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基于GaAs IPD的小型化高选择性X波段宽带带通滤波器 被引量:2
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作者 赵辉 刘海文 +2 位作者 冯林平 高一强 孙晓玮 《微波学报》 CSCD 北大核心 2023年第2期28-32,38,共6页
文中设计并实际开发了一种基于砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)集成无源器件(Integrated Passive Device,IPD)技术的小型化高选择性宽带带通滤波器。首先,所提出的带通滤波器是通过引入集总参数谐振器来设计的,以实现高选择性和宽带性能... 文中设计并实际开发了一种基于砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)集成无源器件(Integrated Passive Device,IPD)技术的小型化高选择性宽带带通滤波器。首先,所提出的带通滤波器是通过引入集总参数谐振器来设计的,以实现高选择性和宽带性能。其次,进一步研究了实现高选择性和宽带性能的工作原理。最后,为了证明所述性能,基于GaAs-IPD技术设计、制造和测量了一个紧凑型高选择性宽带带通滤波器。该滤波器工作频率覆盖了整个X波段(6~13 GHz),相对带宽为74.0%,带外实现了四个传输零点,从而实现了高选择性和良好的带外性能,芯片尺寸为0.05λ_(0)×0.03λ_(0)。比较了实测结果与电磁仿真结果,验证了该设计的可行性。 展开更多
关键词 带通滤波器 砷化镓 集成无源器件 小型化 高选择性 宽带
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金薄膜辅助玻璃与砷化镓阳极键合
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作者 张蕾 阴旭 +3 位作者 刘翠荣 刘淑文 王强 许兆麒 《微纳电子技术》 CAS 2024年第1期153-159,共7页
采用磁控溅射技术在砷化镓(GaAs)表面沉积一层厚度为1μm的金薄膜,将其作为中间层成功实现了Borofloat(BF33)玻璃与GaAs的连接。阳极键合实验结果表明键合电流在短时间内达到峰值,之后迅速降低并且稳定在一个很小的数值范围内,且键合电... 采用磁控溅射技术在砷化镓(GaAs)表面沉积一层厚度为1μm的金薄膜,将其作为中间层成功实现了Borofloat(BF33)玻璃与GaAs的连接。阳极键合实验结果表明键合电流在短时间内达到峰值,之后迅速降低并且稳定在一个很小的数值范围内,且键合电流峰值随着键合温度与键合电压的升高而增大。通过扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)对玻璃-GaAs键合界面进行微观形貌观察。结果表明键合界面良好,在400℃、700 V的条件下,玻璃-GaAs键合强度可达到1.53 J/m^(2),且键合强度随着键合温度与键合电压的升高而增大。 展开更多
关键词 阳极键合 BF33玻璃 砷化镓(gaas) 金薄膜 键合界面
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新结构InGaP/GaAs/InGaP DHBT生长及特性研究 被引量:1
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作者 艾立鹍 徐安怀 +2 位作者 孙浩 朱福英 齐鸣 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期23-26,68,共5页
设计并生长了一种新的InGaP/GaAs/InGaP DHBT结构材料,采用在基区和集电区之间插入n+-InGaP插入层结构,以解决InGaP/GaAs/InGaP DHBT集电结导带尖峰的电子阻挡效应问题。采用气态源分子束外延(GSMBE)技术,通过优化生长条件,获得了高质... 设计并生长了一种新的InGaP/GaAs/InGaP DHBT结构材料,采用在基区和集电区之间插入n+-InGaP插入层结构,以解决InGaP/GaAs/InGaP DHBT集电结导带尖峰的电子阻挡效应问题。采用气态源分子束外延(GSMBE)技术,通过优化生长条件,获得了高质量外延材料,成功地生长出带有n+-InGaP插入层结构的GaAs基InGaP/GaAs/InGaP DHBT结构材料。采用常规的湿法腐蚀工艺,研制出发射极面积为100μm×100μm的新型结构InGaP/GaAs/InGaP DHBT器件。直流特性测试的结果表明,所设计的集电结带有n+-InGaP插入层的InGaP/GaAs/InGaP DHBT器件开启电压约为0.15V,反向击穿电压达到16V,与传统的单异质结InGaP/GaAs HBT相比,反向击穿电压提高了一倍,能够满足低损耗、较高功率器件与电路制作的要求。 展开更多
