期刊文献+
共找到4篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Different Shapes of Nano-ZnO Crystals Grown in Catalyst-Free DC Plasma
1
作者 霍纯青 张跃飞 +2 位作者 刘福平 陈强 孟月东 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第5期564-568,共5页
Nano-ZnO crystals grown in hollow-cathode discharge (HCD) driven by direct current (DC) power on p-silicon (100) substrates were presented. With Ar as the diluted gas, 02 as the reactive gas and high purity zinc... Nano-ZnO crystals grown in hollow-cathode discharge (HCD) driven by direct current (DC) power on p-silicon (100) substrates were presented. With Ar as the diluted gas, 02 as the reactive gas and high purity zinc powder as the metallic source, the nano-ZnO structure was grown in a catalyst-free process. The crystal ZnO morphology was measured by scanning electron microscopy (SEM). Photoluminescence (PL) spectroscopy was employed to evaluate the crystal nano-ZnO's properties. Effect of several parameters, such as the temperature, 02 ratio, deposition time and polarity during nanostructure growth, was also investigated. 展开更多
关键词 hollow cathode discharge zno property
下载PDF
离子镀Ti(Al)N涂层的结构与耐蚀性 被引量:7
2
作者 于力 郎丰群 +2 位作者 于志明 徐家寅 金柱京 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 1999年第2期84-88,共5页
用空心阴极离子镀制备了Ti(Al)N和TiN涂层.0.5mol/L的H2SO4溶液中极化曲线结果表明,Ti(Al)N涂层的耐蚀性优于TiN涂层.电子探针(EPMA)、X射线衍射和扫描电镜(SEM)等分析了Ti(Al)... 用空心阴极离子镀制备了Ti(Al)N和TiN涂层.0.5mol/L的H2SO4溶液中极化曲线结果表明,Ti(Al)N涂层的耐蚀性优于TiN涂层.电子探针(EPMA)、X射线衍射和扫描电镜(SEM)等分析了Ti(Al)N涂层的元素分布特征及组织结构:Al元素在界面处富集,呈连续带状分布,并以单质状态存在;与单一TiN涂层相比,Ti(Al)N涂层为不贯穿的更致密的柱状晶和纤维状组织结构.对涂层组织结构与耐蚀性进行了探讨. 展开更多
关键词 涂层 离子镀 组织结构 耐蚀性 氧化钛 氧化铝
下载PDF
偏压对自源笼形空心阴极放电制备Si-DLC薄膜结构和性能的影响 被引量:6
3
作者 孙薇薇 田修波 +3 位作者 李慕勤 吴明忠 巩春志 田钦文 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期69-79,共11页
针对利用笼形空心阴极放电在大工件表面制备DLC薄膜时,笼网内大工件操作困难、大工件影响放电的问题,开发了自源笼形空心阴极放电方法,在不同偏压(-300~0 V)条件下于Si(100)表面制备了Si-DLC薄膜,考察了偏压对Si-DLC薄膜结构和性能的影... 针对利用笼形空心阴极放电在大工件表面制备DLC薄膜时,笼网内大工件操作困难、大工件影响放电的问题,开发了自源笼形空心阴极放电方法,在不同偏压(-300~0 V)条件下于Si(100)表面制备了Si-DLC薄膜,考察了偏压对Si-DLC薄膜结构和性能的影响。结果表明:获得Si-DLC的沉积速率达到7.90μm/h。由偏压引起的高能离子轰击使薄膜的组织结构更为致密,降低了表面粗糙度和H含量。Si-DLC薄膜中的sp3/sp2值随偏压增加先上升后下降,薄膜纳米压入硬度和弹性模量也呈现相同规律。偏压为-200 V沉积的Si-DLC薄膜具有最高的sp3/sp2(0.69)、H/E和H3/E2值,表现出致密的结构和优异的摩擦性能,摩擦因数低至0.024,磨损率为1×10^-6 mm^3/Nm。说明自源笼形空心阴极放电是一种有效制备大面积DLC膜的工艺,-200 V偏压是最优化的参数。 展开更多
关键词 自源笼形空心阴极放电 Si-DLC 偏压 显微结构 力学性能 摩擦学性能
下载PDF
纯钛表面辉光放电W-Mo共渗层的显微结构及力学性能
4
作者 赵云 陈飞 周海 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第1期56-61,共6页
利用空心阴极等离子放电表面合金化技术,在低于纯钛相变温度(882℃)下,在纯Ti表面进行W-Mo二元共渗。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析了合金渗层的显微结构及物相组成,利用HMV-1T型显微硬度计测试了试样的表面和截面硬度... 利用空心阴极等离子放电表面合金化技术,在低于纯钛相变温度(882℃)下,在纯Ti表面进行W-Mo二元共渗。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析了合金渗层的显微结构及物相组成,利用HMV-1T型显微硬度计测试了试样的表面和截面硬度,并用静拉伸试验分析了W-Mo共渗前后试样的力学性能。结果表明,纯Ti在经过辉光放电W-Mo共渗处理后,在其表面形成了厚度为15μm的WMo合金层,合金渗层致密,无显微裂纹,并与基体结合良好。处理后的试样中最大的抗拉强度为546 MPa,比原始试样提升了49%,表面最大的显微硬度为1 196HV0.1,较原始试样增加了6.85倍。纯Ti经过WMo二元共渗后,其表面硬度增加,抗拉强度增加,表面的力学性能得到改善。 展开更多
关键词 工业纯钛 空心阴极 等离子体辉光放电 W—Mo共渗层 显微结构 力学性能
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部