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Study of quantum well mixing induced by impurity-free vacancy in the primary epitaxial wafers of a 915 nm semiconductor laser
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作者 Tianjiang He Suping Liu +5 位作者 Wei Li Li Zhong Xiaoyu Ma Cong Xiong Nan Lin Zhennuo Wang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2023年第10期70-76,共7页
Output power and reliability are the most important characteristic parameters of semiconductor lasers.However,catas-trophic optical damage(COD),which usually occurs on the cavity surface,will seriously damage the furt... Output power and reliability are the most important characteristic parameters of semiconductor lasers.However,catas-trophic optical damage(COD),which usually occurs on the cavity surface,will seriously damage the further improvement of the output power and affect the reliability.To improve the anti-optical disaster ability of the cavity surface,a non-absorption window(NAW)is adopted for the 915 nm InGaAsP/GaAsP single-quantum well semiconductor laser using quantum well mix-ing(QWI)induced by impurity-free vacancy.Both the principle and the process of point defect diffusion are described in detail in this paper.We also studied the effects of annealing temperature,annealing time,and the thickness of SiO_(2) film on the quan-tum well mixing in a semiconductor laser with a primary epitaxial structure,which is distinct from the previous structures.We found that when compared with the complete epitaxial structure,the blue shift of the semiconductor laser with the primary epi-taxial structure is larger under the same conditions.To obtain the appropriate blue shift window,the primary epitaxial struc-ture can use a lower annealing temperature and shorter annealing time.In addition,the process is less expensive.We also pro-vide references for upcoming device fabrication. 展开更多
关键词 catastrophic optical damage primary epitaxial structure impurity-free vacancy disordering quantum well intermixing non-absorption window
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Built-in electric field influence on impurity-free vacancy disordering of InGaAs/InP quantum well structure
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作者 AN YuPeng MEI Ting +2 位作者 TENG JingHua XU ChengDong WANG YiDing 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2010年第14期1363-1366,共4页
