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Preparation and Properties of Cu-Containing High-entropy Alloy Nitride Films by Magnetron Sputtering on Titanium Alloy
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作者 DENG Wanrong YANG Wei +5 位作者 YU Sen LAN Nan MA Xiqun WANG Liqun GAO Wei CHEN Jian 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第6期1586-1594,共9页
Magnetron sputtering deposition with regulated Cu target power was used for depositing Cu-containing high-entropy alloy nitride(Cu-(HEA)N)films on TC4 titanium alloy substrates.The microscopic morphologies,surface com... Magnetron sputtering deposition with regulated Cu target power was used for depositing Cu-containing high-entropy alloy nitride(Cu-(HEA)N)films on TC4 titanium alloy substrates.The microscopic morphologies,surface compositions,and thicknesses of the films were characterized using SEM+EDS;the anti-corrosion,wear resistance and antibacterial properties of the films in simulated seawater were investigated.The experimental results show that all four Cu-(HEA)N films are uniformly dense and contained nanoparticles.The film with Cu doping come into contact with oxygen in the air to form cuprous oxide.The corrosion resistance of the(HEA)N film without Cu doping on titanium alloy is better than the films with Cu doping.The Cu-(HEA)N film with Cu target power of 16 W shows the best wear resistance and antibacterial performance,which is attributed to the fact that Cu can reduce the coefficient of friction and exacerbate corrosion,and the formation of cuprous oxide has antibacterial properties.The findings of this study provide insights for engineering applications of TC4 in the marine field. 展开更多
关键词 titanium alloy high-entropy alloy nitride film magnetron sputtering properties
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Cutting performance of multilayer diamond coated silicon nitride inserts in machining aluminum-silicon alloy 被引量:8
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作者 陈乃超 孙方宏 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第7期1985-1992,共8页
Aluminum-silicon (Al-Si) alloy is very difficult to machine and diamond tools are considered by far the best choice for the machining of these materials. Experimental results in the machining of the Al-Si alloy with... Aluminum-silicon (Al-Si) alloy is very difficult to machine and diamond tools are considered by far the best choice for the machining of these materials. Experimental results in the machining of the Al-Si alloy with diamond coated inserts are presented. Considering the fact that high adhesive strength and fine surface morphology play an importance role in the applications of chemical vapor deposition (CVD) diamond films, multilayer technique combining the hot filament CVD (HFCVD) method is proposed, by which multilayer diamond-coating on silicon nitride inserts is obtained, microcrystalline diamond (MCD)/ nanocrystalline diamond (NCD) film. Also, the conventional monolayer NCD and MCD coated inserts are produced for comparison. The as-deposited diamond films are characterized by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) and Raman spectrum. All the CVD diamond coated inserts and uncoated insert endure the aluminum-silicon alloy turning to estimate their cutting performances. Among all the tested inserts, the MCD/NCD coated insert exhibits the perfect behavior as tool wear due to its very low flank wear and no diamond peeling. 展开更多
