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利用高沸物二硅烷中的甲基氯二硅烷制备无氯Si-C-N陶瓷
被引量:
5
1
作者
孟凡君
谭业邦
+3 位作者
刘宗林
茹淼焱
刘爱祥
孟霞
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第1期187-190,共4页
直接法生产甲基氯硅烷的高沸点副产物分离出的甲基氯二硅烷(DS)与八甲基环四硅氮烷反应形成氯硅烷低聚物,经氨解成为聚硅氮烷(PSZ)前躯体,并发现PSZ甲苯溶液为假塑性流体,得到70%(质量)的PSZ甲苯溶液的粘流活化能为18.3kJ/mol。PSZ在110...
直接法生产甲基氯硅烷的高沸点副产物分离出的甲基氯二硅烷(DS)与八甲基环四硅氮烷反应形成氯硅烷低聚物,经氨解成为聚硅氮烷(PSZ)前躯体,并发现PSZ甲苯溶液为假塑性流体,得到70%(质量)的PSZ甲苯溶液的粘流活化能为18.3kJ/mol。PSZ在1100℃高温裂解后,可得到无氯Si-C-N无定型陶瓷,认为该路线是制备高性能Si-C-N陶瓷的最经济的方法之一。
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关键词
Si-C-N陶瓷
高沸物二硅烷
甲基氯二硅烷
聚硅氮烷
流变特性
高温裂解
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职称材料
题名
利用高沸物二硅烷中的甲基氯二硅烷制备无氯Si-C-N陶瓷
被引量:
5
1
作者
孟凡君
谭业邦
刘宗林
茹淼焱
刘爱祥
孟霞
机构
山东大学化学与化工学院
出处
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第1期187-190,共4页
文摘
直接法生产甲基氯硅烷的高沸点副产物分离出的甲基氯二硅烷(DS)与八甲基环四硅氮烷反应形成氯硅烷低聚物,经氨解成为聚硅氮烷(PSZ)前躯体,并发现PSZ甲苯溶液为假塑性流体,得到70%(质量)的PSZ甲苯溶液的粘流活化能为18.3kJ/mol。PSZ在1100℃高温裂解后,可得到无氯Si-C-N无定型陶瓷,认为该路线是制备高性能Si-C-N陶瓷的最经济的方法之一。
关键词
Si-C-N陶瓷
高沸物二硅烷
甲基氯二硅烷
聚硅氮烷
流变特性
高温裂解
Keywords
high-boiling disilane residue
methylchloro
disilane
cyclosilazane
ammonolysis
polysilazane precursor
viscosity-flow activation energy
pyrolysis
Si-C-N ceramic
分类号
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
利用高沸物二硅烷中的甲基氯二硅烷制备无氯Si-C-N陶瓷
孟凡君
谭业邦
刘宗林
茹淼焱
刘爱祥
孟霞
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
5
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