期刊文献+
共找到26篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
基于ECE法规及I线的纯电动汽车制动能量回收策略研究 被引量:19
1
作者 李胜琴 汤亚平 《武汉理工大学学报(交通科学与工程版)》 2020年第1期75-80,共6页
针对某纯电动汽车,基于ECE法规曲线和I线,设计前后轴制动力分配策略,进行制动能量回收控制策略研究.采用模糊控制的方法,考虑电池的充电功率限制,对电机的再生制动力矩进行修正,依据不同制动强度设计电机的再生制动力与前轴制动力的比... 针对某纯电动汽车,基于ECE法规曲线和I线,设计前后轴制动力分配策略,进行制动能量回收控制策略研究.采用模糊控制的方法,考虑电池的充电功率限制,对电机的再生制动力矩进行修正,依据不同制动强度设计电机的再生制动力与前轴制动力的比例分配,制定再生制动和摩擦制动的制动力分配及制动能量回收控制策略.利用Simulink和Cruise软件建立联合车辆及能量回收控制策略仿真模型,在不同强度制动工况和NEDC循环工况下,对本文的制动能量回收控制策略进行验证.结果表明,本文所提出的控制策略符合制动稳定性的要求,前后轴制动力分配曲线符合制动特性,能够有效的回收制动能量,提高电池SOC,增加电动汽车的续航里程. 展开更多
关键词 制动能量回收 模糊控制 i线 ECE法规 联合仿真
下载PDF
i线光学光刻技术及其发展潜力 被引量:1
2
作者 孙再吉 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1999年第4期438-447,共10页
综述和分析了i线光学光刻技术的现状和发展。指出结合移相掩模技术和离轴照明技术,可在确保焦深的基础上大幅度提高成像分辨率。
关键词 i线光学光刻 移相掩模 半导体器件 微细加工
下载PDF
0.7微米i线分步重复投影光刻曝光系统研制 被引量:1
3
作者 陈旭南 姚汉民 +1 位作者 林大键 刘业异 《微细加工技术》 1997年第4期1-7,共7页
本文介绍0.7μm线分步重复投影光刻曝光系统的技术指标、系统设计、研制中解决的关键单元技术和研制结果。结果表明工作波长365nm,缩少倍率5倍.曝光视场15mm×15mm.光刻工作分辨力0.6μm,并具有双路暗场同轴对准.又能精确分... 本文介绍0.7μm线分步重复投影光刻曝光系统的技术指标、系统设计、研制中解决的关键单元技术和研制结果。结果表明工作波长365nm,缩少倍率5倍.曝光视场15mm×15mm.光刻工作分辨力0.6μm,并具有双路暗场同轴对准.又能精确分步投影光刻的曝光系统已研制成功。 展开更多
关键词 0.7微米i线 微电子技术 光刻曝光系统
下载PDF
i线(365nm)分步投影光刻机曝光系统 被引量:2
4
作者 李尧 《电子工业专用设备》 2001年第4期7-11,共5页
主要介绍了一种结构新颖的光学曝光系统 ,对光路的结构、原理、特点以及关键技术作了详细的论述 。
关键词 i线曝光系统 分步投影 光刻机
下载PDF
FPA—2000i1型i线步进机
5
作者 郑国强 《电子工业专用设备》 1991年第3期57-61,共5页
FPA—2000il型i线步进机是日本佳能公司生产的用于16MDRAM批量生产的机型。该装置配备了数值孔径为0.52、曝光面积为加20mm见方的i谱线透镜。16MDRAM的设计规范约为0.5μm。FPA一2000il型机具有0.5μm的分辨率,是满足0.5μm工艺时代的... FPA—2000il型i线步进机是日本佳能公司生产的用于16MDRAM批量生产的机型。该装置配备了数值孔径为0.52、曝光面积为加20mm见方的i谱线透镜。16MDRAM的设计规范约为0.5μm。FPA一2000il型机具有0.5μm的分辨率,是满足0.5μm工艺时代的大数值孔径i线步进机。 展开更多
关键词 LSI 光刻 i线步进机 曝光 透镜
下载PDF
0-30μmi线光刻的精确套准控制
6
作者 Keun-YoungKim 葛劢冲 《电子工业专用设备》 1999年第4期42-46,共5页
由掩模、步进机、光刻工艺和计量仪器产生的误差影响着光刻套准。为此,推出一种检查掩模自身精度的新方法,它能为圆片加工提供更实用的基准,并可反映出其它误差量。研究表明,掩模厚度是决定掩模上图形位置精度的一个关键因素。衬底越厚... 由掩模、步进机、光刻工艺和计量仪器产生的误差影响着光刻套准。为此,推出一种检查掩模自身精度的新方法,它能为圆片加工提供更实用的基准,并可反映出其它误差量。研究表明,掩模厚度是决定掩模上图形位置精度的一个关键因素。衬底越厚,自身的畸变越小,掩模制作中连续加工引起的变形越小。尽管厚衬底掩模的像场几乎比薄衬底大1 倍,但6-35 m m 厚度石英衬底掩模的置位图形比2-29 m m 厚度的更准确。离轴照明(OAI) 是影响套准的另一原因,它可引发镜头像差,通过芯片倍率和旋转控制可以补偿这种误差。接触孔制作的套准控制非常重要,但相当困难,多层构造的接触孔套准控制更难。目前试制了一种分别控制x、y 向套准的方法。 展开更多