关键词 aluminum-silicon alloy multilayer diamond films silicon nitride cutting performance
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Optimizing film thickness to delay strut fracture in high-entropy alloy composite microlattices 被引量:1
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作者 James Utama Surjadi Xiaobin Feng +1 位作者 Wenzhao Zhou Yang Lu 《International Journal of Extreme Manufacturing》 EI 2021年第2期107-112,共6页
Incorporating high-entropy alloys(HEAs) in composite microlattice structures yields superior mechanical performance and desirable functional properties compared to conventional metallic lattices. However, the modulus ... Incorporating high-entropy alloys(HEAs) in composite microlattice structures yields superior mechanical performance and desirable functional properties compared to conventional metallic lattices. However, the modulus mismatch and relatively poor adhesion between the soft polymer core and stiff metallic film coating often results in film delamination and brittle strut fracture at relatively low strain levels(typically below 10%). In this work, we demonstrate that optimizing the HEA film thickness of a CoCrNiFe-coated microlattice completely suppresses delamination,significantly delays the onset of strut fracture(~100% increase in compressive strain),and increases the specific strength by up to 50%. This work presents an efficient strategy to improve the properties of metal-composite mechanical metamaterials for structural applications. 展开更多
关键词 high-entropy alloy microlattice mechanical metamaterials microstructure thin film
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Tailoring the microstructure,mechanical and tribocorrosion performance of (CrNbTiAlV)N_(x) high-entropy nitride films by controlling nitrogen flow 被引量:4
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作者 Cunxiu Zhang Xiaolong Lu +4 位作者 Cong Wang Xudong Sui Yanfang Wang Haibin Zhou Junying Hao 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第12期172-182,共11页
The(CrNbTiAlV)N_(x)high-entropy nitride films were fabricated by adjusting nitrogen flow via magnetron sputtering.The microstructure,mechanical,electrochemical and tribocorrosion performances of the films were studied... The(CrNbTiAlV)N_(x)high-entropy nitride films were fabricated by adjusting nitrogen flow via magnetron sputtering.The microstructure,mechanical,electrochemical and tribocorrosion performances of the films were studied.The results show that the films transform from amorphous to nanocrystalline structure as nitrogen flow increased.The nanocrystalline films show super hardness(>40 GPa)and adhesion strength(>50 N).The amorphous film has a pretty anti-corrosion in static corrosion,while not in tribocorrosion condition.The film deposited at nitrogen flow of 38 sccm exhibits the optimal tribocorrosion performance in artificial seawater,with the highest open circuit potential(∼−0.1 V vs.Ag/AgCl),the lowest friction coefficient(∼0.162)and wear rate(∼7.48×10^(−7)mm^(3)N^(−1)m^(−1)). 展开更多
关键词 high-entropy nitride films Nitrogen flow Tribocorrosion performance Magnetron sputtering
