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Si(111)异质外延表面光滑H-GaN的制备和表征
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作者 王帅 刘文怡 +3 位作者 梁庭 王勇 刘俊 熊继军 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2011年第7期48-50,共3页
使用MOCVD工艺在单晶硅衬底(111)面上异质外延六方GaN。利用光学显微镜、原子力显微镜(AFM)、扫面电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)及Raman光谱仪等多种分析方法对薄膜样品的结构、形貌和光学性能进行表征和分析。测试结果表明:得到的... 使用MOCVD工艺在单晶硅衬底(111)面上异质外延六方GaN。利用光学显微镜、原子力显微镜(AFM)、扫面电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)及Raman光谱仪等多种分析方法对薄膜样品的结构、形貌和光学性能进行表征和分析。测试结果表明:得到的晶体为六方纤锌矿结构,主要晶面为(0002),且异质外延的GaN晶体质量良好,定向性好,表面光滑无裂缝。外延膜GaN中E2(高支)声子模和A1(LO)声子模的拉曼峰相对于弛豫状态时发生了红移,说明GaN受到了张应力;而Si的AO声子模的拉曼峰相对于本征频率发生了蓝移,说明Si受到了压应力。 展开更多
关键词 异质外延 六方GaN 应力测试 光学测试
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A DFT Study of Alkenes and Alkynes Reacting with H-GaN (0001) Surface
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作者 胡春丽 陈勇 +1 位作者 李俊篯 章永凡 《Chinese Journal of Structural Chemistry》 SCIE CAS CSCD 2009年第1期125-131,共7页
The addition reactions of alkenes and alkynes to the H-terminated GaN (0001) surface with a Ga dangling-bond have been studied employing periodic density functional theory (PDFT) calculations. Detailed information... The addition reactions of alkenes and alkynes to the H-terminated GaN (0001) surface with a Ga dangling-bond have been studied employing periodic density functional theory (PDFT) calculations. Detailed information on the reaction pathways of these alkenes and alkynes with H-GaN (0001) surface is provided, which indicates that the reactions contain two steps separated by the metastable intermediates: elementary addition reaction and H-abstraction process. From the energy curves, the reactions are clearly viable in the cases of ethene, styrene and phenylacetylene; while for ethyne, the H-abstraction barrier is higher than the desorption barrier of the intermediate, so the adsorbed C2H2 in intermediate is more likely to be desorbed back into the gas phase than to form a stable adsorbed species. Furthermore, it is obvious that for either alkenes or alkynes, the systems substituted by phenyl have more stable intermediates because π conjugation could improve their stabilities. 展开更多
关键词 ALKENES ALKYNES h-gan (0001) surface DFT reaction pathway
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用赫格纳斯法生产海绵铁和还原铁粉 被引量:19
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作者 俞燮廷 《粉末冶金工业》 CAS 1997年第3期31-39,共9页
介绍了瑞典赫格纳斯法生产海绵铁和还原铁份历程,阐明了该法的工艺实质和特点,列举了生产海绵铁和还原铁粉的工厂实例,并介绍了历生来赫格纳斯还原铁价性能的改进情况。
关键词 赫格纳斯法 海绵铁 还原铁粉
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未钝化和H钝化GaN纳米线的电子结构 被引量:1
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作者 李恩玲 郗萌 +5 位作者 崔真 程旭辉 徐锐 马德明 刘满仓 王雪文 《计算物理》 CSCD 北大核心 2013年第2期277-284,共8页
用密度泛函理论研究直径为9.5,15.9和22.5,未钝化和H钝化GaN纳米线的能带和态密度.结果表明:未钝化和H钝化GaN纳米线的能隙都是直接带隙,未钝化GaN纳米线的禁带宽度随着直径的增加减小,但是变化不明显,H钝化GaN纳米线的禁带宽度... 用密度泛函理论研究直径为9.5,15.9和22.5,未钝化和H钝化GaN纳米线的能带和态密度.结果表明:未钝化和H钝化GaN纳米线的能隙都是直接带隙,未钝化GaN纳米线的禁带宽度随着直径的增加减小,但是变化不明显,H钝化GaN纳米线的禁带宽度随着直径增大也是减小的,但是减小的幅度比未钝化的大.未钝化GaN纳米线表面N原子的2p电子主要聚集在价带顶,表面Ga原子的4p电子主要聚集在导带底,这两种电子都具有很强的局域性,而且决定着能隙值;加H钝化可以消除表面原子产生的表面效应. 展开更多
关键词 纳米线 H钝化 电子结构 密度泛函理论
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4H-SiC衬底AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的研制
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作者 郝跃 杨燕 +1 位作者 张进城 王平 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1672-1674,共3页
报道了在 4 H- Si C衬底上 Al Ga N/ Ga N高电子迁移率晶体管 (HEMT)的研制和室温特性测试结果 .器件采用栅长为 0 .7μm,夹断电压为 - 3.2 V,获得了最高跨导为 2 0 2 m S/ m m,最大漏源饱和电流密度为 915 m A/ m m的优良性能和结果 .