关键词 双异质结双极晶体管 气态源分子束外延 砷化镓
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外电场作用下红外光折变GaAs的双光束耦合增强效应
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作者 王威礼 王德煌 +1 位作者 让庆澜 张合义 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1991年第4期305-311,共7页
报道了立方晶体GaAs:Cr在外电场作用下的红外光折交增强效应,着重分析双光束耦合过程中空间电荷电场幅度和位相的空间分布变化情况。计算结果很好地解释了实验测量结果。
关键词 红外 光折变效应 砷化镓 光学耦合
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GaAs(001)_β2(2×4)表面RHEED图谱的虚拟设计
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作者 崔英善 张正平 《计算机工程与应用》 CSCD 北大核心 2009年第6期82-84,88,共4页
为了保证有关国内一流大型仪器设备的实验教学质量,同时还能节省高校的实验耗费,在LabVIEW8.2开发环境下,通过对反射式高能电子衍射仪(RHEED)原理、样品砷化镓GaAs(001)_β2(2×4)表面原子结构及相关固体物理学知识的深入探究,运用... 为了保证有关国内一流大型仪器设备的实验教学质量,同时还能节省高校的实验耗费,在LabVIEW8.2开发环境下,通过对反射式高能电子衍射仪(RHEED)原理、样品砷化镓GaAs(001)_β2(2×4)表面原子结构及相关固体物理学知识的深入探究,运用图形化编程语言,采用数据流编程方式,设计实现了理论情况下的GaAs(001)_β2(2×4)表面原子结构RHEED图谱。该阶段性成果使得虚拟RHEED实验系统的研究开发有了突破性进展。 展开更多
关键词 虚拟仪器 虚拟仪器开发平台(LabVIEW) 砷化镓(gaas) 反射式高能电子衍射仪(RHEED)图谱
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一种低噪声GaAs HBT VCO的设计与实现 被引量:4
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作者 武岳 吕红亮 +1 位作者 张玉明 张义门 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第3期30-34,共5页
为了降低双极型工艺中二极管对相位噪声的影响,实现了一种工作在K波段的全集成差分压控振荡器.该振荡器基于砷化镓异质结双极晶体管工艺来实现,电路采用改进的π形反馈网络来提高振荡回路的品质因数,降低了压控振荡器的相位噪声,并补偿... 为了降低双极型工艺中二极管对相位噪声的影响,实现了一种工作在K波段的全集成差分压控振荡器.该振荡器基于砷化镓异质结双极晶体管工艺来实现,电路采用改进的π形反馈网络来提高振荡回路的品质因数,降低了压控振荡器的相位噪声,并补偿了电路本身存在的180°相位偏移.芯片的频率变化范围为23.123GHz到23.851GHz,最大输出功率为-1.68dBm;整个电路由-6V的电源供电,直流功耗为72mW,控制电压为-3V时相位噪声为-103.12dBc/Hz@1MHz,芯片面积为0.49mm^2.文中采用的电路结构能够降低双极型工艺中二极管对压控振荡器相位噪声的影响,在不牺牲压控振荡器调谐宽度的情况下可实现低的相位噪声. 展开更多
关键词 K波段 相位噪声 改进的n形反馈网络 砷化镓异质结双极晶体管 压控振荡器
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一种GaAs IPD的宽阻带低通滤波器设计 被引量:3
7
作者 易康 邢孟江 +2 位作者 侯明 李小珍 代传相 《微波学报》 CSCD 北大核心 2020年第6期57-60,共4页
针对传统低通滤波器尺寸小、阻带范围小的问题,在砷化镓(GaAs)衬底上采用集成无源器件(IPD)工艺设计了一款宽阻带低通滤波器。在切比雪夫型低通滤波器电路上引入两传输零点以提高滚降度,在HFSS中对该电路结构进行建模与仿真,并进行实物... 针对传统低通滤波器尺寸小、阻带范围小的问题,在砷化镓(GaAs)衬底上采用集成无源器件(IPD)工艺设计了一款宽阻带低通滤波器。在切比雪夫型低通滤波器电路上引入两传输零点以提高滚降度,在HFSS中对该电路结构进行建模与仿真,并进行实物加工与测试。测试结果表明:所设计的滤波器截止频率为11.1 GHz,在15~30 GHz范围内的阻带衰减量大于30 dB,整体尺寸仅为800μm×650μm×111.96μm。 展开更多