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Magnetron co-sputtering synthesis and nanoindentation studies of nanocrystalline(TiZrHf)_(x)(NbTa)_(1–x)high-entropy alloy thin films 被引量:4
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作者 Changjun Cheng Xiaofu Zhang +1 位作者 Michel J.R.Haché Yu Zou 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2022年第6期4873-4879,共7页
Refractory high-entropy alloys(HEAs)possess many useful properties such as high strength and high-temperature stability.So far,most studies on refractory HEAs have been limited to a few well-known compositions and on ... Refractory high-entropy alloys(HEAs)possess many useful properties such as high strength and high-temperature stability.So far,most studies on refractory HEAs have been limited to a few well-known compositions and on their coarse-grain bulk forms.Here we fabricate nanocrystalline(TiZrHf)_(x)(NbTa)_(1−x)HEA thin films with a large range of compositions(x=0.07–0.90)by the direct current(DC)magnetron co-sputtering technique and measure their mechanical properties using the nanoindentation method.All the as-deposited HEA thin films show a solid-solution body-centered cubic(bcc)structure.As the compositional ratio(x)increases,the elastic modulus decreases from 153 to 123 GPa,following the trend of the rule of mixture.As x increases,the hardness first decreases from 6.5 GPa(x=0.07)to the lowest value(4.6 GPa,x=0.48)and then increases to the highest value(7.1 GPa,x=0.90),showing a concave trend.The change in hardness might be attributed to the combinational influence caused by the atomic size and modulus effects,as well as the texture effect.The authors also propose a few open questions for future studies on this and related HEA systems. 展开更多
关键词 high-entropy alloys nanocrystalline alloys refractory metals thin films magnetron co-sputtering NANOINDENTATION
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Surface modification of plasma nitriding on AlxCoCrFeNi high-entropy alloys 被引量:4
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作者 Jinxiong Hou Wenwen Song +1 位作者 Liwei Lan Junwei Qiao 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第13期140-145,共6页
Plasma nitriding is successfully employed in treating AlxCoCrFeNi high-entropy alloys(HEAs)with finelydivided Al content(i.e.,x values in molar ratio,x=0.1-0.8)to develop wear-resistant structural materials.Nitridatio... Plasma nitriding is successfully employed in treating AlxCoCrFeNi high-entropy alloys(HEAs)with finelydivided Al content(i.e.,x values in molar ratio,x=0.1-0.8)to develop wear-resistant structural materials.Nitridation greatly removes the Al from the matrix that completely deplete the Ni-Al enriched phase,forming nanoscaled nitrides(AIN and CrN)precipitations near the surface.Nitriding promotes the hardness of present alloys with values widely ranging from 276 HV to 722 HV.Interestingly,the higher content the Al,the smaller thickness the nitrides layer,but the higher hardness due to the increased amount of hard nitrides phases and volume fraction of BCC phase.Significantly,plasma nitriding considerably improves the wear re sistance of AlxCoCrFeNi HEAs by 4-18 times. 展开更多
关键词 Plasma nitriding high-entropy alloy Microstructure HARDNESS Wear and tribology
原文传递