关键词 4H-SIC ALGAN/GAN 高电子迁移率晶体管
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热壁化学气相沉积Si基GaN晶体膜的研究
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作者 曹文田 孙振翠 +2 位作者 魏芹芹 薛成山 孙海波 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1226-1228,共3页
采用热壁化学气相沉积工艺在 Si(111)衬底上生长 GaN 晶体膜,并对其生长条件进行研究。用 X 射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、荧光光谱(PL)对样品进行结构、形貌和发光特性的分析。测试结果表明:用此方法得到了六方纤锌矿结构的 GaN 晶... 采用热壁化学气相沉积工艺在 Si(111)衬底上生长 GaN 晶体膜,并对其生长条件进行研究。用 X 射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、荧光光谱(PL)对样品进行结构、形貌和发光特性的分析。测试结果表明:用此方法得到了六方纤锌矿结构的 GaN 晶体膜。实验结果显示:采用该工艺制备 GaN 晶体膜时,选择 H2 作反应气体兼载体,对 GaN 膜的形成起着非常有利的作用。 展开更多
关键词 热壁化学气相沉积 GaN晶体膜 载体H2
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几种添加剂对Hgans法还原速度的影响
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作者 王东彦 王文忠 +1 位作者 姜周华 芮树森 《华东冶金学院学报》 1997年第4期468-470,共3页
本文实验研究了三种添加剂对Hoganas法还原速度的影响,结果表明:在铁精矿还原率为90%之前时,NaCl对还原过程有较大的催化作用,其合适的加入量为煤量的10%.Hoganas法还原过程的限制性环节含有不包括氧传递步骤在内的碳的气化反应... 本文实验研究了三种添加剂对Hoganas法还原速度的影响,结果表明:在铁精矿还原率为90%之前时,NaCl对还原过程有较大的催化作用,其合适的加入量为煤量的10%.Hoganas法还原过程的限制性环节含有不包括氧传递步骤在内的碳的气化反应过程. 展开更多
关键词 添加剂 催化作用 Hoganas法 还原速度 炼钢
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抗战时期陕甘宁边区奶业之肇兴
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作者 李琦珂 曹幸穗 《科学管理研究》 CSSCI 北大核心 2012年第5期84-87,共4页
作为集生产与科研任务于一体的试验单位,光华农场曾肩负了营养伤病员、哺育婴幼儿以及保健军民的光荣使命。尽管抗战前期(1937~1940年)陕甘宁边区的畜牧业发展很快,但牛羊大多用来役使、剪毛和吃肉,挤奶一度成了牛羊养殖最附带的功能... 作为集生产与科研任务于一体的试验单位,光华农场曾肩负了营养伤病员、哺育婴幼儿以及保健军民的光荣使命。尽管抗战前期(1937~1940年)陕甘宁边区的畜牧业发展很快,但牛羊大多用来役使、剪毛和吃肉,挤奶一度成了牛羊养殖最附带的功能。及至抗战后期(1941~1945年),边区经济好转,生活自给自足之后的人们,开始有了饮奶的需求和欲望,因受光华农场奶业的影响,民间奶业开始兴起并有所发展。 展开更多
关键词 奶业 光华农场 抗战时期 陕甘宁边区
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6H-SiC(0001)衬底结构对GaN膜结构的影响第一原理研究
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作者 辛永松 张百新 戴宪起 《河南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期66-68,72,共4页
用从头计算方法总能理论研究了6H-SiC(0001)(3×3)R30°衬底上生长的GaN薄膜的界面结构特性.计算结果表明:GaN膜为Ga极性的纤锌矿结构;6H-SiC(0001)衬底表面台阶引起的GaN岛合并在薄膜中产生边界堆垛失配(SMBs),而这种SMBs缺陷... 用从头计算方法总能理论研究了6H-SiC(0001)(3×3)R30°衬底上生长的GaN薄膜的界面结构特性.计算结果表明:GaN膜为Ga极性的纤锌矿结构;6H-SiC(0001)衬底表面台阶引起的GaN岛合并在薄膜中产生边界堆垛失配(SMBs),而这种SMBs缺陷随着薄膜生长厚度的增加可以消除. 展开更多
关键词 台阶 极性 6H—SiC GAN
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具有阻挡层的H等离子体处理增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT研究
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作者 黄兴杰 邢艳辉 +6 位作者 于国浩 宋亮 黄荣 黄增立 韩军 张宝顺 范亚明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第10期402-408,共7页