关键词 砷化镓 宽阻带 传输零点 低通滤波器 集成无源器件
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GaAs基大功率半导体激光器的研究进展 被引量:1
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作者 张旭 董海亮 +3 位作者 贾志刚 张爱琴 梁建 许并社 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第12期9-15,共7页
经半个多世纪的发展,半导体激光器的理论和实践都取得巨大成果。近年来,GaAs基大功率半导体激光器凭其优势,在众多领域得到广泛应用。但是GaAs基大功率半导体激光器仍面临着功率不足、发热量大及光束质量差的问题。光电性能差是限制其... 经半个多世纪的发展,半导体激光器的理论和实践都取得巨大成果。近年来,GaAs基大功率半导体激光器凭其优势,在众多领域得到广泛应用。但是GaAs基大功率半导体激光器仍面临着功率不足、发热量大及光束质量差的问题。光电性能差是限制其应用的关键问题,如何进一步提高激光器的光电性能是半导体激光器面临的挑战。输出功率、电光转换效率、光束质量、寿命和可靠性是衡量半导体激光器性能最重要的参数。电光转换效率直接影响器件的输出功率,转换效率低产生的热量更多,导致器件工作温度升高,使得器件的稳定性变差,严重影响器件的寿命和可靠性。近年来,随着GaAs基大功率半导体激光器外延生长技术的提高、器件结构设计的理论水平提高以及封装技术的提升,激光器的输出功率和电光转换效率均得到了大幅提高。从2007年到2017年,边发射激光器的单管输出功率已由14.7 W提高至33 W,而光抽运面发射器件在2018年单管输出功率高达72 W。2020年单管器件的电光转换效率已高达74.6%。随着高效冷却技术的发展,半导体激光器的寿命已达百万小时以上。本文主要介绍了GaAs基半导体激光器近年来的发展状况,综述了外延结构、输出功率、电光转换效率、光束质量、寿命和可靠性等方面的发展现状,探讨了影响输出功率的各种因素及目前的解决方法,展望了半导体激光器未来的发展趋势。 展开更多
关键词 大功率半导体激光器 砷化镓(gaas) 输出功率 电光转换效率 光束质量 寿命与可靠性
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与GaAs基VCSEL同材料体系高对比度亚波长光栅的设计 被引量:3
9
作者 王凤玲 陈磊 +5 位作者 张秋波 徐莉 李辉 王海珠 郝永芹 马晓辉 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第1期19-24,共6页
设计了一种用于850 nm GaAs基VCSEL的高折射率对比度亚波长光栅(HCG),整体结构采用GaAs材料体系,包含光栅层及为缓解其应力问题而设计的应力缓冲层和以AlGaAs或AlAs氧化后形成的AlOx低折射率亚层。通过Rsoft软件对HCG的反射特性进行仿... 设计了一种用于850 nm GaAs基VCSEL的高折射率对比度亚波长光栅(HCG),整体结构采用GaAs材料体系,包含光栅层及为缓解其应力问题而设计的应力缓冲层和以AlGaAs或AlAs氧化后形成的AlOx低折射率亚层。通过Rsoft软件对HCG的反射特性进行仿真研究,分析了不同光栅参数对反射谱的作用规律,重点探究了应力缓冲层和低折射率亚层对光栅特性的影响。设计了中心波长850 nm的TM模HCG,反射率大于99. 9%的带宽可达91 nm,与中心波长之比达到10. 7%,同时TE模的反射率不超过90%,显示出了良好的偏振选择性。该结构可以替代VCSEL中的P型分布式布拉格反射镜,提供高反射率、宽带宽,并改善由不同材料体系所导致的应力问题,提高器件稳定性。 展开更多
关键词 垂直腔面发射激光器 高折射率对比度光栅 分布式布拉格反射镜 砷化镓
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GaAs压电物性的研究 被引量:1
10
作者 黄庆安 吕世骥 童勤义 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1991年第2期16-21,共6页
较详细地讨论了GaAs压电效应的起源。有3种不同的机制对压电效应有贡献.这些机制是离子电荷的内部位移、电子电荷的内部位移和由于应变引起的离子性的变化.推导出了任意晶体取向压电常数张量的表达式,证明了,对正应力而言,GaAs〈111〉... 较详细地讨论了GaAs压电效应的起源。有3种不同的机制对压电效应有贡献.这些机制是离子电荷的内部位移、电子电荷的内部位移和由于应变引起的离子性的变化.推导出了任意晶体取向压电常数张量的表达式,证明了,对正应力而言,GaAs〈111〉方向有最强压电效应发生,且Ga原子呈负电性,而As原子则呈正电性. 展开更多
