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纳米MOSFET的多栅结构和应变硅纳米线结构 被引量:1
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作者 李小明 韩伟华 +2 位作者 张严波 陈燕坤 杨富华 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第11期689-696,共8页
介绍了在进入22nm技术节点后MOSFET器件的两个发展方向,即多栅结构和应变硅纳米线结构。首先通过分析特征长度与有效栅极数量的关系,表明多栅结构器件可以有效增强栅极对沟道的控制,抑制短沟道效应,接近理想的亚阈值斜率;然后分析了应... 介绍了在进入22nm技术节点后MOSFET器件的两个发展方向,即多栅结构和应变硅纳米线结构。首先通过分析特征长度与有效栅极数量的关系,表明多栅结构器件可以有效增强栅极对沟道的控制,抑制短沟道效应,接近理想的亚阈值斜率;然后分析了应变对能带结构的影响,从理论上论述了应变沟道可以显著提高载流子迁移率;最后介绍了悬浮硅纳米线通过热氧化诱导形成应变沟道的方法,并对应力来源进行了分析。纳米结构CMOS晶体管由平面沟道结构向立体沟道结构转变,将成为器件未来主流的发展方向。 展开更多
关键词 场效应晶体管 多栅结构 应变 硅纳米线 围栅
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Compact modeling of quantum confinements in nanoscale gate-all-around MOSFETs
2
作者 Baokang Peng Yanxin Jiao +7 位作者 Haotian Zhong Zhao Rong Zirui Wang Ying Xiao Waisum Wong Lining Zhang Runsheng Wang Ru Huang 《Fundamental Research》 CAS CSCD 2024年第5期1306-1313,共8页
In this work,a surface-potential based compact model focusing on the quantum confinement effects of ultimately scaled gate-all-around(GAA)MOSFET is presented.Energy quantization with sub-band formation along the radiu... In this work,a surface-potential based compact model focusing on the quantum confinement effects of ultimately scaled gate-all-around(GAA)MOSFET is presented.Energy quantization with sub-band formation along the radius direction of cylindrical GAAs or thickness direction of nanosheet GAAs leads to significant quantization effects.An analytical model of surface potentials is developed by solving the Poisson equation with incorporating sub-band effects.In combination with the existing transport model framework,charge-voltage and current-voltage formulations are developed based on the surface potential.The model formulations are then extensively validated using TCAD numerical simulations as well as Si data of nanosheet GAA MOSFETs.Simulations of typical circuits verify the model robustness and convergence for its applications in GAA technology. 展开更多
关键词 gate-all-around fet Compact model Quantum mechanical confinement Nanosheet fet nanowire fet Sub-band energy
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基于气体绝缘层的FET式室温NO_2传感器 被引量:2
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作者 塔力哈尔.夏依木拉提 吐尔迪.吾买尔 +3 位作者 尚志勇 冯艳 谢宁 彭敏 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2017年第3期54-58,共5页
采用电子束刻蚀、机械探针贴膜等方法,构筑了基于气体绝缘层结构的单根酞菁铜纳米线FET式NO_2气体传感器。结果发现,在室温条件下,器件的检测极限为1×10^(–6)(NO_2体积分数),其灵敏度高达2 172%,该结果相比于薄膜气体传感器检测... 采用电子束刻蚀、机械探针贴膜等方法,构筑了基于气体绝缘层结构的单根酞菁铜纳米线FET式NO_2气体传感器。结果发现,在室温条件下,器件的检测极限为1×10^(–6)(NO_2体积分数),其灵敏度高达2 172%,该结果相比于薄膜气体传感器检测极限降至十分之一。除此之外,该器件在室温条件下可以恢复至基线,在低浓度、室温监测方面有着较好的优势。 展开更多