Built-in electric field may enhance or retard the impurity-free vacancy disordering (IFVD) during rapid thermal annealing (RTP) by imposing a drift on charged point defects. Built-in electric field is at the interface... Built-in electric field may enhance or retard the impurity-free vacancy disordering (IFVD) during rapid thermal annealing (RTP) by imposing a drift on charged point defects. Built-in electric field is at the interface between dielectric layer and top layer of the structure. Subsequent rapid thermal annealing leads to different intermixing results due to different field directions on InP cap layers in different doping types. Experimental results also show different influences of the built-in field on the two sublattices largely due to different charge numbers of point defects. 展开更多
关键词 内建电场 井身结构 InGaAs 内置 杂质 无序 InP 快速热退火
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Phonon transmission of vacancy disordered armchair silicene nanoribbon
3
作者 Ashraful Hossain Howlader Md.Sherajul Islam Naim Ferdous 《Optoelectronics Letters》 EI 2021年第8期454-458,共5页
This work demonstrates the atomic vacancy effects on the phonon properties of armchair silicene nanoribbon in a step by step process for the first time.The phonon localization effect figures out the fact that vacancie... This work demonstrates the atomic vacancy effects on the phonon properties of armchair silicene nanoribbon in a step by step process for the first time.The phonon localization effect figures out the fact that vacancies cause to high-energy phonons become localized,whereas low-energy phonons can easily transmit.The vacancy reduces high-energy phonon transmission severely compared to low-energy phonon.It is also found from phonon density of states that high-frequency phonons soften towards the low-frequency region.The simulated phonon bandstructure verifies that most of the phonon branches transform to a nondegenerate state from a degenerate state and shifted toward a lower frequency regime due to the presence of vacancies.The overall consequences of atomic vacancies on the phonon thermal conductance disclose the reality that only a few atomic vacancies result in a vital reduction of phonon thermal conductance.In addition,the entropy of the disordered system is investigated. 展开更多
关键词 PHONON vacancy disordERED
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“父”之缺位与“时代孤儿”的道德困境——东西的《耳光响亮》、《后悔录》与后传统时代的寓言化写作 被引量:5