电弧离子镀(Ti,Cr)N硬质薄膜的成分、结构与硬度 被引量:7
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作者 陈军 林国强 +2 位作者 陈静 韦江 王富岗 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期555-559,共5页
用 Bulat6型电弧离子镀设备在高速钢表面沉积合成 (Ti,Cr) N硬质薄膜 ,通过改变分离靶弧电流的配置来调节薄膜成分 ,制取了 x =0 .62~ 0 .83的 (Tix Cr1 - x) N薄膜 ;考察了薄膜的成分、结构与硬度间的相互关系 ,明确了 Cr在 Ti N基薄... 用 Bulat6型电弧离子镀设备在高速钢表面沉积合成 (Ti,Cr) N硬质薄膜 ,通过改变分离靶弧电流的配置来调节薄膜成分 ,制取了 x =0 .62~ 0 .83的 (Tix Cr1 - x) N薄膜 ;考察了薄膜的成分、结构与硬度间的相互关系 ,明确了 Cr在 Ti N基薄膜中使硬度提高的合金强化作用 ;结合元素周期律中的基本性质和热力学特征 ,讨论了 Ti、Cr两种元素在 (Ti,Cr) N薄膜的相结构 (fcc) 展开更多
关键词 (Ti Cr)N硬质薄膜 硬度 合金强化 薄膜成分 电弧离子镀 氮化钛铬 薄膜相结构 合成
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Al_(0.3)CrFe_(1.5)MnNi_(0.5)高熵合金氮化物薄膜的微观结构及摩擦磨损性能研究 被引量:4
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作者 王馨 孙勇毅 +2 位作者 李荣斌 汪龙 陈梦蝶 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2015年第12期174-177,181,共5页
采用反应磁控溅射法制备了Al0.3CrFe1.5MnNi0.5高熵合金氮化物薄膜,分析了不同氮气含量反应下薄膜的微观结构,并考察了薄膜的摩擦磨损性能。结果表明:溅射时氮含量(RN)为0%时,薄膜为体心立方结构,RN为10%时,氮化物镀层主相为面心立方... 采用反应磁控溅射法制备了Al0.3CrFe1.5MnNi0.5高熵合金氮化物薄膜,分析了不同氮气含量反应下薄膜的微观结构,并考察了薄膜的摩擦磨损性能。结果表明:溅射时氮含量(RN)为0%时,薄膜为体心立方结构,RN为10%时,氮化物镀层主相为面心立方CrN,且存在其他原子置换CrN的晶格中部分Cr原子而形成固溶体。RN达到15%时,薄膜形成非晶结构,随着RN的增大,薄膜非晶化趋势明显。RN为20%-30%时,氮气的固溶度逐渐达到饱和。高熵合金氮化物薄膜的摩擦系数较合金薄膜有明显提高,在磨耗过程中,能够有效阻止裂纹,抗摩擦磨损性能较合金薄膜均有不同程度的提高。 展开更多
关键词 高熵合金 氮化物薄膜 磁控溅射 微观结构 摩擦磨损
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高熵合金氮化物薄膜的研究进展 被引量:3
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作者 任波 赵瑞锋 刘忠侠 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期44-50,共7页
基于多元高熵合金思想制备的高熵合金氮化物薄膜由于多种元素相互混合,易于产生高熵效应、晶格畸变效应和缓慢扩散效应,使得该新型薄膜体系形成简单的非晶结构和纳米晶结构。依赖于成分和制备工艺,多元高熵合金氮化物薄膜表现出简单的... 基于多元高熵合金思想制备的高熵合金氮化物薄膜由于多种元素相互混合,易于产生高熵效应、晶格畸变效应和缓慢扩散效应,使得该新型薄膜体系形成简单的非晶结构和纳米晶结构。依赖于成分和制备工艺,多元高熵合金氮化物薄膜表现出简单的固溶体结构和优异的性能,因而在许多领域极具应用潜力。综述了高熵合金氮化物薄膜的发展概况、组织特点、性能特征、制备方法和应用前景,并对高熵合金氮化物薄膜的发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 多元高熵合金 氮化物薄膜 微观组织
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双层辉光离子渗金属技术沉积氮化钛薄膜的微观结构研究 被引量:2
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作者 陈首部 韦世良 +1 位作者 何翔 孙奉娄 《中南民族大学学报(自然科学版)》 CAS 2012年第1期66-70,共5页
采用双层辉光离子渗金属技术,在硬质合金基体表面上制备了氮化钛(TiN)薄膜,通过微观结构和显微硬度分析,研究了基体温度对TiN薄膜性能的影响.实验结果表明:所有TiN样品均具有面心立方结构,并且薄膜生长的择优取向、晶粒尺寸、晶面间距... 采用双层辉光离子渗金属技术,在硬质合金基体表面上制备了氮化钛(TiN)薄膜,通过微观结构和显微硬度分析,研究了基体温度对TiN薄膜性能的影响.实验结果表明:所有TiN样品均具有面心立方结构,并且薄膜生长的择优取向、晶粒尺寸、晶面间距、晶格常数和微观硬度等都与基体温度密切相关.当基体温度为650~780℃时,TiN薄膜具有最小的晶粒尺寸(26.9 nm)和最大的显微硬度(2204 HV). 展开更多
关键词 双层辉光离子渗金属技术 氮化钛薄膜 微观结构
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氮化铝表面分层电镀制备金锡共晶薄膜工艺 被引量:1
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作者 牛通 纪乐 +1 位作者 王从香 夏海洋 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2020年第17期1152-1157,共6页
采用分层电镀技术在氮化铝基板上制备了金锡共晶薄膜,主要工序为磁控溅射铜、电镀镍、电镀锡、电镀金和热处理。研究了电镀工艺和热处理的相关因素对金锡共晶膜层性能的影响,得到了可制得Au、Sn质量分数分别为(80±1)%和(20±1)... 采用分层电镀技术在氮化铝基板上制备了金锡共晶薄膜,主要工序为磁控溅射铜、电镀镍、电镀锡、电镀金和热处理。研究了电镀工艺和热处理的相关因素对金锡共晶膜层性能的影响,得到了可制得Au、Sn质量分数分别为(80±1)%和(20±1)%的金锡共晶合金膜的工艺参数。所得共晶膜可焊性良好,剪切强度优异。 展开更多
关键词 金锡共晶合金 电镀 薄膜 氮化铝 热处理 可焊性 剪切强度
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Ni-Cr-Fe系高温合金的渗氮工艺研究 被引量:2
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作者 杨若凡 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期38-40,共3页
对Inconel 718、GH4145、R26三种不同成分的高温合金进行了渗氮处理,采用金相法和硬度梯度法研究了不同化学成分和不同工艺对气体渗氮层深度的影响.结果表明,随着合金中镍含量的增加,渗氮层深度减小,减少幅度达到50%~100%.
