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Positive gate-bias temperature instability of ZnO thin-film transistor 被引量:2
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作者 刘玉荣 苏晶 +1 位作者 黎沛涛 姚若河 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第6期602-607,共6页
The positive gate-bias temperature instability of a radio frequency (RF) sputtered ZnO thin-film transistor (ZnO TFT) is investigated. Under positive gate-bias stress, the saturation drain current and OFF-state cu... The positive gate-bias temperature instability of a radio frequency (RF) sputtered ZnO thin-film transistor (ZnO TFT) is investigated. Under positive gate-bias stress, the saturation drain current and OFF-state current decrease, and the threshold voltage shifts toward the positive direction. The stress amplitude and stress temperature are considered as important factors in threshold-voltage instability, and the time dependences of threshold voltage shift under various bias temperature stress conditions could be described by a stretched-exponential equation. Based on the analysis of hysteresis behaviors in current- voltage and capacitance-voltage characteristics before and after the gate-bias stress, it can be clarified that the threshold- voltage shift is predominantly attributed to the trapping of negative charge carriers in the defect states located at the gate- dielectric/channel interface. 展开更多
关键词 thin-film transistors (TFTs) zinc oxide gate-bias instability threshold-voltage shift
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基于高摆率误差放大器的低功耗LDO设计
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作者 吴为清 黄继伟 《微电子学与计算机》 2023年第12期81-86,共6页
本文设计了一种具有低静态电流的低压差线性稳压器(LDO).针对传统LDO在低静态电流下瞬态响应不足的问题,电路中的误差放大器采用两个共栅差分跨导单元交叉耦合连接进行设计,提高其压摆率;利用体偏置运放改变功率管的阈值电压实现功率管... 本文设计了一种具有低静态电流的低压差线性稳压器(LDO).针对传统LDO在低静态电流下瞬态响应不足的问题,电路中的误差放大器采用两个共栅差分跨导单元交叉耦合连接进行设计,提高其压摆率;利用体偏置运放改变功率管的阈值电压实现功率管在不同负载的快速切换;同时采用动态偏置对电路进行偏置减少过欠冲值.电路采用台积电(TSMC)0.18µm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺进行设计,版图核心面积为220µm×140µm.仿真结果表明,该LDO在最小负载电流与最大负载电容的组合下相位裕度达到100度,消耗的静态电流仅为849 nA.当负载电流在500 ns时间内从100µA到100 mA进行切换时,电路表现出良好的瞬态响应,其中过冲电压为220 mV,欠冲电压为225 mV.经过计算,品质因数(FOM)值为0.198 mV. 展开更多
关键词 共栅差分跨导单元 低压差线性稳压器 体偏置运放 动态偏置 低静态电流 FOM
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自保护MOS栅晶闸管
3
作者 高玉民 单建安 许曙明 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期22-24,35,共4页
本文报告一种叫做自保护MOS栅晶闸管的新器件 .这种器件无寄生闩锁效应 ,并在较高阳极电压下展现出电流下降而不是饱和或上升的特性 .因此 ,这种新器件具有令人满意的正偏安全工作区 .器件的保护点由用户外接输入电阻自行调节 ,极大增... 本文报告一种叫做自保护MOS栅晶闸管的新器件 .这种器件无寄生闩锁效应 ,并在较高阳极电压下展现出电流下降而不是饱和或上升的特性 .因此 ,这种新器件具有令人满意的正偏安全工作区 .器件的保护点由用户外接输入电阻自行调节 ,极大增加了使用的灵活性 .此外 ,器件保护点电流和电压的温度系数均为负 。 展开更多
关键词 MOS栅晶闸管 自保护 安全工作区 SOI 沟槽隔离
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增强型GaN MOSFET的制备及其绝缘栅的电荷特性研究
4
作者 周桂林 张金城 +7 位作者 沈震 杨帆 姚尧 钟健 郑越 张佰君 敖金平 刘扬 《中国科技论文》 CAS 北大核心 2015年第4期420-423,共4页
采用ICP干法刻蚀和PECVD沉积技术,制备了增强型Si衬底SiO2/GaN MOS栅场效应晶体管(MOSFET)。SiO2/GaN MOSFET转移特性曲线测试中出现阈值电压不稳定现象,针对其阈值电压稳定性问题,采用正向电压偏置方法对SiO2/GaN MOSFET的绝缘栅电荷... 采用ICP干法刻蚀和PECVD沉积技术,制备了增强型Si衬底SiO2/GaN MOS栅场效应晶体管(MOSFET)。SiO2/GaN MOSFET转移特性曲线测试中出现阈值电压不稳定现象,针对其阈值电压稳定性问题,采用正向电压偏置方法对SiO2/GaN MOSFET的绝缘栅电荷特性展开研究。正向电压偏置后,器件的转移特性曲线和高频C-V特性曲线均正向偏移,研究表明:SiO2/GaN之间存在的界面态和靠近SiO2/GaN界面的SiO2内部陷阱是造成SiO2/GaN MOSFET阈值电压不稳定的原因,实验研究结果同时表明氮气1 000℃快速热退火(RTA)对SiO2内部陷阱有改善作用。 展开更多