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作者 耿传明 《天津师范大学学报(社会科学版)》 CSSCI 北大核心 2011年第2期34-39,共6页
东西的小说是一种在虚无主义肆虐的后传统、后革命时代下的寓言化写作。《耳光响亮》关注的是1976年文化精神和家庭生活意义上的"父亲"弃世或出走之后,那些"时代孤儿"的成长过程和生存境遇。《后悔录》所关注的重... 东西的小说是一种在虚无主义肆虐的后传统、后革命时代下的寓言化写作。《耳光响亮》关注的是1976年文化精神和家庭生活意义上的"父亲"弃世或出走之后,那些"时代孤儿"的成长过程和生存境遇。《后悔录》所关注的重心是主人公从禁欲到纵欲时代的"性"的磨难,从中可以看到后传统的人神主义禁欲文化和后革命的虚无主义纵欲文化对人性的异化和扭曲,以及个人良知在这种异己的、他律的伦理秩序和虚无主义的纵欲狂欢中的复苏和觉醒。 展开更多
关键词 “父”之缺位 “时代孤儿” 《耳光响亮》 《后悔录》 价值失序 寓言化写作
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钒掺杂SrBi_4Ti_4O_(15)拉曼光谱和X射线光电子能谱研究
5
作者 朱骏 何军辉 陈小兵 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第S1期69-71,共3页
适量的钒掺杂,大大增加了SrBi4Ti4O15(SBTi)铁电材料的剩余极化2Pr,并改善了材料的耐压性能.SBTi拉曼模的位置,基本不受V掺杂的影响,但对应Ti O6氧八面体的拉曼模在掺杂明显宽化,这与V5+取代进入Ti O6中的Ti4+后,材料局部无序性增大,应... 适量的钒掺杂,大大增加了SrBi4Ti4O15(SBTi)铁电材料的剩余极化2Pr,并改善了材料的耐压性能.SBTi拉曼模的位置,基本不受V掺杂的影响,但对应Ti O6氧八面体的拉曼模在掺杂明显宽化,这与V5+取代进入Ti O6中的Ti4+后,材料局部无序性增大,应力增加有关.X射线光电子能谱表明,不同掺杂量样品的Bi4f和Ti2p的结合能未有明显变化,这与B位高价掺杂减少氧空位的特殊机制有关.材料的2Pr增加,是高价阳离子掺杂导致材料中氧空位浓度的减少,局部无序性的增加共同作用的结果. 展开更多
关键词 钒掺杂SrBi_4Ti_4O_(15) 剩余极化 氧空位 无序性
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无杂质空位扩散法造成InGaAsP/InP多量子阱结构带隙蓝移规律的研究 被引量:1
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作者 张晓丹 赵杰 +1 位作者 王永晨 金鹏 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期119-123,共5页
采用光荧光谱 (PL)和光调制反射谱 (PR)的方法 ,研究了由Si3 N4 、SiO2 电介质盖层引起的无杂质空位(IFVD)诱导的InGaAsP四元化合物半导体多量子阱 (MQWs)结构的带隙蓝移。实验中Si3 N4 、SiO2 作为电介质盖层 ,用来产生空位 ,再经过快... 采用光荧光谱 (PL)和光调制反射谱 (PR)的方法 ,研究了由Si3 N4 、SiO2 电介质盖层引起的无杂质空位(IFVD)诱导的InGaAsP四元化合物半导体多量子阱 (MQWs)结构的带隙蓝移。实验中Si3 N4 、SiO2 作为电介质盖层 ,用来产生空位 ,再经过快速热退火处理 (RTA)。实验结果表明 :多量子阱结构带隙蓝移和退火温度、复合盖层的组合有关。带隙蓝移随退火温度的升高而加大。InP、Si3 N4 复合盖层产生的带隙蓝移量大于InP、SiO2 复合盖层。而InGaAs、SiO2 复合盖层产生的带隙蓝移量则大于InGaAs、Si3 N4 复合盖层。同时 ,光调制反射谱的测试结果与光荧光测试的结果基本一致 ,因此 。 展开更多
关键词 无杂质空位诱导无序 光荧光谱 光调制反射谱 铟镓砷磷化合物 磷化铟 多量子阱结构 单片集成光电器件
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带有非吸收窗口的大功率915nm半导体激光器 被引量:2
7
作者 姚南 赵懿昊 +1 位作者 刘素平 马骁宇 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第8期596-600,共5页
为了实现大功率输出,应用无杂质空位诱导量子阱混合(IFVD)方法制备带有非吸收窗口结构的915 nm半导体激光器单管。通过实验确定促进和抑制量子阱混合的Si O2和Si3N4薄膜的厚度分别为300和500 nm,退火条件为800℃,90 s。最终制备出的带... 为了实现大功率输出,应用无杂质空位诱导量子阱混合(IFVD)方法制备带有非吸收窗口结构的915 nm半导体激光器单管。通过实验确定促进和抑制量子阱混合的Si O2和Si3N4薄膜的厚度分别为300和500 nm,退火条件为800℃,90 s。最终制备出的带有非吸收窗口的激光器,与普通激光器的阈值电流和斜率效率几乎一样。但普通激光器在电流为10 A时发生灾变性光学损伤(COD)并失效,而带有非吸收窗口的激光器在电流达到13 A时仍然可以正常工作,相比普通激光器其最大输出功率增加了15%。每种器件各20个在20℃,电流为9 A时进行直流老化试验,普通激光器在老化时间达到100 h时全部失效,而带非吸收窗口器件在老化200 h时仅有两个失效,这表明非吸收窗口结构显著提高了器件的抗COD能力。 展开更多