关键词 气体渗氮 钝化膜 Ni-Cr-Fe系高温合金
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基板偏压对溅镀AlCrNbSiTiV高熵合金氮化物薄膜性能的影响 被引量:6
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作者 万松峰 许春耀 吴锦城 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期122-128,共7页
用真空电弧熔炼法制备了AlCrNbSiTiV高熵合金,并将其作为靶材,利用直流反应式磁控溅镀法在T1200A金属陶瓷刀具或硅晶片上沉积了高熵合金氮化物薄膜。通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪考察了基板偏压对薄膜形貌、元素含量... 用真空电弧熔炼法制备了AlCrNbSiTiV高熵合金,并将其作为靶材,利用直流反应式磁控溅镀法在T1200A金属陶瓷刀具或硅晶片上沉积了高熵合金氮化物薄膜。通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪考察了基板偏压对薄膜形貌、元素含量、物相成分和性能的影响。所得氮化物薄膜均匀、致密,所有元素的原子分数与靶材相当。由于再溅射,沉积速率随着基板偏压增大而减小。薄膜的弹性恢复和显微硬度在基板偏压为0^-100 V时随着偏压增大而提高,进一步增大偏压反而减小。相比未溅镀薄膜的刀具,用溅镀了AlCrNbSiTiV氮化物薄膜的刀具干切削S45C中碳钢圆柱工件,工件表面的粗糙度和刀具的侧面磨损显著降低。-100 V偏压溅镀的刀具的切削性能最佳。 展开更多
关键词 金属陶瓷刀具 高熵合金 铝铬铌硅钛钒 氮化物薄膜 反应式磁控溅镀 基板偏压 切削
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氮氩比对大功率脉冲磁控溅镀(AlCrNbSiTiV)N薄膜性能的影响 被引量:2
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作者 刘志伟 吴明昌 林宇璇 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2019年第12期568-573,共6页
为探讨高熵氮化合金薄膜对车削刀具性能的提升及其应用潜力,采用高功率脉冲反应磁控溅镀(HIPIMS)技术在车刀刀片(TNMG160404R-UM T1200A)表面制作了(AlCrNbSiTiV)N薄膜,探讨不同氮氩气比(0%、5%、10%、15%或20%)对(AlCrNbSiTiV)N薄膜的... 为探讨高熵氮化合金薄膜对车削刀具性能的提升及其应用潜力,采用高功率脉冲反应磁控溅镀(HIPIMS)技术在车刀刀片(TNMG160404R-UM T1200A)表面制作了(AlCrNbSiTiV)N薄膜,探讨不同氮氩气比(0%、5%、10%、15%或20%)对(AlCrNbSiTiV)N薄膜的机械性能与微观结构的影响。采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜的厚度、沉积速率、元素成分和相结构进行分析,用纳米压痕法测试了薄膜的硬度和弹性恢复性能。考察了车削工件表面的粗糙度和刀腹磨耗情况。实验表明,提升氮氩比会令薄膜沉积速率降低,硬度提高。在氮氩比为20%时,硬度达到40.02 GPa。溅镀(AlCrNbSiTiV)N薄膜的弹性恢复率达76.87%以上。镀膜刀具的刀腹磨耗量和工件表面粗糙度均有非常明显的降低。 展开更多
关键词 高熵合金 氮化物 薄膜 高功率脉冲反应磁控溅镀 干式切削 刀腹磨耗
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高熵合金AlCrNbSiTiV氮化物薄膜溅镀参数的优化 被引量:2
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作者 万松峰 许春耀 张钰乾 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2018年第15期677-682,共6页
