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在高纯氧氯化锆制取过程中絮凝剂对“二次除硅”的影响 被引量:5
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作者 邓淑华 郑文裕 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期85-87,共3页
高纯氧氯化锆是制取高纯锆化学品的重要原材料,目前国内外多采用锆英石为原料碱熔法生产,硅的去除分两步进行:第1步是用水浸洗碱熔分解产物,大约有85%~90%的硅以硅酸钠的形式进入水浸液,余下SiO2需要“二次除硅”.因... 高纯氧氯化锆是制取高纯锆化学品的重要原材料,目前国内外多采用锆英石为原料碱熔法生产,硅的去除分两步进行:第1步是用水浸洗碱熔分解产物,大约有85%~90%的硅以硅酸钠的形式进入水浸液,余下SiO2需要“二次除硅”.因此,要生产高纯产品,“二次除硅”是... 展开更多
关键词 高纯氧氯化锆 除硅 絮凝剂 聚丙烯酰胺 氧氯化锆
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