关键词 半导体激光器 无杂质空位诱导量子阱混合(IFVD) 非吸收窗口 高温退火 灾变性光学损伤(COD)
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La、Ce、Yb掺杂对LiNi_(0.5)Mn_(1.5)O_(4)高电压正极材料性能的影响 被引量:1
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作者 刘海志 孔志浩 +4 位作者 林晓燕 刘鹏东 董法海 王桢 温广武 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2021年第10期1782-1792,共11页
采用低温燃烧法制备出不同稀土元素掺杂的高电压镍锰酸锂(LiNi_(0.5)Mn1.5O_(4))正极材料,探究了不同掺杂比例(物质的量分数0.5%、1%、2%)和不同掺杂稀土元素(La、Ce、Yb)对样品性能的影响,并通过X射线衍射、拉曼光谱、电子顺磁共振和... 采用低温燃烧法制备出不同稀土元素掺杂的高电压镍锰酸锂(LiNi_(0.5)Mn1.5O_(4))正极材料,探究了不同掺杂比例(物质的量分数0.5%、1%、2%)和不同掺杂稀土元素(La、Ce、Yb)对样品性能的影响,并通过X射线衍射、拉曼光谱、电子顺磁共振和恒电流间歇滴定等技术探究了其影响机理。从X射线衍射图可以看出,稀土掺杂可以抑制LixNi1-xO杂质相的产生;电感耦合等离子谱结果表明,掺杂进入的稀土元素与设计比例基本相符;从拉曼光谱图可以看出,稀土元素可以使样品的有序相增多,其中Ce掺杂样品的有序相最多;结合电子顺磁共振波谱氧空位测试,发现Ce掺杂诱导了样品中有序相比例增加,从而使样品的稳定性提高;经恒电流间歇滴定技术测试发现,Ce掺杂镍锰酸锂样品的扩散系数比未掺杂样品高了约15倍;在不同掺杂比例上,1%掺杂量时样品性能最佳。在3种最佳掺杂量的稀土元素样品中,Ce掺杂的样品性能最优,首次放电比容量可以达到133.3mAh·g^(-1),比未掺杂样品放电比容量高且首次效率提高了 18%,在1C下循环200次后,容量保持率为102%,比未掺杂样品提高了 8%。 展开更多
关键词 镍锰酸锂 低温燃烧法 有序/无序调控 氧空位
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Si_3N_4无杂质空位诱导InGaAs/InP量子阱结构带隙的蓝移
9
作者 张晓丹 王永晨 +2 位作者 赵杰 陈景莉 冯哲川 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期188-190,197,共4页
用光荧光谱和二次离子质谱的方法 ,研究了由Si3N4 电介质薄膜引起的无杂质空位诱导InGaAs/InP多量子阱结构的带隙蓝移。实验中选用Si3N4 作为电介质层 ,用以产生空位 ,并经快速热退火处理。实验结果表明 ,带隙蓝移同退火时间和退火温度... 用光荧光谱和二次离子质谱的方法 ,研究了由Si3N4 电介质薄膜引起的无杂质空位诱导InGaAs/InP多量子阱结构的带隙蓝移。实验中选用Si3N4 作为电介质层 ,用以产生空位 ,并经快速热退火处理。实验结果表明 ,带隙蓝移同退火时间和退火温度有关 ,合理选用退火条件可以控制带隙的蓝移量。二次离子质谱分析表明 ,电介质盖层Si3N4 和快速热退火导致量子阱中阱和垒之间互扩 ,这种互扩是导致带隙蓝移的主要原因。 展开更多
关键词 无杂质空位诱导 量子阱 光荧光谱 二次离子质谱 蓝移 磷化铟 砷镓铟
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无杂质空位诱导InGaAs/InP量子阱结构的光荧光研究
10
作者 张晓丹 赵杰 王永晨 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2001年第3期33-35,45,共4页
用光荧光谱 ( PL)方法研究了无杂质空位诱导 ( IFVD) In Ga As/In P多量子阱 ( MQWs)结构的带隙蓝移 .实验中选用 Si3 N4 作为电介质层 ,用以产生空位 ,并经快速热退火处理 ,产生扩散 .实验结果表明 ,带隙蓝移同退火温度和退火时间有关 ... 用光荧光谱 ( PL)方法研究了无杂质空位诱导 ( IFVD) In Ga As/In P多量子阱 ( MQWs)结构的带隙蓝移 .实验中选用 Si3 N4 作为电介质层 ,用以产生空位 ,并经快速热退火处理 ,产生扩散 .实验结果表明 ,带隙蓝移同退火温度和退火时间有关 ,最佳退火条件是 80 0℃ ,1 0 s.同时二次离子质谱 ( SIMS)的分析表明 ,电介质盖层 Si3 N4 和快速热退火 ( RTA)导致量子阱中阱和垒之间元素互扩 。 展开更多
关键词 无杂质空位诱导无序 量子阱 光荧光谱 二次离子质谱 INGAAS/INP 光电集成电路 生长工艺
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离子注入结合无杂质空位诱导量子阱混合的研究
11
作者 陈杰 杨格丹 +1 位作者 王永晨 赵杰 《中国材料科技与设备》 2006年第2期22-24,共3页