关键词 fet 气体绝缘层 气体传感器 纳米线 室温
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单界面陷阱对7nm P型GAAFET性能影响研究
4
作者 张珀菁 李小进 +2 位作者 禚越 孙亚宾 石艳玲 《微电子学》 CAS 北大核心 2020年第4期569-573,578,共6页
采用3D TCAD软件仿真分析了单界面陷阱对7 nm P型全环栅场效应晶体管DC和AC性能的影响。研究结果表明:单个陷阱能使转移特性曲线发生严重偏移;当单界面陷阱位于沟道中心附近且陷阱能级靠近导带时,对关态电流和阈值电压的影响最大;陷阱... 采用3D TCAD软件仿真分析了单界面陷阱对7 nm P型全环栅场效应晶体管DC和AC性能的影响。研究结果表明:单个陷阱能使转移特性曲线发生严重偏移;当单界面陷阱位于沟道中心附近且陷阱能级靠近导带时,对关态电流和阈值电压的影响最大;陷阱使栅电容的相对变化量小于1%;环栅晶体管沟道长度和纳米线直径的缩小会加重陷阱对器件性能的影响,高介电常数材料的Spacer可减小陷阱引起的沟道能带弯曲程度,从而缓解陷阱对器件性能的影响。在调节器件结构参数使器件性能最大化的同时,应使陷阱对器件性能的影响最小化。 展开更多
关键词 7 nm节点 全环栅场效应晶体管 单界面陷阱 阈值电压
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Trap and 1/f-noise effects at the surface and core of GaN nanowire gateall-around FET structure
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作者 Mallem Siva Pratap Reddy Ki-Sik Im +2 位作者 Jung-Hee Lee Raphael Caulmione Sorin Cristoloveanu 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第4期809-814,共6页
Using capacitance,conductance and noise measurements,we investigate the trapping behavior at the surface and in the core of triangular-shaped one-dimensional (1 D) array of GaN nanowire gate-all-around field effect tr... Using capacitance,conductance and noise measurements,we investigate the trapping behavior at the surface and in the core of triangular-shaped one-dimensional (1 D) array of GaN nanowire gate-all-around field effect transistor (GAA FET),fabricated via a top-down process.The surface traps in such a low dimensional device play a crucial role in determining the device performance.The estimated surface trap density rapidly decreases with increasing frequency,ranging from 6.07 × 1012 cm-2·eV-1 at 1 kHz to 1.90 × 1011 cm-2·eV-1 at 1 MHz,respectively.The noise results reveal that the power spectral density increases with gate voltage and clearly exhibits 1/f-noise signature in the accumulation region (Vgs > Vth =3.4 V) for all frquencies.In the surface depletion region (1.5 V < Vgs < Vth),the device is governed by 1/fat lower frequencies and 1/f2 noise at frequencies higher than ~ 5 kHz.The 1/f2 noise characteristics is attributed to additional generation-recombination (G-R),mostly caused by the electron trapping/detrapping process through deep traps located in the surface depletion region of the nanowire.The cutoff frequency for the 1/f2 noise characteristics further shifts to lower frequency of 102-103 Hz when the device operates in deep-subthreshold region (Vgs < 1.5 V).In this regime,the electron trapping/detrapping process through deep traps expands into the totally depleted nanowire core and the G-R noise prevails in the entire nanowire channel. 展开更多