关键词 套准控制 光刻 i线光刻 重合度 掩膜
下载PDF
一种新型的I线和DUV线步进机的设计思路
7
作者 Unge.,R 《LSI制造与测试》 1995年第2期27-37,共11页
本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率... 本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率可达0.5μm,而DUV机实用分辨率为0.35μm。结合这些设备的设计,特别是从对准区域、调焦、INSITU计量、自动校准和诊断效用方面,简述了步进机的曝光技术。该设备新添的特点。 展开更多
关键词 i线 DUV线 步进机 微细曝光设备 设计
下载PDF
0.5μm光刻采用大数值孔径i线步进机
8
作者 Arno.,WH 葛励冲 《电子工业专用设备》 1997年第3期42-50,共9页
采用几种实用i线抗蚀剂,048NAi线5×镜头具有05μm线间对成像能力,焦深大于1μm。这种镜头与040NA的i线镜头对比,040NA的i线镜头对于≥07μm的线间对图形具有较好的焦深,而048NA... 采用几种实用i线抗蚀剂,048NAi线5×镜头具有05μm线间对成像能力,焦深大于1μm。这种镜头与040NA的i线镜头对比,040NA的i线镜头对于≥07μm的线间对图形具有较好的焦深,而048NAi线镜头对于<07μm的线间对图形具有较好的焦深,并且可将截止分辨率延伸到035μm。并探讨了这种镜头吸热效应的相对不灵敏性和这种镜头内He气体的过压作用。假设模拟制作05μm线间对图形的最佳数值孔径在05~055之间,进而提出对04μm线间对图形具有足够焦深,使得i线光刻成为DUV光刻技术生产64MDRAM器件时代的竞争者。 展开更多
关键词 光刻技术 i线步进机 镜头
下载PDF
i线投影光刻曝光系统的光学设计 被引量:3
9
作者 林大键 李展 周崇喜 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期347-351,共5页
叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足i线光刻所需的光学传递函数要求,讨论了光刻分辨率和数值孔径的关系。设计了一种新的双远心投影物镜,其数值孔径NA=0.42,放大倍率M=-1/... 叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足i线光刻所需的光学传递函数要求,讨论了光刻分辨率和数值孔径的关系。设计了一种新的双远心投影物镜,其数值孔径NA=0.42,放大倍率M=-1/5,像场尺寸15mm×15mm(直径21·2mm),共轭距L=602mm。用光学设计程序ZEMAX-XE计算此i线物镜的像质。设计结果说明,整个视场内波差<λ/4,MTF>0.55,当空间频率为715pairlines/mm,使用波长为365士3nm时。可以实现0.7μm光刻分辨率;照明均匀器,由81个小方型透镜组成一方列阵。用本文模拟计算软件OPENG计算被照像平面上的光能分布,说明实际系统的照明不均匀性为土2%。 展开更多
关键词 光学设计 光刻 i线镜头 投影光刻 曝光系统
原文传递
观察针刺额旁Ⅰ线、神门为主治疗失眠的临床疗效 被引量:3
10
作者 张亚楠 《中医临床研究》 2015年第23期48-50,共3页
目的:观察以针刺额旁Ⅰ线、神门为主治疗失眠的临床疗效。方法:将56例失眠患者随机分为治疗组和对照组,治疗组以针刺额旁Ⅰ线、神门为主,配合辨证取穴治疗;对照组采用舒乐安定治疗。结果:治疗组痊愈14例,显效11例,有效2例,无效1例,总有... 目的:观察以针刺额旁Ⅰ线、神门为主治疗失眠的临床疗效。方法:将56例失眠患者随机分为治疗组和对照组,治疗组以针刺额旁Ⅰ线、神门为主,配合辨证取穴治疗;对照组采用舒乐安定治疗。结果:治疗组痊愈14例,显效11例,有效2例,无效1例,总有效率为96.43%;对照组痊愈6例,显效9例,有效5例,无效8例,总有效率为71.43%。两组经比较差异有显著性(P<0.05)。结论:以针刺额旁Ⅰ线、神门为主治疗失眠疗效肯定,值得临床推广应用。 展开更多
关键词 额旁i线 神门 失眠
下载PDF
新技术在750kV示范工程输电线路中的应用
11
作者 马超 何庆 《青海电力》 2012年第2期25-29,48,共6页
西北750 kV输变电示范工程的重要组成部分—750 kV官东I线,不断采用新技术引入到日常输电线路的运行管理中,为示范工程长期安全稳定运行起到了重要作用,为今后750 kV输电线路实现状态检修奠定了基础。