关键词 氮化镓 二氧化硅 场效应管 等离子增强化学气相沉积 陷阱 正向偏压
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基于动态栅压功放的高效超宽带发射机结构
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作者 黄菲 周健义 周晓慧 《微波学报》 CSCD 北大核心 2016年第6期62-65,共4页
提出的超宽带射频发射机的结构具有良好的效率和线性度。设计和制作了一款宽带的动态栅压偏置的功率放大器。动态栅压偏置可以获得优良的宽带性能。总发射机可以支持184.32 MHz的调制带宽。基带信号和相关偏置电压由宽带模拟基带处理单... 提出的超宽带射频发射机的结构具有良好的效率和线性度。设计和制作了一款宽带的动态栅压偏置的功率放大器。动态栅压偏置可以获得优良的宽带性能。总发射机可以支持184.32 MHz的调制带宽。基带信号和相关偏置电压由宽带模拟基带处理单元生成。基带信号经过直接变频的调制方式到达功放输入端,偏置电压经过差分运放以及延时电路到达功放栅极。实验结果表明,与传统A类功放相比,动态栅压偏置可以增加系统的效率和线性度。 展开更多
关键词 超宽带 动态栅压偏置 发射机 高效率
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基于沟长偏置的近阈值逻辑漏功耗减小技术
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作者 范晓慧 邬杨波 倪海燕 《宁波大学学报(理工版)》 CAS 2013年第3期45-50,共6页
随着集成电路芯片特征尺寸的不断缩小,减小漏功耗已成为集成电路设计技术的焦点之一.在近阈值逻辑电路中,亚阈值漏电流是其最主要漏电流的构成.根据MOS器件沟道长度与亚阈值漏电流之间的非线性关系,通过适度提高MOS器件的沟道长度从而降... 随着集成电路芯片特征尺寸的不断缩小,减小漏功耗已成为集成电路设计技术的焦点之一.在近阈值逻辑电路中,亚阈值漏电流是其最主要漏电流的构成.根据MOS器件沟道长度与亚阈值漏电流之间的非线性关系,通过适度提高MOS器件的沟道长度从而降低CMOS逻辑电路的漏功耗,形成了基于沟长偏置的漏功耗减小技术.应用HSPICE软件对基于45nm PTM工艺参数沟长偏置为8%的基本逻辑门电路、镜像加法器和传输门加法器的漏电流进行了仿真测试,实验结果表明漏电流约下降了39%~44%.因此沟长偏置技术是一种有效的适用于近阈值逻辑的漏功耗减小技术. 展开更多
关键词 亚阈值漏电流 沟长偏置 近阈值逻辑 漏功耗减小
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一种自偏置预失真线性功率放大器 被引量:1
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作者 陈波 张海鹏 +1 位作者 许生根 齐瑞生 《杭州电子科技大学学报(自然科学版)》 2010年第6期1-4,共4页
该文提出了一种用中芯国际0.18μm工艺设计的自偏置预失真AB类功率放大电路电路结构。电路采用两级共源共栅结构,在共栅MOS管上采用自偏置电路,在第二级电路中采用预失真电路。该次设计采用Agilent的ADS软件对电路进行模拟,在2.4GHz频率... 该文提出了一种用中芯国际0.18μm工艺设计的自偏置预失真AB类功率放大电路电路结构。电路采用两级共源共栅结构,在共栅MOS管上采用自偏置电路,在第二级电路中采用预失真电路。该次设计采用Agilent的ADS软件对电路进行模拟,在2.4GHz频率下,1dB压缩点的输出功率为22.5dBm,此时的PAE是25.1%。 展开更多
关键词 电路与系统 功率放大器 自偏置 预失真 共源共栅 线性化
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SRAM Cell Leakage Control Techniques for Ultra Low Power Application: A Survey 被引量:1
8
作者 Pavankumar Bikki Pitchai Karuppanan 《Circuits and Systems》 2017年第2期23-52,共30页
Low power supply operation with leakage power reduction is the prime concern in modern nano-scale CMOS memory devices. In the present scenario, low leakage memory architecture becomes more challenging, as it has 30% o... Low power supply operation with leakage power reduction is the prime concern in modern nano-scale CMOS memory devices. In the present scenario, low leakage memory architecture becomes more challenging, as it has 30% of the total chip power consumption. Since, the SRAM cell is low in density and most of memory processing data remain stable during the data holding operation, the stored memory data are more affected by the leakage phenomena in the circuit while the device parameters are scaled down. In this survey, origins of leakage currents in a short-channel device and various leakage control techniques for ultra-low power SRAM design are discussed. A classification of these approaches made based on their key design and functions, such as biasing technique, power gating and multi-threshold techniques. Based on our survey, we summarize the merits and demerits and challenges of these techniques. This comprehensive study will be helpful to extend the further research for future implementations. 展开更多