关键词 gate-all-around field effect transistor (fet) nanowire GAN TRAP 1/f-noise
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Ionic effects on the transport characteristics of nanowire-based FETs in a liquid environment
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作者 Daijiro Nozaki Jens Kunstmann +5 位作者 Felix Zorgiebel Sebastian Pregl Larysa Baraban Walter M. Weber Thomas Mikolajick Gianaurelio Cuniberti 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第3期380-389,共10页
For the development of ultra-sensitive electrical bio/chemical sensors based on nanowire field effect transistors (FETs), the influence of the ions in the solution on the electron transport has to be understood. For... For the development of ultra-sensitive electrical bio/chemical sensors based on nanowire field effect transistors (FETs), the influence of the ions in the solution on the electron transport has to be understood. For this purpose we establish a simulation platform for nanowire FETs in the liquid environment by implementing the modified Poisson-Boltzmann model into Landauer transport theory. We investigate the changes of the electric potential and the transport characteristics due to the ions. The reduction of sensitivity of the sensors due to the screening effect from the electrolyte could be successfully reproduced. We also fabricated silicon nanowire Schottky-barrier FETs and our model could capture the observed reduction of the current with increasing ionic concentration. This shows that our simulation platform can be used to interpret ongoing experiments, to design nanowire FETs, and it also gives insight into controversial issues such as whether ions in the buffer solution affect the transport characteristics or not. 展开更多
关键词 nanowire field effecttransistors fets) biosensors silicon nanowires Poisson-Boltzmann theory Landauer model
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基于单根氧化锌纳米线的场效应管的光电特性研究 被引量:5
7
作者 李静雷 郑凯波 +3 位作者 沈浩■ 邢晓艳 孙大林 陈国荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期83-86,共4页
本文介绍了一种基于单根氧化锌纳米线场效应管的制备方法,用XRD和SEM分析了样品的结构和形貌,测试了它的输出特性曲线和转移特性曲线。当Vds=2 V时,测得场效应管的开启电压Vgt=-16.2 V;计算得到低频跨导gm=46.6nS。在Vgs=0 V时,测得一维... 本文介绍了一种基于单根氧化锌纳米线场效应管的制备方法,用XRD和SEM分析了样品的结构和形貌,测试了它的输出特性曲线和转移特性曲线。当Vds=2 V时,测得场效应管的开启电压Vgt=-16.2 V;计算得到低频跨导gm=46.6nS。在Vgs=0 V时,测得一维ZnO纳米线的载流子浓度n=1.15×108cm-1,电子迁移率μe=14.4 cm2/Vs,电导率σ=0.26Ω-1cm-1。该场效应管的上限截止频率fH=1585 Hz,漏源极间电容C=25.4 pF。本文还对基于单根氧化锌纳米线的场效应管的光电灵敏度和光电时间响应进行了测试分析。 展开更多
