表面无小丘Al双层栅电极结构研究

利用ＤＳＣ方法研究了纯铝薄膜中的小丘现象，同时制备了Ａｌ双层栅电极Ｔａ／Ａｌ、Ｃｒ／Ａｌ和Ｍｏ／Ａｌ薄膜，并在不同温度下进行了退火处理，研究了双层结构中上层金属（Ｔａ、Ｃｒ和Ｍｏ）厚度对Ａｌ薄膜中小丘的抑制作用。实验结果表明，上层Ｔａ膜厚度在８０～９０ｎｍ左右（在本实验条件下）时，可得到表面无小丘的Ｔａ／Ａｌ薄膜栅材料。实验制备的表面无小丘 Ｔａ／Ａｌ、 Ｃｒ／Ａｌ和 Ｍｏ／Ａｌ等栅电极材料的电阻率均在 ７～２０μΩ·ｃｍ之间，基本满足现今对角线为 ２５～５１ｃｍ（１０～２０ｉｎ）大屏幕、高清晰度ＴＦＴ ＬＣＤ要求。