采用H等离子体处理p-GaN盖帽层来制备p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT).在p-GaN层表面上先沉积2 nm的Al_(2)O_(3)薄膜,以减少H等离子体注入p-GaN时对表面造成的损伤.经研究表明沉积Al_(2)O_(3)阻挡层的器件栅极反向泄漏电流降... 采用H等离子体处理p-GaN盖帽层来制备p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT).在p-GaN层表面上先沉积2 nm的Al_(2)O_(3)薄膜,以减少H等离子体注入p-GaN时对表面造成的损伤.经研究表明沉积Al_(2)O_(3)阻挡层的器件栅极反向泄漏电流降低了一个数量级,开关比提高了约3倍.由于栅极泄露电流的减小,关态击穿电压从410 V提高到780 V.针对栅极反向泄漏减小的现象,进行了变温I_(G)-V_(G)测试,验证了栅极反向泄漏电流的主导机制是二维变程跳跃(Two-dimensional variable range hopping,2D-VRH)模型.分析了减小栅极反向电流的原因是由于Al_(2)O_(3)阻挡层改变了HR-GaN的表面态,使陷阱能级的活化能升高.此外,器件动态特性也表现出更稳定的趋势,这是Al_(2)O_(3)薄膜阻挡过多的H等离子体的注入,使AlGaN势垒和沟道陷阱态数量减少,电流崩塌效应减弱. 展开更多
关键词 p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT H等离子体处理 Al_(2)O_(3)薄膜 栅极反向泄漏电流
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Influence of carrier gas H2 flow rate on quality of p-type GaN epilayer grown and annealed at lower temperatures 被引量:1
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作者 Shuang-Tao Liu Jing Yang +11 位作者 De-Gang Zhao De-Sheng Jiang Feng Liang Ping Chen Jian-Jun Zhu Zong-Shun Liu Wei Liu Yao Xing Li-Yuan Peng Li-Qun Zhang Wen-Jie Wang Mo Li 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第12期499-503,共5页
In this work, we study the influence of carrier gas H2flow rate on the quality of p-type GaN grown and annealed at lower temperatures. It is found that the concentration of H atoms in Mg-doped GaN epilayer can effecti... In this work, we study the influence of carrier gas H2flow rate on the quality of p-type GaN grown and annealed at lower temperatures. It is found that the concentration of H atoms in Mg-doped GaN epilayer can effectively decrease with appropriately reducing the carrier gas H2flow rate, and a high-quality p-type GaN layer could be obtained at a comparatively low annealing temperature by reducing the carrier gas H2flow rate. Meanwhile, it is found that the intensity and wavelength of DAP peak are changed as the annealing temperature varies, which shows that the thermal annealing has a remarkable effect not only on the activation of acceptors but also on the compensation donors. 展开更多
关键词 p-type GaN thermal annealing H atom state
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立方相GaN/GaAs(001)外延层中六角相的分布特征
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作者 渠波 郑新和 +5 位作者 王玉田 韩景仪 徐大鹏 林世鸣 杨辉 梁骏吾 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2001年第3期217-222,共6页
采用X射线多功能四圆衍射仪测绘出GaN/GaAs(0 0 1 )外延层中六角相的{0 0 0 2 }和 {1 0 1 0 }极图 ,结果表明外延层中六角相与立方相之间的取向关系为 :{0 0 0 1 }∥ {1 1 1 },〈1 0 1 0〉∥〈1 1 2〉 .构建了相应的结构模型 ,并对 {0 0... 采用X射线多功能四圆衍射仪测绘出GaN/GaAs(0 0 1 )外延层中六角相的{0 0 0 2 }和 {1 0 1 0 }极图 ,结果表明外延层中六角相与立方相之间的取向关系为 :{0 0 0 1 }∥ {1 1 1 },〈1 0 1 0〉∥〈1 1 2〉 .构建了相应的结构模型 ,并对 {0 0 0 2 }和 {1 0 1 0 }极图进行了模拟 .六角相以该取向关系存在于立方相GaN外延层中时 ,两相界面处具有相应于六角相和立方相的层错结构 .分析立方相GaN外延层中形成六角相所导致的晶格畸变和能量变化可知 ,造成六角相分布特征的主要因素是平行于〈0 0 0 1〉方向的两相界面处原子成键紊乱 .六角相按照该取向关系 ,从低温缓冲层内部或缓冲层与外延层界面处萌生 。 展开更多
关键词 c-GaN h-gan 四圆衍射 极图 外延生长 半导体 六角相 立方相
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