关键词 氧化锌 纳米线 场效应管 频率响应
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氧化锌纳米线晶体管的电学特性研究 被引量:3
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作者 付晓君 张海英 徐静波 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第10期778-781,785,共5页
成功制作了氧化锌纳米线沟道场效应晶体管器件,所制作器件的电学性能通过I-V测试进行了分析。使用了水浴法生长了单晶性完整的氧化锌纳米线,该纳米线被用作背栅场效应晶体管的沟道,采用光刻方式制备的器件具有良好的直流特性,进行退火... 成功制作了氧化锌纳米线沟道场效应晶体管器件,所制作器件的电学性能通过I-V测试进行了分析。使用了水浴法生长了单晶性完整的氧化锌纳米线,该纳米线被用作背栅场效应晶体管的沟道,采用光刻方式制备的器件具有良好的直流特性,进行退火后进一步改善器件的源漏接触,提高器件性能,最终制备成功的场效应晶体管显示出p型MOS的特性,其开关态电流比达到105。在Vds=2.5 V时,跨导峰值为0.4μS,栅氧电容约为0.9 fF,器件夹断电压Vth为0.6 V,沟道迁移率约为87.1 cm2/V.s,计算得到氧化锌纳米线载流子浓度ne=6.8×108 cm-3。在Vgs=0 V时,器件沟道电阻率为100Ω.cm。 展开更多
关键词 氧化锌 纳米线 场效应晶体管 背栅 退火
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Si纳米线场效应晶体管研究进展 被引量:2
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作者 张严波 熊莹 +2 位作者 杨香 韩伟华 杨富华 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第11期641-648,663,共9页
从Si纳米线场效应晶体管(SiNWFET)的结构原理、Si纳米线的制作工艺以及器件电学性能的改善措施三个方面介绍了SiNWFET的研究进展。通过分析SiNWFET的漏极电压对沟道电势的影响,表明SiNWFET自身的细沟道和围栅结构对于改善亚阈值特性和... 从Si纳米线场效应晶体管(SiNWFET)的结构原理、Si纳米线的制作工艺以及器件电学性能的改善措施三个方面介绍了SiNWFET的研究进展。通过分析SiNWFET的漏极电压对沟道电势的影响,表明SiNWFET自身的细沟道和围栅结构对于改善亚阈值特性和抑制短沟道效应起着关键作用。针对Si纳米线的制备,介绍了光刻、刻蚀与热氧化等自上而下的方法和气-液-固生长这种自下而上的方法。分析了SiNWFET的电学性能,探讨了为改善电学性能而进行的器件结构和工艺的改进,包括选择沟道取向,采用多条纳米线、应变纳米线或新材料作为沟道以及减小源-漏接触电阻等措施。最后对SiNWFET所面临的挑战和前景作了展望。 展开更多
关键词 纳米线 场效应晶体管 短沟道效应 围栅 自限制氧化
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三维晶体管和后CMOS器件的进展 被引量:2
10
作者 赵正平 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第1期1-11,共11页
2012年当量产的集成电路的特征尺寸进入22 nm时,三维晶体管新结构成为纳电子发展的主流,标志纳电子学的发展由应力Si时代进入三维晶体管时代。介绍了多栅晶体管的发展过程,包括双栅、鳍栅、Pi型栅、Ω型栅、三栅和环形栅等FET关键技术... 2012年当量产的集成电路的特征尺寸进入22 nm时,三维晶体管新结构成为纳电子发展的主流,标志纳电子学的发展由应力Si时代进入三维晶体管时代。介绍了多栅晶体管的发展过程,包括双栅、鳍栅、Pi型栅、Ω型栅、三栅和环形栅等FET关键技术的突破和由于栅极控制沟道电子能力增加而导致的器件性能的改善。同时,还介绍了后CMOS器件的新进展,包含InGaAs n沟道鳍栅FET、环栅纳米线FET、Ge n/p沟道鳍栅FET、碳纳米管FET、石墨烯FET、隧穿FET、单电子晶体管和自旋电子学等,以及后CMOS器件的评定和终结CMOS器件模型。 展开更多
关键词 鳍栅fet 三栅fet InGaAs鳍栅fet 环栅纳米线fet Ge鳍栅fet 碳纳米管fet 石墨烯fet 隧穿fet 自旋器件
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锗纳米线的性能与应用
11
作者 裴立宅 谭伟 +1 位作者 赵海生 俞海云 《微纳电子技术》 CAS 2008年第2期91-96,108,共7页
重点分析讨论了锗纳米线在电学、光学、光电导等特性及其在场效应晶体管制造方面的研究应用现状与最新进展。综合分析表明,未经处理的锗纳米线表面存在一层氧化物及缺陷,与电极连接时欧姆接触性能较差,在制备锗纳米线器件以前必须对锗... 重点分析讨论了锗纳米线在电学、光学、光电导等特性及其在场效应晶体管制造方面的研究应用现状与最新进展。综合分析表明,未经处理的锗纳米线表面存在一层氧化物及缺陷,与电极连接时欧姆接触性能较差,在制备锗纳米线器件以前必须对锗纳米线表面进行钝化以便沉积电极;对锗纳米线进行掺杂可以改善Ge纳米线的性能,制造出实用Ge纳米线器件。指出在一根纳米线上生长硅/锗半导体纳米线形成硅/锗半导体界面,直接用单根纳米线制造具有完整功能的电子器件是将来重要的研究方向。 展开更多
关键词 锗纳米线 场效应晶体管 缺陷 欧姆接触 钝化