关键词 gaas 压电效应 化合物半导体
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A STUDY OF THE PIEZOELECTRIC PROPERTIES OF GaAs
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作者 黄庆安 吕世骥 童勤义 《Journal of Southeast University(English Edition)》 EI CAS 1991年第2期25-29,共5页
The origin of the piezoelectric effect of GaAs is discussed in some detail.TheGa atoms are negatively charged and As atoms positively charged.The piezoelectric con-stant tensors for arbitrarily oriented GaAs have been... The origin of the piezoelectric effect of GaAs is discussed in some detail.TheGa atoms are negatively charged and As atoms positively charged.The piezoelectric con-stant tensors for arbitrarily oriented GaAs have been obtained.It is verified that for nor-mal stress when the GaAs samples are oriented in the 〈111〉 direction the maximumpiezoelectric effect occurs.As far as the piezoelectric properties and fabrication technologyare concerned,〈100〉 oriented GaAs substratcs are fit for the force sensors. 展开更多
关键词 PIEZOELECTRIC effect gallium arsenide sensor/integrated gaas dcvice
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优化半绝缘GaAs双抛片精抛工艺的可行性探究
12
作者 张雁敏 《天津科技》 2020年第2期28-30,38,共4页
半绝缘砷化镓(SI-GaAs)的抛光片作为微波大功率器件、低噪声器件等的重要衬底材料而被广泛应用。为提高产品的表面质量、良品率以及产量,同时释放部分生产力,降低生产成本,探究通过改良半绝缘砷化镓(SIGaAs)双抛片的精抛工艺,将现有的... 半绝缘砷化镓(SI-GaAs)的抛光片作为微波大功率器件、低噪声器件等的重要衬底材料而被广泛应用。为提高产品的表面质量、良品率以及产量,同时释放部分生产力,降低生产成本,探究通过改良半绝缘砷化镓(SIGaAs)双抛片的精抛工艺,将现有的先后由单面抛光机、双面抛光机两步精抛法优化为只用双面抛光机一步精抛法的可行性。 展开更多
关键词 砷化镓 半绝缘砷化镓 化学机械抛光 TTV 精抛
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激光辅助水射流加工砷化镓晶片微槽的实验研究 被引量:1
13
作者 段凌云 黄传真 +2 位作者 刘盾 姚鹏 刘含莲 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期1172-1183,共12页
对干激光、低压水射流辅助激光和激光辅助水射流技术加工砷化镓晶片微槽进行了对比实验,结果表明,激光辅助水射流技术适合加工砷化镓材料,它能够加工出晶片表面无污染、大深度、小热影响区宽度、大深宽比的高质量微槽,加工表面微观形貌... 对干激光、低压水射流辅助激光和激光辅助水射流技术加工砷化镓晶片微槽进行了对比实验,结果表明,激光辅助水射流技术适合加工砷化镓材料,它能够加工出晶片表面无污染、大深度、小热影响区宽度、大深宽比的高质量微槽,加工表面微观形貌均匀、微裂纹少,优于其他两种加工方式。实验研究了激光辅助水射流加工砷化镓晶片微槽的切割性能,结果表明,加工参数(激光脉冲能量、水射流压力、加工速度、水射流倾斜角度、焦平面位置和加工次数)对微槽深度、微槽宽度和材料去除率具有显著影响。微槽深度、微槽宽度和材料去除率随着激光脉冲能量的增大而增大,随着水射流压力的增大而减小,材料去除率随着加工速度的增大而显著增大。 展开更多