关键词 750 KV示范工程 750 kV官东i线 新技术 运行管理
下载PDF
移相掩模技术改进了i-线光刻的分辨率
12
作者 钱小工 《半导体情报》 1992年第1期53-56,共4页
在目前的64MbDRAM及不久的将来256MbDRAM的研制中,要求能描绘0.5μm以下,即亚半微米的特征尺寸,电子束和x射线光刻已被研究用于这些目的。另外,缩小投影曝光技术由于其适用性广及产量高,也将成为制造具有亚半微米特征尺寸的DRAM的主要... 在目前的64MbDRAM及不久的将来256MbDRAM的研制中,要求能描绘0.5μm以下,即亚半微米的特征尺寸,电子束和x射线光刻已被研究用于这些目的。另外,缩小投影曝光技术由于其适用性广及产量高,也将成为制造具有亚半微米特征尺寸的DRAM的主要方法。 展开更多
关键词 移相掩模 i线 光刻 分辨率 光刻机
下载PDF
嵌入式系统I^2C总线及设备的uClinux驱动程序设计
13
作者 吴旭 《集成电路应用》 2005年第8期44-46,共3页
I^2C总线是Philips公司开发的一种二线低速串行总线。在嵌入式系统中I^2C总线的硬件实现有多种方式。uClinux对I^2C总线及设备设计了一套驱动程序,它分为多个模块,其中部分模块与硬件无关。对某个特定嵌入式系统,I^2C驱动程序设计主要... I^2C总线是Philips公司开发的一种二线低速串行总线。在嵌入式系统中I^2C总线的硬件实现有多种方式。uClinux对I^2C总线及设备设计了一套驱动程序,它分为多个模块,其中部分模块与硬件无关。对某个特定嵌入式系统,I^2C驱动程序设计主要集中在与硬件相关的几个模块,各模块一般是根据硬件具体情况实现特定的数据结构并初始化。每个模块功能不同,可以分别进行设计,并且不影响其它模块。全部程序共同作用,能实现对I^2C总线及设备的操作。 展开更多
关键词 程序设计 UCLINUX 驱动程序 嵌入式系统 I^2C总线
下载PDF
0.5μm AlGaN/GaN HEMT及其应用 被引量:5
14
作者 任春江 王泉慧 +7 位作者 刘海琪 王雯 李忠辉 孔月婵 蒋浩 钟世昌 陈堂胜 张斌 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期433-437,共5页
报道了采用I线步进光刻实现的76.2 mm SiC衬底0.5μm GaN HEMT。器件正面工艺光刻均采用了I线步进光刻来实现,背面用通孔接地。栅脚介质刻蚀采用一种优化的低损伤RIE刻蚀方法实现了60°左右的侧壁倾斜角,降低了栅脚附近峰值电场强度... 报道了采用I线步进光刻实现的76.2 mm SiC衬底0.5μm GaN HEMT。器件正面工艺光刻均采用了I线步进光刻来实现,背面用通孔接地。栅脚介质刻蚀采用一种优化的低损伤RIE刻蚀方法实现了60°左右的侧壁倾斜角,降低了栅脚附近峰值电场强度,提高器件性能和可靠性。研制的GaN HEMT器件fT为15 GHz,fmax为24 GHz,6 GHz下的MSG为17 dB,满足C波段及以下频段应用要求。对1.25 mm栅宽GaN HEMT在2 GHz、28 V工作电压下的负载牵引,最佳功率匹配的功率附加效率66%,对应输出功率以及功率增益分别为38.0 dBm和17.3 dB。对大栅宽GaN HEMT器件的版图进行了优化以利于散热,并将其应用于输出功率60 W的L波段功率模块末级开发。 展开更多
关键词 i线步进光刻 铝镓氮/氮化镓 高电子迁移率晶体管 场板 难熔栅
下载PDF
利用RELACS辅助技术制作“T”型栅 被引量:1
15
作者 付兴昌 胡玲 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第8期748-750,共3页
利用RELACS化学收缩辅助技术制作了i线三层胶结构的"T"型栅。首先利用水溶性的化学收缩试剂RELACS,涂在曝光完成的光刻图形上,然后借由混合烘焙让光刻胶中的光酸分子因受热而产生扩散运动并进入到RELACS试剂内,催化RELACS试剂... 利用RELACS化学收缩辅助技术制作了i线三层胶结构的"T"型栅。首先利用水溶性的化学收缩试剂RELACS,涂在曝光完成的光刻图形上,然后借由混合烘焙让光刻胶中的光酸分子因受热而产生扩散运动并进入到RELACS试剂内,催化RELACS试剂,让RELACS试剂中的高分子与交链分子产生交链反应,使得光刻胶表面形成新的一层不溶于水的交链层而达到光刻图形收缩的目的。此方法增加了细栅光刻的宽容度,降低了细栅光刻制作的难度,极易将0.5μm的栅条收缩到0.3μm,甚至更小,不但有效地减小了栅长,而且提高了细栅光刻的成品率。RELACS技术可以应用于不同光刻胶类型的"T"型栅制作中。 展开更多
关键词 分辨率增强光刻辅助化学收缩 “T”型栅 i线光刻胶 三层胶结构
下载PDF
实用型放电泵浦XeF(B-X)准分子激光器
16