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纳电子学的发展
12
作者 赵正平 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第1期1-6,共6页
进入21世纪,2004年集成电路的特征尺寸已进入90 nm节点,标志着微电子进入一个新的纪元,即进入了纳电子时代。介绍和总结了纳电子的新进展,包括纳电子的两条发展技术路线:其一是继续按自上而下的方法,以CMOS技术为基础,不断改变栅结构,... 进入21世纪,2004年集成电路的特征尺寸已进入90 nm节点,标志着微电子进入一个新的纪元,即进入了纳电子时代。介绍和总结了纳电子的新进展,包括纳电子的两条发展技术路线:其一是继续按自上而下的方法,以CMOS技术为基础,不断改变栅结构,改变沟道材料,增强控制电子的能力;其二是自下而上的新思路,采用新的器件结构,向自组装发展。此外,还介绍了"后CMOS"器件的工作原理、当前的实验以及和MOSFET相关的性能和面临的挑战。并预计了纳电子未来发展的趋势。 展开更多
关键词 纳电子 CMOS 后CMOS 纳米 石墨烯 纳线fet
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硅纳米线传感器灵敏度研究进展 被引量:1
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作者 方敏 闫江 +7 位作者 魏千惠 张青竹 魏淑华 王艳蓉 张兆浩 熊恩毅 张双 张静 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2021年第3期225-232,253,共9页
对基于一维纳米材料的硅纳米线场效应晶体管(SiNW-FET)传感器在疾病早期诊断中检测超低浓度生物标志物的优势进行了简单阐述,提出提高SiNW-FET传感器检测灵敏度的重要性和必要性。介绍了SiNW-FET传感器的工作原理、检测灵敏度和检测限(L... 对基于一维纳米材料的硅纳米线场效应晶体管(SiNW-FET)传感器在疾病早期诊断中检测超低浓度生物标志物的优势进行了简单阐述,提出提高SiNW-FET传感器检测灵敏度的重要性和必要性。介绍了SiNW-FET传感器的工作原理、检测灵敏度和检测限(LOD)。重点讨论了通过对SiNW表面修饰方法的优化、使用不同结构形状SiNW和降低传感器德拜屏蔽效应等方法提高SiNW-FET传感器的灵敏度,对各种提高灵敏度的方法和对应方法下SiNW-FET传感器的检测限或灵敏度进行了对比总结。最后,总结了提高SiNW-FET传感器灵敏度的方法和目前亟待解决的问题,并展望了其发展趋势。 展开更多
关键词 硅纳米线场效应晶体管(SiNW-fet) 一维纳米材料 传感器 灵敏度 检测限(LOD) 表面修饰
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Pt对In_(2)O_(3)纳米线场效应晶体管电学性能的影响
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作者 吴黎明 徐进霞 +3 位作者 范志成 梅菲 周远明 刘凌云 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期4028-4033,共6页
氧化铟纳米线(In_(2)O_(3)NWs)因具有合适的禁带宽度、较高的电子迁移率等优异的电学性能,可应用于晶体管、存储器、传感器等而备受关注,成为研究的热点。本实验通过简单易行的化学气相沉积法生长了In_(2)O_(3)纳米线,结合电子束光刻(E... 氧化铟纳米线(In_(2)O_(3)NWs)因具有合适的禁带宽度、较高的电子迁移率等优异的电学性能,可应用于晶体管、存储器、传感器等而备受关注,成为研究的热点。本实验通过简单易行的化学气相沉积法生长了In_(2)O_(3)纳米线,结合电子束光刻(EBL)成功制备了In_(2)O_(3)纳米线场效应晶体管器件(Field effect transistor,FET),利用溅射系统在In_(2)O_(3) FET上沉积不同厚度的Pt,研究了Pt纳米颗粒对In2O3 FET电学性能的影响。利用扫描电子显微镜、X射线衍射及光致发光光谱研究了In_(2)O_(3)纳米线的形貌、组成及光学性能;利用X射线光电子能谱分析纳米线的元素化学价态和组成。通过分析沉积Pt前后In_(2)O_(3)纳米线FET的电学性能发现,沉积Pt纳米颗粒后场效应晶体管阈值电压(Vth)有向右偏移的趋势,开关比(Ion/Ioff)有所下降,载流子浓度降低,载流子迁移率增大。晶体管阈值电压(Vth)向右偏移可归因于沉积Pt后金属/半导体接触形成电子转移,此外纳米线的表面缺陷可以充当吸附位点,表面缺陷吸附的氧和水分子将捕获来自纳米线的自由电子,导致表面电子消耗,从而使得载流子浓度降低。研究结果表明,Pt金属纳米颗粒对In_(2)O_(3)纳米线FET的电学性能存在一定的影响。 展开更多
关键词 In_(2)O_(3)纳米线fet 阈值电压 Pt金属纳米颗粒 载流子浓度
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硅基Ⅲ-Ⅴ族纳米线晶体管
15
作者 洪文婷 韩伟华 +2 位作者 王昊 吕奇峰 杨富华 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第6期345-354,共10页
