沉积气压对CVD金刚石涂层质量的影响

沉积气压对CVD金刚石涂层沉积的质量有着重要的影响。实验采用单一变量法,在其他工艺参数一定的条件下,考察了不同沉积气压下涂层的质量。利用扫描电镜、Raman光谱仪、洛氏硬度计分别对样品的表面形貌、成分、涂层结合力进行测定。结果表明:沉积气压过低或过高都不利于涂层的生长。对于两步法,当控制碳源体积浓度为2%、沉积功率4 kW、热丝与基体的距离为5 mm时,最佳的反应气压为3 kPa,沉积后的涂层质量能达到最佳。