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AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究
被引量:
2
1
作者
冯晋阳
吴贝
赵修建
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2007年第4期35-37,51,共4页
研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺。确定了电化学抛光体系的配方。探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响。获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25A/dm2,θ=85~93°C,t=10~15min,机...
研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺。确定了电化学抛光体系的配方。探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响。获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25A/dm2,θ=85~93°C,t=10~15min,机械搅拌。新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础。
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关键词
高纯铝
电化学抛光
AAO模板
硫酸-磺酸-乙二醇
体系
下载PDF
职称材料
题名
AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究
被引量:
2
1
作者
冯晋阳
吴贝
赵修建
机构
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2007年第4期35-37,51,共4页
基金
武汉理工大学科学研究基金(XJJ2005055)
硅酸盐材料工程教育部重点实验室(武汉理工大学)开放课题基金资助项目(SYSJJ2006-12)
文摘
研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺。确定了电化学抛光体系的配方。探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响。获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25A/dm2,θ=85~93°C,t=10~15min,机械搅拌。新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础。
关键词
高纯铝
电化学抛光
AAO模板
硫酸-磺酸-乙二醇
体系
Keywords
high pure aluminum patch
electrochemistry polishing
AAO template
sulfuric acid-phosphoric acidglycol system
分类号
TQ153.5 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究
冯晋阳
吴贝
赵修建
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2007
2
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