关键词 激光辅助水射流 微槽 砷化镓晶片 工艺参数
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高截止频率肖特基二极管仿真模型研究
14
作者 余蒋平 李少甫 唐颖颖 《电波科学学报》 CSCD 北大核心 2023年第6期1040-1047,共8页
基于表面沟道型平面肖特基势垒二极管基本结构,采用GaAs 0.15μm伪高电子迁移率晶体管(pseudomorphic high electron mobility transistors,pHEMT)工艺制程,提出了一种垂直沟道长跨度空气桥的肖特基二极管模型.研究了不同阳极直径对肖... 基于表面沟道型平面肖特基势垒二极管基本结构,采用GaAs 0.15μm伪高电子迁移率晶体管(pseudomorphic high electron mobility transistors,pHEMT)工艺制程,提出了一种垂直沟道长跨度空气桥的肖特基二极管模型.研究了不同阳极直径对肖特基二极管级联电阻的影响,对比分析了不同焊盘间距下肖特基二极管模型的S参数仿真结果,得到最优空气桥长度;仿真了最优焊盘间距下二极管肖特基结的TCAD模型,根据仿真得到的特性曲线提取肖特基二极管的SPICE参数.经实验测试,该二极管具有极低的零偏置结电容,截止频率高达9 THz,仿真结果与实测结果吻合度较高,可用于太赫兹频段上. 展开更多
关键词 太赫兹 肖特基二极管 gaas 垂直沟道 截止频率
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低功耗宽带低噪声放大器的设计 被引量:3
15
作者 张斌 汪柏康 +2 位作者 张沁枫 孙文俊 秦战明 《电声技术》 2023年第1期117-120,共4页
分析低噪声放大器的设计原理,采用两级电流复用负反馈结构,基于砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)工艺,利用先进设计系统(Advanced Design System,ADS)软件仿真设计了一款低功耗宽带低噪声放大器芯片,该芯片尺寸仅为1.5 mm×0.9 mm... 分析低噪声放大器的设计原理,采用两级电流复用负反馈结构,基于砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)工艺,利用先进设计系统(Advanced Design System,ADS)软件仿真设计了一款低功耗宽带低噪声放大器芯片,该芯片尺寸仅为1.5 mm×0.9 mm×0.1 mm。通过对芯片性能进行测试,在频带6~12 GHz内,其增益约为23 dB,噪声系数≤1.1 dB,端口回波损耗≥12 dB,输出功率1 dB压缩点P^(-1)≥10 dBm,+5 V电源端口工作电流为17 mA。 展开更多
关键词 低噪声放大器 宽带 砷化镓(gaas) 先进设计系统(ADS) 低功耗
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宽带混频器的优化设计
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作者 吴会丛 于洁 +1 位作者 吴楠 李斌 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第5期330-334,共5页
采用0.25μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺设计并实现了一款单片宽带混频器。该混频器采用双平衡混频器结构,以串联的两个漏源相连的PHEMT作为环形二极管电桥中的二极管以提升混频器线性度。本振巴伦和射频巴伦均采用螺旋线式... 采用0.25μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺设计并实现了一款单片宽带混频器。该混频器采用双平衡混频器结构,以串联的两个漏源相连的PHEMT作为环形二极管电桥中的二极管以提升混频器线性度。本振巴伦和射频巴伦均采用螺旋线式Marchand巴伦,为降低巴伦的幅度及相位不平衡度,采用遗传算法对巴伦的几何参数进行了优化设计。该混频器电路采用0.25μm GaAs PHEMT工艺实现,芯片面积为1.5 mm×1.1 mm。测试结果表明,当本振功率为20 dBm时,变频损耗小于7 dB,输入三阶交调点IIP_3大于22 dBm。本振端口到射频端口和中频端口的隔离度均大于30 dB。 展开更多
关键词 砷化镓(gaas) 混频器 高线性度 遗传算法 巴伦
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虚拟反射式高能电子衍射实验系统的设计