离子注入诱导无序(IICD)和无杂质空住扩散(IFVD)方法是在同一基片上生长量子阱以后再导致部分区域量子阱混合(QWI)的重要方法。本文采用磷离子注入(注入能量为160keV,剂量分别为1×10^11,1×10^12,1×10^13,3... 离子注入诱导无序(IICD)和无杂质空住扩散(IFVD)方法是在同一基片上生长量子阱以后再导致部分区域量子阱混合(QWI)的重要方法。本文采用磷离子注入(注入能量为160keV,剂量分别为1×10^11,1×10^12,1×10^13,3×10^13,7×10^14ion/cm^2)和用无杂质空位扩散(PECVD 200nm SiO2电介质膜)相结合的方法来实现InGaAsP/InP多量子阱的混合(高纯氮保护下进行快速热退火,退火温度为780℃,退火时间为30s)。同时,和相同条件下纯磷离子注入诱导混和结果进行了比较。试验发现,先用PECVD镀200nm的SiO2电介质膜再进行磷离子注入的方法造成的带隙蓝移值比在同样条件下纯离子注入方法小,而先进行磷离子注入在用覆盖200nm的SiO2电介质膜造成的带隙蓝移值比在同样条件下纯离子注入方法稍大。说明,离子注入造成的缺陷比介质膜SiO2中的缺陷多。带隙兰移主要由离子注入引起。但用两种方法结合时,SiO2中的缺陷也起到促进作用。 展开更多
关键词 岛子注入诱导无序(IICD) 无杂质空位扩散(IFVD) 量子阱混合 带隙蓝移
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Surface disorder engineering in ZnCdS for cocatalyst free visible light driven hydrogen production 被引量:4
12
作者 Enna Ha Shuhong Ruan +8 位作者 Danyang Li Yuanmin Zhu Yanping Chen Jiangyuan Qiu Zhaohui Chen Tingting Xu Jingyun Su Luyang Wang Junqing Hu 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2022年第2期996-1002,共7页
Metal chalcogenide solid solution,especially ZnCdS,has been intensively investigated in photocatalytic H_(2) generation due to their cost-effective synthetic procedure and adjustable band structures.In this work,we re... Metal chalcogenide solid solution,especially ZnCdS,has been intensively investigated in photocatalytic H_(2) generation due to their cost-effective synthetic procedure and adjustable band structures.In this work,we report on the defect engineering of ZnCdS with surface disorder layer by simple room temperature Li-ethylenediamine(Li-EDA)treatment.Experimental results confirm the formation of unusual Zn and S dual vacancies,where rich S vacancies(Vs)served as electron trapping sites,meanwhile Zn vacancies(Vzn)served as hole trapping sites.The refined structure significantly facilitates the photo charge carrier transfer and improves photocatalytic properties of ZnCdS.The disordered ZnCdS shows a highest photocatalytic H_(2) production rate of 33.6 mmol·g^(-1)·h^(-1) under visible light with superior photocatalytic stabilities,which is 7.3 times higher than pristine ZnCdS and 7 times of Pt(1 wt.%)loaded ZnCdS. 展开更多
关键词 ZnCdS solid solution Li-EDA disorder engineering dual vacancies photocatalytic H_(2)reduction
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β相Mg-Sc合金缺陷形成能的计算研究
13
作者 丁美玲 武晓霞 那日苏 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第7期977-985,共9页