以AlCrNbSiTiV为靶材,用反应式磁控溅镀系统分别在住友BNX20刀具和硅晶片上沉积高熵合金氮化物(AlCrNbSiTiV)N薄膜。采用田口方法的L9(34)正交表考察了沉积时间、基材偏压、溅射功率和基材温度对沉积速率、薄膜硬度和刀具寿命的影响,通... 以AlCrNbSiTiV为靶材,用反应式磁控溅镀系统分别在住友BNX20刀具和硅晶片上沉积高熵合金氮化物(AlCrNbSiTiV)N薄膜。采用田口方法的L9(34)正交表考察了沉积时间、基材偏压、溅射功率和基材温度对沉积速率、薄膜硬度和刀具寿命的影响,通过方差分析(ANOVA)确定了影响各性能的主要因素。对信噪比(S/N)进行灰关联分析以实现多目标优化,得出最佳工艺参数为:沉积时间20min,基材偏压-100V,溅射功率250W,基材温度400°C。在该条件下,沉积速率为17.28nm/min,薄膜硬度达到2814HV,刀具寿命2.50m。 展开更多
关键词 高熵合金 氮化物 薄膜 刀具 直流反应式磁控溅射 田口方法 灰关联分析 多目标优化
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多元氮化物薄膜及其沉积工艺对Ni Ti记忆合金性能和组织的影响
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作者 谢致薇 白晓军 +7 位作者 王国庆 杨元政 廖志明 匡同春 成晓玲 冉炜 郭冰 舒大龙 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期905-908,共4页
采用真空阴极电弧沉积技术,在NiTi记忆合金表面沉积了TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜,研究了薄膜成份及沉积工艺对NiTi合金性能和组织的影响。结果表明,在NiTi合金表面沉积TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜均可降低合金在Han... 采用真空阴极电弧沉积技术,在NiTi记忆合金表面沉积了TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜,研究了薄膜成份及沉积工艺对NiTi合金性能和组织的影响。结果表明,在NiTi合金表面沉积TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜均可降低合金在Hank溶液中的Ni溶出速率,其中多元膜的Ni溶出速率最小;提高偏压对沉积了TiAlBN多元膜的NiTi合金的Ni溶出速率无明显影响,但使沉积了TiAlCrFeSiBN膜的NiTi合金的Ni溶出速率降低。在TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜表面存在较多细小的钛滴和孔隙,钛滴与薄膜基体之间的融合良好;在TiN薄膜表面存在一些大钛滴和孔隙,钛滴与薄膜基体之间的融合不好。镀膜后,NiTi基体的加热相变点移向低温区,其幅度与薄膜成份及沉积工艺有关,提高偏压使沉积了两种多元膜的NiTi基体的相变点移动幅度增大,但却使沉积了TiN膜的NiTi基体的相变点的移动幅度减小。镀膜过程均使NiTi中的M体尺寸增大。 展开更多
关键词 多元氮化物薄膜 NITI形状记忆合金 差示扫描量热法(DSC) Ni溶出
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磁控溅射硅氮类保护膜摩擦性能的分析与表征
17
作者 石志锋 宁成云 王迎军 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2017年第13期679-683,共5页
采用四靶直流非平衡磁控溅射技术在Co–28Cr–6Mo合金表面沉积了硅氮(SiN)薄膜。借助接触角仪、纳米压痕仪以及摩擦磨损试验机考察了基体偏压对硅氮薄膜表面自由能的影响,并评价了它们的机械性能和摩擦学行为。硅氮薄膜是一类具有两性... 采用四靶直流非平衡磁控溅射技术在Co–28Cr–6Mo合金表面沉积了硅氮(SiN)薄膜。借助接触角仪、纳米压痕仪以及摩擦磨损试验机考察了基体偏压对硅氮薄膜表面自由能的影响,并评价了它们的机械性能和摩擦学行为。硅氮薄膜是一类具有两性分子特性的功能材料,表现出良好的湿环境摩擦学性能,是极具潜力的水介质润滑生物机械薄膜。随着基体负偏压增加,薄膜在胎牛血清稀释液中的摩擦因数急剧下降。 展开更多