硅基Ⅲ-Ⅴ族纳米线晶体管已经成为高速、低功耗纳米级器件的重要发展方向。首先,从气相-液相-固相生长和选择区域生长的角度,阐明了在硅衬底上无位错生长高晶体质量Ⅲ-Ⅴ族纳米线的机制。在此基础上,介绍了垂直结构和水平结构Ⅲ-Ⅴ族纳... 硅基Ⅲ-Ⅴ族纳米线晶体管已经成为高速、低功耗纳米级器件的重要发展方向。首先,从气相-液相-固相生长和选择区域生长的角度,阐明了在硅衬底上无位错生长高晶体质量Ⅲ-Ⅴ族纳米线的机制。在此基础上,介绍了垂直结构和水平结构Ⅲ-Ⅴ族纳米线晶体管的制备方法。研究表明,垂直结构纳米线容易实现高密度生长,而水平结构纳米线有利于逻辑栅的制作。通过比较垂直生长、水平生长、衬底转移和自上而下纳米加工技术制备Ⅲ-Ⅴ族纳米线的工艺优缺点,为水平结构Ⅲ-Ⅴ族纳米线在硅衬底上的大面积异构集成及其器件的制作提供了新的解决方案。 展开更多
关键词 场效应晶体管(fet) Ⅲ-Ⅴ族纳米线 硅衬底 气相-液相-固相生长 选择区域生长(SAG)
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High Performance Ring Oscillators from 10-nm Wide Silicon Nanowire Field-Effect Transistors 被引量:2
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作者 Ruo-Gu Huang Douglas Tham +1 位作者 Dunwei Wang James R. Heath 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第10期1005-1012,共8页
We explore 10-nm wide Si nanowire (SiNW) field-effect transistors (FETs) for logic applications, via the fabrication and testing of SiNW-based ring oscillators. We report on SiNW surface treatments and dielectric ... We explore 10-nm wide Si nanowire (SiNW) field-effect transistors (FETs) for logic applications, via the fabrication and testing of SiNW-based ring oscillators. We report on SiNW surface treatments and dielectric annealing, for producing SiNW FETs that exhibit high performance in terms of large on/off-state current ratio (-10s), low drain-induced barrier lowering (-30 mV) and low subthreshold swing (-80 mV/decade). The performance of inverter and ring-oscillator circuits fabricated from these nanowire FETs are also explored. The inverter demonstrates the highest voltage gain (-148) reported for a SiNW-based NOT gate, and the ring oscillator exhibits near rail-to-rail oscillation centered at 13.4 MHz. The static and dynamic characteristics of these NW devices indicate that these SiNW-based FET circuits are excellent candidates for various high-performance nanoelectronic applications. 展开更多
关键词 Silicon nanowire (SiNW) field-effect transistor fet surface treatment INVERTER ring oscillator
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硅纳米线场效应晶体管生物传感器在肿瘤分子诊断中的应用 被引量:8
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作者 鲁娜 高安然 +4 位作者 戴鹏飞 宋世平 樊春海 王跃林 李铁 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期442-452,共11页
肿瘤的早期诊断是目前临床医学最具挑战性的问题之一.分子诊断不仅能对肿瘤早期做出确切的诊断,而且能对肿瘤分期、分型、疗效监测和预后评估做出判断.硅纳米线作为新型一维半导体纳米材料,具有超高灵敏度、专一选择性、无标记检测、快... 肿瘤的早期诊断是目前临床医学最具挑战性的问题之一.分子诊断不仅能对肿瘤早期做出确切的诊断,而且能对肿瘤分期、分型、疗效监测和预后评估做出判断.硅纳米线作为新型一维半导体纳米材料,具有超高灵敏度、专一选择性、无标记检测、快速实时响应等独特优势,在近年来的生物医学检测应用,特别是肿瘤的分子诊断方面引起了极大的关注.基于此,本文介绍了硅纳米线场效应晶体管(FET)的工作原理、硅纳米线的制备方法、传感灵敏度的影响因素,综述了硅纳米线FET生物传感器在肿瘤分子诊断中的应用(包括核酸的定性与定量检测、肿瘤蛋白标志物检测、以及分子间相互作用研究),并展望了硅纳米线生物传感器的未来发展趋势,希望能为硅纳米线在肿瘤早期诊断的进一步应用提供一定的参考. 展开更多
关键词 硅纳米线 生物传感器 场效应晶体管 分子诊断 肿瘤
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