17
作者 崔英善 张正平 《计算机工程与设计》 CSCD 北大核心 2009年第14期3475-3477,共3页
选择LabVIEW8.2软件作为系统开发平台,设计实现了一个虚拟RHEED实验系统。概括了RHEED工作原理和样品砷化镓(GaAs(001)_(2×4))表面的不同结构模型,重点介绍了虚拟RHEED实验系统的设计思想及成果。该系统面向国内一流的大型实验仪... 选择LabVIEW8.2软件作为系统开发平台,设计实现了一个虚拟RHEED实验系统。概括了RHEED工作原理和样品砷化镓(GaAs(001)_(2×4))表面的不同结构模型,重点介绍了虚拟RHEED实验系统的设计思想及成果。该系统面向国内一流的大型实验仪器设备进行开发,具有一定科研创新价值,同时它在保证实验教学质量的前提下还大大节省了高校的实验耗费。 展开更多
关键词 RHEED 砷化镓 表面结构模型 LABVIEW 虚拟实验系统
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VGF结晶法中砷化镓表面平衡温度的计算
18
作者 魏东 马一太 +1 位作者 李贵全 王占龙 《上海理工大学学报》 CAS 北大核心 2001年第3期279-282,共4页
根据VGF结晶技术的特点,建立了结晶炉内的辐射换热模型,并利用有限差分法对变温条件下砷化镓晶体表面的辐射换热进行了数值求解. 模拟结果得出了晶体表面平衡温度的变化规律,与设定值比较具有良好的一致性. 所得结果确定了晶体生长过程... 根据VGF结晶技术的特点,建立了结晶炉内的辐射换热模型,并利用有限差分法对变温条件下砷化镓晶体表面的辐射换热进行了数值求解. 模拟结果得出了晶体表面平衡温度的变化规律,与设定值比较具有良好的一致性. 所得结果确定了晶体生长过程数值模拟的热边界条件,并对实际的温度控制提供了重要的理论依据. 展开更多
关键词 VGF 砷化镓 平衡温度 辐射换热
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坩埚下降法生长红外砷化镓晶体的研究 被引量:2
19
作者 金敏 徐家跃 +3 位作者 范世骥 申慧 何庆波 谈慧祖 《应用技术学报》 2017年第1期10-13,88,共5页
利用坩埚下降法生长红外砷化镓晶体,坩埚下降炉控温1 260℃,晶体以2.5mm/h速度在温度梯度为10℃/cm的条件下结晶生长.PBN坩埚外壁黏附有气相自发成核、尺寸为1~3mm的砷化镓单晶颗粒.生长的砷化镓晶体直径约50.8mm,总长约140mm.晶体头部... 利用坩埚下降法生长红外砷化镓晶体,坩埚下降炉控温1 260℃,晶体以2.5mm/h速度在温度梯度为10℃/cm的条件下结晶生长.PBN坩埚外壁黏附有气相自发成核、尺寸为1~3mm的砷化镓单晶颗粒.生长的砷化镓晶体直径约50.8mm,总长约140mm.晶体头部放肩阶段存在异相成核,尾部出现多晶.截断后获得的砷化镓单晶长约100mm,成晶率达70%.砷化镓单晶结晶质量良好,头尾平均位错密度分别为868cm-2和1 436cm-2,电阻率达107Ω·cm量级.砷化镓单晶整体红外透过率约为55%,接近最高理论透过率55.8%.满足工业界使用要求. 展开更多
关键词 坩埚下降法 红外 砷化镓晶体 透过率
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基于遗传算法的宽带低噪声放大器设计
20
作者 吴会丛 李斌 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期411-415,共5页
设计并实现了一款宽带低噪声放大器,采用单级负反馈拓扑结构以提高增益平坦度和稳定性。为进一步简化应用,电路采用电阻自偏压技术实现单电源供电。此外,为优化增益及噪声系数,从低噪声放大器设计理论出发,利用遗传算法对无源元件取值... 设计并实现了一款宽带低噪声放大器,采用单级负反馈拓扑结构以提高增益平坦度和稳定性。为进一步简化应用,电路采用电阻自偏压技术实现单电源供电。此外,为优化增益及噪声系数,从低噪声放大器设计理论出发,利用遗传算法对无源元件取值进行了优化。该放大器采用0.25μm PHEMT GaAs工艺实现,芯片面积为1 mm×1.2 mm。测试结果表明,采用5 V单电源电压供电,总工作电流为30 m A,在30-3 000 MHz频率范围内,该放大器增益大于13 d B,噪声系数小于2.1 d B,输入反射系数小于-8.5 d B,输出反射系数小于-10 d B,1 d B压缩点输出功率大于7 d Bm。 展开更多
关键词 遗传算法 赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT) 宽带 砷化镓 低噪声放大器(LNA)
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