镁合金因其重量轻、比强度高,在电子产品、建筑等多个领域具有广阔的应用前景。采用特殊准随机结构结合第一性原理计算方法研究了Mg-Sc合金奥氏体相中空位的形成能和迁移能,模型中Sc的原子分数分别为20%和20.3125%。结果表明,局域化学... 镁合金因其重量轻、比强度高,在电子产品、建筑等多个领域具有广阔的应用前景。采用特殊准随机结构结合第一性原理计算方法研究了Mg-Sc合金奥氏体相中空位的形成能和迁移能,模型中Sc的原子分数分别为20%和20.3125%。结果表明,局域化学环境对Mg-Sc合金β相空位形成能的影响较大,对于Mg和Sc空位,其空位形成能表现出较大的分散性,Mg的空位形成能范围为0.283~1.173 eV,Sc的空位形成能范围为0.353~1.063 eV,且元素在合金中更难形成空位。在Mg-Sc合金中,20%Sc掺杂使得合金中Mg的空位形成能增加到金属Mg的3倍以上。Mg的平均空位形成能随着最近邻壳层Sc含量的变化表现出先增加后减少的趋势,最后趋于稳定,但其整体变化范围较小。最近邻配位对相同的条件下,Mg的平均空位形成能随着次近邻(2NN)壳层Sc含量的略有增加的趋势,但增加的幅度小于0.1 eV,整体的变化趋势趋于稳定。空位的扩散势垒对局域环境的依赖性较大,合金中Mg空位比Sc更具有流动性。 展开更多
关键词 无序Mg-Sc合金 空位 空位形成能 空位迁移能 局域化学环境
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基于无杂质空位混杂法制备带有无吸收窗口的940nm GaInP/GaAsP/GaInAs半导体激光器研究 被引量:10
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作者 周路 薄报学 +4 位作者 王云华 贾宝山 白端元 乔忠良 高欣 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期1-5,共5页
为提高940nm半导体激光器抗灾变性光学损伤(COD)能力,采用无杂质空位量子阱混杂技术制备了带有无吸收窗口的940nm GaInP/GaAsP/GaInAs半导体激光器。借助光致发光光谱分析了退火温度和介质膜厚度对GaInP/GaAsP/GaInAs单量子阱混杂的影响... 为提高940nm半导体激光器抗灾变性光学损伤(COD)能力,采用无杂质空位量子阱混杂技术制备了带有无吸收窗口的940nm GaInP/GaAsP/GaInAs半导体激光器。借助光致发光光谱分析了退火温度和介质膜厚度对GaInP/GaAsP/GaInAs单量子阱混杂的影响;通过电化学电容-电压(EC-V)方法检测了经高温退火后激光器外延片的掺杂浓度分布的变化情况。实验发现,在875℃快速热退火条件下,带有磁控溅射法制备的200nm厚的SiO2盖层样品发生蓝移达29.8nm,而电子束蒸发法制备的200nm厚TiO2样品在相同退火条件下蓝移量仅为4.3nm。两种方法分别对蓝移起到很好的促进和抑制作用。将优化后的条件用于带有窗口结构的激光器器件制备,其抗COD能力提高了1.6倍。 展开更多
关键词 激光器 非吸收窗口 无杂质空位诱导 灾变性光学损伤 量子阱混杂
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PECVD沉积SiOP电介质膜及其XPS研究 被引量:1
15
作者 王永晨 杨格丹 +2 位作者 赵杰 车经国 张淑云 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1292-1296,共5页
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积含P电介质薄膜,用于无杂质空穴扩散(IFVD)技术中InGaAsP InPMQW结构中新的包封层,替代传统的SiO2层。经X射线光电子谱(XPS)研究证明,该膜就是SiOP结构。快速退火(RTA)研究表明,该膜结构基... 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积含P电介质薄膜,用于无杂质空穴扩散(IFVD)技术中InGaAsP InPMQW结构中新的包封层,替代传统的SiO2层。经X射线光电子谱(XPS)研究证明,该膜就是SiOP结构。快速退火(RTA)研究表明,该膜结构基本稳定,但膜中P原子存在明显扩散,它增强了InPMQW结构中In原子的外扩,却抑制了Ga原子的外扩。这些都明显区别于常规SiO2膜的性质。 展开更多
关键词 原子 电介质 XPS PECVD SIO2膜 空穴 证明 MQW 等离子体增强化学气相沉积 X射线光电子谱
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基于循环退火技术的InGaAs/AlGaAs量子阱混杂 被引量:4
16
作者 林盛杰 李建军 +2 位作者 何林杰 邓军 韩军 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期1471-1475,共5页
为了解决由于激光器腔面处的光吸收引起的腔面光学灾变损伤(COD),采用无杂质空位扩散(IFVD)法,研究了由SiO2电介质层诱导的InGaAs/AlGaAs量子阱结构的带隙蓝移。使用等离子化学气相沉积(PECVD)在InGaAs/AlGaAs量子阱的表面生长SiO2电介... 为了解决由于激光器腔面处的光吸收引起的腔面光学灾变损伤(COD),采用无杂质空位扩散(IFVD)法,研究了由SiO2电介质层诱导的InGaAs/AlGaAs量子阱结构的带隙蓝移。使用等离子化学气相沉积(PECVD)在InGaAs/AlGaAs量子阱的表面生长SiO2电介质层;然后采用IFVD在N2环境下进行高温退火实验,从而实现量子阱混杂(QWI)。实验结果表明:蓝移量的大小随退火时间和电介质层厚度的变化而变化,样品覆盖的电介质层越厚,在相同的退火温度下承受的退火时间越长,得到的蓝移量也越大。然而,在高温退火中的时间相对较长时,退火对量子阱造成的损坏相当大。高温短时循环退火,能够在保护量子阱晶体质量的同时实现QWI。通过在850℃退火6min下循环退火5次,得到了46nm的PL蓝移,且PL峰值保持在原样品的80%以上。 展开更多