作者 王庆胜 余吟山 +4 位作者 王效顺 游利兵 梁勖 李会 方晓东 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1143-1146,共4页
研制了一台实用型放电泵浦的351 nm XeF(B-X)准分子激光器,激光器采用新型开关电源、结构紧凑型张氏电极及放电火花预电离的激光腔结构,通过优化储能电容和放电电容量及比值,选取合理的工作气体压力和配比,优化了激光器性能,提高了激光... 研制了一台实用型放电泵浦的351 nm XeF(B-X)准分子激光器,激光器采用新型开关电源、结构紧凑型张氏电极及放电火花预电离的激光腔结构,通过优化储能电容和放电电容量及比值,选取合理的工作气体压力和配比,优化了激光器性能,提高了激光器输出参数:单脉冲能量153 mJ,平均功率12.9 W,转换效率最高达到0.88%,重复频率1~80 Hz,能量不稳定度小于4%,近场光斑尺寸7 mm×22 mm。激光器已应用到常规抗蚀剂曝光的印刷电路板(PCB)激光投影成像照明系统的实验中。 展开更多
关键词 准分子激光器 XEF 开关电源 i线 印刷电路板
下载PDF
0.25μm高精度T型栅制作工艺研究
17
作者 孙希国 崔玉兴 付兴昌 《电子工艺技术》 2015年第4期222-224,共3页
基于双层胶i线光刻工艺,对0.25μm T型栅制作技术进行了优化,采用Relacs工艺处理方法缩短了栅长,满足了栅长精度要求,通过工艺优化解决了双层胶之间不同胶层间的互溶问题。通过优化制作流程,形成了工艺规范,解决了工艺中存在的一致性及... 基于双层胶i线光刻工艺,对0.25μm T型栅制作技术进行了优化,采用Relacs工艺处理方法缩短了栅长,满足了栅长精度要求,通过工艺优化解决了双层胶之间不同胶层间的互溶问题。通过优化制作流程,形成了工艺规范,解决了工艺中存在的一致性及稳定性差的问题,最终采用双层胶工艺制作成功形貌良好的0.25μm高精度T型栅。工艺优化结果表明,与其他0.25μm T型栅制作工艺方法相比,双层胶i线光刻工艺具有制作效率高和精度高的优点,基于其制作的T型栅结构有利于金属淀积和剥离,栅根及栅帽形貌良好,为Ga As及Ga N微波器件及MMIC制作提供了可靠的工艺技术。 展开更多
关键词 双层胶 i线 Relacs工艺 光刻 T型栅
下载PDF
Necessary and Sufficient Conditions in Smooth Programming with Generalized Convexity 被引量:1
18
作者 孙清滢 叶留青 《Chinese Quarterly Journal of Mathematics》 CSCD 2000年第4期33-37,共5页
Hanson and Mond have grven sets of necessary and sufficient conditions for optimality in constrained optimization by introducing classes of generalized functions, called type Ⅰ functions. Recently, Bector definded un... Hanson and Mond have grven sets of necessary and sufficient conditions for optimality in constrained optimization by introducing classes of generalized functions, called type Ⅰ functions. Recently, Bector definded univex functions, a new class of functions that unifies several concepts of generalized convexity. In this paper, additional conditions are attached to the Kuhn Tucker conditions giving a set of conditions which are both necessary and sufficient for optimality in constrained optimization, under appropriate constraint qualifications. 展开更多
关键词 necessary and sufficient conditions generalized convexity nonlinear programming multiobjective programming type functions
下载PDF
