清晰度;同时,焦点的尺寸大小与X射线管的功率有着密切的关系。本文通过一系列的实验,重点讨论如何设计X射线管的聚集系统来实现用户需要的焦点尺寸。

EBIC测定GaP的少子扩散长度和表面复合速度

应用扫描电子显微镜 (SEM )对GaP半导体材料的 p n结进行线扫描 ,得到电子束感生电流 (EBIC)的线扫描曲线 .给出一简单模型 ,对GaP样品n区的EBIC线形进行计算 ,拟合实验曲线 。

高能电子束活性区空间能量密度测量系统

在分析电子束流高能特点基础上研究束流信号检测和测量方法,提出小角度电子束磁控偏转扫描采集方案,在高温难熔钨板上设计直径25μm的小孔传感器,建立信号检测装置和控制流程,共享60 MHz时钟保证扫描与采集同步,将透过小孔的电子强度转换成电压信号,经高频A/D采样和量化后高速传输到内存,对电子束单层截面信号可视化重构后依能量等级进行划分和能量密度分布计算,通过不同高度的多层数据重构活性区体模型,分割空间能量等值面形成序列能量曲面,标定能量峰值90%的空间区域为活性区焦斑.文中的软硬件系统能够有效应用于电子束品质评价.

聚焦电子束对透射式微焦点X射线源的影响

微焦点X射线源是微计算机断层扫描技术设备的核心部件。研究了电子束在靶材中的横向扩散引起的透射式微焦点射线源的焦点尺寸和强度的变化规律。结果表明:当打靶电子束的束流密度遵循高斯分布时,其产生的X射线强度也遵循高斯分布,该分布的标准差可以用来精确表示X射线的焦点尺寸;当靶材厚度可以使沉积电子束的能量达到60%时,对应的靶材产生的X射线强度最高;随着靶材厚度增加,X射线的焦点尺寸逐渐变大;增大电子束的加速电压可以适当减小X射线的焦点。本研究为透射式微焦斑X射线源的靶材选择和设计提供了理论依据。

静电聚焦同心球系统的成像电子光学D章:最小弥散圆与最佳像面位置的确定

由所导出的阴极透镜中普遍成立的二级近轴横向色差即著名的Recknagel-Apцимович表示式出发,研究电子束形成的最小弥散圆以及最佳成像面的位置的确定,考察由物面原点发射的电子束在栅状阳极上形成的散射圆以及整个阴极面发射所形成的交叉颈,描绘由物面原点逸出的电子射束在成像段所形成的电子射线的包络。该研究有助于读者理解电子光学像管中电子行进的轨迹以及成像段的电子轨迹的发散与会聚。

原位观察电子束辐照下双壁碳纳米管的不稳定性

室温下利用高分辨透射电子显微镜原位观察了两端固定和一端固定、另一端自由的双壁碳纳米管在电子束辐照下的结构不稳定性.实验发现,在相同辐照条件下,两端固定的双壁碳纳米管首先径向持续均匀收缩,然后局部颈缩,最后在颈缩处断裂;一端固定、另一端自由的双壁碳纳米管轴向长度持续快速缩小,而径向收缩相对缓慢.我们利用最近提出的表面纳米曲率效应和能量束诱导非热激活效应基础上新发展的碳原子"融蒸"和"扩散"机制,对上述电子束辐照下双壁碳纳米管结构不稳定现象进行了全新、合理的解释.