关键词 半导体激光器 无杂质空位扩散(IFVD) INGAAS ALGAAS 量子阱混杂(QWI) 腔面光学灾变损伤(COD) 无吸收窗口(NAW)
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锑碲合金Sb_(2)Te_(3)的异相同质结构设计
17
作者 王晓哲 张航铭 +3 位作者 王旭东 王疆靖 马恩 张伟 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第22期2662-2671,共10页
半导体锑碲合金Sb_(2)Te_(3)是实现高性能相变存储与类脑计算的一种关键母体材料,其亚稳态立方相具有占格点高达1/6以上且随机分布的空位,具备安德森绝缘体性质.而Sb_(2)Te_(3)的稳态结构为菱方六角相,是一种典型的强拓扑绝缘体材料.但... 半导体锑碲合金Sb_(2)Te_(3)是实现高性能相变存储与类脑计算的一种关键母体材料,其亚稳态立方相具有占格点高达1/6以上且随机分布的空位,具备安德森绝缘体性质.而Sb_(2)Te_(3)的稳态结构为菱方六角相,是一种典型的强拓扑绝缘体材料.但由于六角相Sb_(2)Te_(3)存在自发掺杂行为,其体相通常呈金属性而非绝缘性,从而掩盖了其拓扑非平庸的狄拉克表面态性质.本工作提出一种基于Sb_(2)Te_(3)的异相同质结构的新概念,原理上可同时利用该材料的拓扑性质与安德森绝缘性质从而实现超低损耗的电子输运.本文在分子束外延制备的六角相Sb_(2)Te_(3)薄膜中,利用透射电子显微镜中的聚焦电子束辐照驱动薄膜体相区域的六角相至立方相结构相变,并原位观察了空位无序化在其中起到的关键性作用.通过第一性原理计算,结果表明六角相Sb_(2)Te_(3)的能量随着空位层空位浓度的降低而快速上升,在空位浓度减小至50%~70%时触发原子堆垛迁移,从而形成立方相结构.临界空位浓度的大小主要受沿空位层垂直方向压应力的影响.结合实验与计算结果,本文证实了Sb_(2)Te_(3)异相同质结构的界面附近不存在明显的晶格错配,为后续制备Sb_(2)Te_(3)异相同质结构宏观样品,以及探索拓扑物理与安德森电子局域化之间的相互作用提供了指导. 展开更多
关键词 相变材料 拓扑绝缘体 Sb_(2)Te_(3) 原位表征 空位无序化 异相同质结构
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Investigation of Raman spectrum for nano-SnO_2
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作者 熊曹水 熊永红 +2 位作者 朱弘 张裕恒 刘玉龙 《Science China Mathematics》 SCIE 1997年第11期1222-1227,共0页
The dependence of the microstructural change and lattice space symmetry of nano-SnO2 on the annealing temperature has been studied systematically using Raman spectroscopy and X-ray diffraction.Comparing the results of... The dependence of the microstructural change and lattice space symmetry of nano-SnO2 on the annealing temperature has been studied systematically using Raman spectroscopy and X-ray diffraction.Comparing the results of nano-SnO2 with the results of amorphous film and single crystal of SnO2 it is found that the new Raman peaks N1 and N2 are in accordance with Matossi’s force constant model completely.When the annealing temperature is near 673K,the local lattice disorders and the density of vacant lattice decrease rapidly in the nano-SnO2 grains.The lattice distortion and the new Raman peaks disappear almost at the same time.The possible mechanisms of the microstructural change and the new Raman peaks NI and N2 are discussed. 展开更多
关键词 nano-SnO2 Raman spectrum local LATTICE disordER vacancy clusters LATTICE space SYMMETRY LATTICE distortion.
全文增补中
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