The Convergence Characteristic of the Forward I-V Characteristic Curves of a Semiconductor Silicon Barrier at Different Temperatures
19
作者 苗庆海 卢烁今 +2 位作者 张兴华 宗福建 朱阳军 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期663-667,共5页
The /-V-(T) characteristic curves of p-n junctions with the forward voltage as the independent variable, the logarithm of forward current as the dependent variable, and the junction temperature as the parameter, alm... The /-V-(T) characteristic curves of p-n junctions with the forward voltage as the independent variable, the logarithm of forward current as the dependent variable, and the junction temperature as the parameter, almost converge at one point in the first quadrant. The voltage corresponding with the convergence point nearly equals the bandgap of the semiconductor material. This convergence point can be used to obtain the I-V characteristic curve at any temperature. 展开更多
关键词 semiconductor barrier bandgap convergent point forward I-V characteristic curves
下载PDF
Direct adaptive fuzzy control based on integral-type Lyapunov function 被引量:4
20
作者 张天平 朱清 +1 位作者 张惠艳 顾海军 《Journal of Southeast University(English Edition)》 EI CAS 2003年第1期92-97,共6页
A new scheme of direct adaptive fuzzy controller for a class of nonlinear systems with unknown triangular control gain structure is proposed. The design is based on the principle of sliding mode control and the approx... A new scheme of direct adaptive fuzzy controller for a class of nonlinear systems with unknown triangular control gain structure is proposed. The design is based on the principle of sliding mode control and the approximation capability of the first type fuzzy systems. By introducing integral-type Lyapunov function and adopting the adaptive compensation term of optimal approximation error, the closed-loop control system is proved to be globally stable, with tracking error converging to zero. Simulation results demonstrate the effectiveness of the approach. 展开更多
关键词 fuzzy systems fuzzy control adaptive control global stability
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部