关键词 钴铬钼合金 硅氮薄膜 磁控溅射 表面自由能 摩擦学行为
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碳氮膜涂层刀具干切削性能的试验研究
18
作者 杨海东 张崇高 谢峰 《机械工程师》 2003年第9期33-34,共2页
通过用碳氮膜涂层刀具对含硅量不同的硅铝合金进行干切削试验,研究了氮化碳涂层刀具的切削性能。
关键词 碳氮膜 涂层刀具 干切削 硅铝合金
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磁控溅射制备AlCrWTaTiNb高熵合金薄膜低温等离子体氮化 被引量:6
19
作者 马铭 任瑛 +2 位作者 侯晓多 陈国清 张贵锋 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期28-34,共7页
采用磁控溅射技术沉积了AlCrWTaTiNb多元高熵合金薄膜,在400℃以下采用高密度等离子体设备对沉积的薄膜进行了氮化处理.用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜和纳米压痕对氮化后薄膜的微观结构、表面形貌以及力学性能进行了分析.结果表明,高... 采用磁控溅射技术沉积了AlCrWTaTiNb多元高熵合金薄膜,在400℃以下采用高密度等离子体设备对沉积的薄膜进行了氮化处理.用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜和纳米压痕对氮化后薄膜的微观结构、表面形貌以及力学性能进行了分析.结果表明,高熵效应有利于降低氮化温度,最低氮化温度仅为200℃,所有的(AlCrWTaTiNb)N薄膜晶体结构呈现简单的FCC结构,且具有(111)择优取向.随着氮化温度的增加,(AlCrWTaTiNb)N复合薄膜的显微硬度、弹性模量和对应的H3/E2均增大,氮化温度为300℃时,达到最大,随后略微下降.随氮化时间的延长,显微硬度和弹性模量均逐渐增加. 展开更多
关键词 多元高熵合金薄膜 低温渗氮 力学性能
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Ti6Al4V表面激光改性层重熔处理的微观组织特征及宽温域摩擦学性能研究 被引量:4
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作者 成前前 万善宏 +2 位作者 易戈文 张鹏林 王文珍 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期470-481,共12页
采用激光复合工程技术对Ti6Al4V基体表面进行强化耐磨处理,首先在Ti6Al4V合金表面进行激光氮化[Ti(N)]和氮氧化[Ti(N,O)]处理,然后在纯氩气气氛中分别对Ti(N)层和Ti(N,O)层进行激光重熔处理,制备了组织分布更为均匀的重熔氮化层[Re-Ti(... 采用激光复合工程技术对Ti6Al4V基体表面进行强化耐磨处理,首先在Ti6Al4V合金表面进行激光氮化[Ti(N)]和氮氧化[Ti(N,O)]处理,然后在纯氩气气氛中分别对Ti(N)层和Ti(N,O)层进行激光重熔处理,制备了组织分布更为均匀的重熔氮化层[Re-Ti(N)]和重熔氮氧化层[Re-Ti(N,O)].组织结构分析揭示了Re-Ti(N)层主要由富氮αˊ-Ti和TiNx组成,而Re-Ti(N,O)层则主要由富氧αˊ-Ti和TiN_(x)O_(y)组成.相对于Ti6Al4V基体,Re-Ti(N)层和Re-Ti(N,O)层的硬度、弹性模量和磨损量降低了2倍以上,然而激光复合处理前后材料均表现出较大的摩擦系数.相对于ReTi(N)层,氧原子的加入,不仅能够有效细化组织和提升强韧度,而且显著抑制了摩擦界面的黏着磨损.通过磨屑结构分析进一步验证了基体黏着磨损机制和重熔改性层磨粒磨损机制. 展开更多
关键词 钛合金 激光渗氮 表面改性 摩擦磨损 氧化膜
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