Ge,Te量的变化及卤素掺杂剂对Se基玻璃静电复印特性的影响

本文研究了Ge-Te-Se系统玻璃组成与静电复印特性的关系,给出作为复印材料使用的较合适的基础玻璃组成范围.同时,还研究了卤素掺杂剂对复印特性的影响,发现BiI_3在Ge_1Te_(1.5)Se_(97.5)玻璃中掺杂可降低残余电位,疲劳也不明显。