关键词 Body BIASING Gate LEAKAGE JUNCTION LEAKAGE Power GATING MULTI-THRESHOLD SRAM Cell SUB-THRESHOLD LEAKAGE
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65nm CMOS工艺中的高速多标准FPGA I/O接口设计 被引量:1
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作者 景行 赵琦 +2 位作者 柯可人 易婷 洪志良 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期381-386,402,共7页
设计了一种现场可编程门阵列(FPGA)中使用的高速可配置的输入输出(I/O)接口电路。通过使用电平移位电路、互补自偏置差分放大电路(CSDA)等,该电路实现了包括低压差分信号(LVDS)在内的多种常见的接口协议标准。该电路同时具备可编程配置... 设计了一种现场可编程门阵列(FPGA)中使用的高速可配置的输入输出(I/O)接口电路。通过使用电平移位电路、互补自偏置差分放大电路(CSDA)等,该电路实现了包括低压差分信号(LVDS)在内的多种常见的接口协议标准。该电路同时具备可编程配置压摆率和可编程配置输出驱动电流的功能,同时为保证信号完整性,设计了数字阻抗匹配(DCI)模块。芯片使用SMIC 1P10M65nm CMOS工艺流片。测试结果表明,芯片核心电路在1.2V电压下能保证各种协议工作正常,输入输出信号延时、最大输出电流、最高工作速率等与仿真结果吻合,均达到设计指标要求。 展开更多
关键词 现场可编程门阵列 输入输出接口 互补自偏置差分放大电路 高速 低压差分信号 数字阻抗匹配
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具有宽安全工作区的压接式IGBT芯片研制 被引量:1
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作者 王耀华 高明超 +5 位作者 刘江 冷国庆 赵哿 金锐 温家良 潘艳 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2018年第2期132-135,共4页
针对柔性直流输电关键装备高压直流断路器的特殊需求,基于现有工艺平台开发了一款宽安全工作区的3 300V/50A压接式IGBT芯片。为降低2~4 ms过电流冲击过程中的芯片温升,纵向采用非穿通结构。同时,采用阶梯栅氧结构,引入第二雪崩区,降低... 针对柔性直流输电关键装备高压直流断路器的特殊需求,基于现有工艺平台开发了一款宽安全工作区的3 300V/50A压接式IGBT芯片。为降低2~4 ms过电流冲击过程中的芯片温升,纵向采用非穿通结构。同时,采用阶梯栅氧结构,引入第二雪崩区,降低动态闩锁发生的风险,提高器件的安全工作区。为适用于压接封装,开发了厚金属电极工艺,实现对压力的缓冲。将此结构流片验证,并进行模块级测试,芯片可在1 800V电压下达到6.5倍以上额定电流安全关断,短路电流可在20μs内安全关断,具有宽安全工作区水平。 展开更多
关键词 绝缘栅双极晶体管 压接 反偏安全工作区 短路安全工作区
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有源电压箝位串联HV IGBT的适用性和优化(二)
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作者 F.Bauer 黄慧(译) 柯思勤(校) 《变流技术与电力牵引》 2007年第2期30-33,51,共5页
介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HVIGBTs)的成功串联应用。穿通型HVIGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极采... 介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HVIGBTs)的成功串联应用。穿通型HVIGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极采用载流子寿命局部分布的IGBT很适合这种应用;拖尾电流间隔时间越短,关断损耗越小。文中集中讨论了穿通型HVIGBT器件串联时的最佳通态等离子体分布,HVIGBT的最新发展趋势似乎与讨论结论相一致。未来先进的HVIGBT技术可完全减轻第一代HVIGBT串联时的困难。 展开更多
关键词 高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs) 非穿通(NPT) 穿通(PT) 反偏安全工作区(RBSOA)
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有源电压箝位串联HV IGBT的适用性和优化(一)
12
作者 F.Bauer 黄慧(译者) 柯思勤(校者) 《变流技术与电力牵引》 2007年第1期28-32,51,共6页
介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs)的成功串联应用。穿通型HV IGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极... 介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs)的成功串联应用。穿通型HV IGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极采用载流子寿命局部分布的IGBT很适合这种应用;拖尾电流间隔时间越短,关断损耗越小。文中集中讨论了穿通型HV IGBT器件串联时的最佳通态等离子体分布,HV IGBT的最新发展趋势似乎与讨论结论相一致。未来先进的HV IGBT技术可完全减轻第一代HV IGBT串联时的困难。 展开更多
关键词 高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs) 非穿通(NPT) 穿通(PT) 反偏安全工作区(RBSOA)
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