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用计算机细分干涉条纹技术的研究
被引量:
5
1
作者
肖国宏
黄丽清
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期53-54,共2页
本文提出了一种对干涉条纹的变化进行记录和细分的计算机系统。由于采用了一种新的细分标准,使细分干涉条纹更加合理、简便、准确。在文章的最后以实验结果验证了本系统的可靠性。
关键词
干涉条纹
细分
计算机系统
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职称材料
利用精细干涉条纹测量细丝直径的实验研究
被引量:
1
2
作者
房晓勇
任克勤
曹茂盛
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第1期25-28,共4页
探讨了利用细丝衍射图样中精细干涉条纹测量细丝直径的可行性,并设计了相应的实验光路。对实验数据的比较和分析表明,该测量方法的测量范围、离散度和不确定度均好于常规的衍射测量法。
关键词
细丝衍射
精细干涉条纹
光学
检测
激光
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职称材料
正交光栅信号的脉宽调制细分技术
被引量:
1
3
作者
曹国荣
曹俊卿
陈家璧
《光学仪器》
1997年第3期3-10,共8页
介绍了将正交光栅信号合成近似三角波,再对合成信号进行脉宽调制的细分技术。该方法的细分精度主要决定于原始正交光栅信号的稳定性,一个周期内的非线性误差可由软件修正,整个测量过程的系统误差也可由软件补偿。
关键词
莫尔条纹
幅度合成
脉宽调制
细分
光栅
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职称材料
用OCV细分干涉条纹技术的研究
4
作者
任明善
朱长纯
万长虹
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第1期199-222,118,共25页
本文介绍了一种采用光控变容二极管来细分干涉条纹技术。光控变容二极管(OVC)是一种新型半导体器件。用计算机系统采集并处理数据,能够计数和细分干涉条纹,并已获得较高的灵敏度(超过1/90条)。该技术的优点在于它的可靠性,经济性、简单...
本文介绍了一种采用光控变容二极管来细分干涉条纹技术。光控变容二极管(OVC)是一种新型半导体器件。用计算机系统采集并处理数据,能够计数和细分干涉条纹,并已获得较高的灵敏度(超过1/90条)。该技术的优点在于它的可靠性,经济性、简单而且速度高。
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关键词
OCV
细分
干涉条纹
光电探测器
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制
被引量:
5
6
作者
鲁森
杨开明
+3 位作者
朱煜
王磊杰
张鸣
杨进
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第10期202-210,共9页
扫描干涉场曝光(SBIL)系统中曝光效果与工件台的运动性能密切相关。为了制作纳米精度的大面积平面光栅,工件台采用了粗微叠层结构设计,其中微动台是实现工件台运动精度的关键。基于SBIL原理,推导了干涉条纹周期测量精度与曝光对比度的...
扫描干涉场曝光(SBIL)系统中曝光效果与工件台的运动性能密切相关。为了制作纳米精度的大面积平面光栅,工件台采用了粗微叠层结构设计,其中微动台是实现工件台运动精度的关键。基于SBIL原理,推导了干涉条纹周期测量精度与曝光对比度的关系。针对移动分光镜测量干涉条纹周期的方法,结合周期测量精度需求,分析了微动台定位精度指标,提出了实现微动台x、y、θz三个自由度定位精度的控制器设计方法,并在微动台系统上进行了实验验证。结果表明,微动台x方向定位精度可达±1.51nm,y方向定位精度可达±5.46nm,θz定位精度可达±0.02μrad,可以满足SBIL的需求和干涉条纹周期测量的精度要求。
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关键词
测量
扫描干涉场曝光
微动台
条纹周期测量精度
相位锁定
原文传递
细丝衍射图样中干涉条纹精细结构的研究
被引量:
3
7
作者
房晓勇
曹茂盛
任克勤
《应用激光》
CSCD
北大核心
1996年第1期30-32,共3页
在激光束直接照射细丝时,发现了衍射条纹的精细结构。利用细丝衍射光强分布函数对条纹进行了分析,建立了条纹的数学表达式。
关键词
细丝
衍射图样
干涉条纹
精细结构
氦氖激光束
原文传递
激光全息干涉条纹的计算机数字图像处理
被引量:
3
8
作者
王瑞芳
《应用激光》
CSCD
北大核心
2002年第6期551-555,共5页
本文就激光全息干涉条纹的背景噪音的消除、图像对比度增强的技术与方法 ,进行了研究与探讨 ,从而实现对全息干涉条纹进行细化 。
关键词
激光
全息
干涉条纹
计算机
数字图像处理
背景噪音
消除
条纹细化
原文传递
题名
用计算机细分干涉条纹技术的研究
被引量:
5
1
作者
肖国宏
黄丽清
机构
西安交通大学物理系
出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期53-54,共2页
基金
西安交通大学自然科学基金
文摘
本文提出了一种对干涉条纹的变化进行记录和细分的计算机系统。由于采用了一种新的细分标准,使细分干涉条纹更加合理、简便、准确。在文章的最后以实验结果验证了本系统的可靠性。
关键词
干涉条纹
细分
计算机系统
Keywords
interference fringe
,
fine dividing
,
computer
分类号
TH744.301 [机械工程—光学工程]
TP399 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
下载PDF
职称材料
题名
利用精细干涉条纹测量细丝直径的实验研究
被引量:
1
2
作者
房晓勇
任克勤
曹茂盛
机构
东北重型机械学院基础部
出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第1期25-28,共4页
文摘
探讨了利用细丝衍射图样中精细干涉条纹测量细丝直径的可行性,并设计了相应的实验光路。对实验数据的比较和分析表明,该测量方法的测量范围、离散度和不确定度均好于常规的衍射测量法。
关键词
细丝衍射
精细干涉条纹
光学
检测
激光
Keywords
filament diffraction,
fine
interference fringe
,measurement of filament diameter
分类号
TN247 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
正交光栅信号的脉宽调制细分技术
被引量:
1
3
作者
曹国荣
曹俊卿
陈家璧
机构
镇江师范专科学校物理系
上海理工大学仪器仪表学院
出处
《光学仪器》
1997年第3期3-10,共8页
文摘
介绍了将正交光栅信号合成近似三角波,再对合成信号进行脉宽调制的细分技术。该方法的细分精度主要决定于原始正交光栅信号的稳定性,一个周期内的非线性误差可由软件修正,整个测量过程的系统误差也可由软件补偿。
关键词
莫尔条纹
幅度合成
脉宽调制
细分
光栅
Keywords
Moire
fringe
, Amplitude Composition, Pulse Width Modulation,
fine dividing
Technique
分类号
TH741.6 [机械工程—光学工程]
下载PDF
职称材料
题名
用OCV细分干涉条纹技术的研究
4
作者
任明善
朱长纯
万长虹
机构
西安交通大学物理系
西安交通大学电子工程系
出处
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第1期199-222,118,共25页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文介绍了一种采用光控变容二极管来细分干涉条纹技术。光控变容二极管(OVC)是一种新型半导体器件。用计算机系统采集并处理数据,能够计数和细分干涉条纹,并已获得较高的灵敏度(超过1/90条)。该技术的优点在于它的可靠性,经济性、简单而且速度高。
关键词
OCV
细分
干涉条纹
光电探测器
Keywords
interference
photon detectors
varactor
precision
fine dividing
分类号
TP216.3 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
下载PDF
职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
interference
lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP
interference
,such as SPP resonant
interference
nanolithography[8] and SPP-assisted
interference
nanolithography[9],achieved a sub-100nm
interference
pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very
fine
period and only suitable for small-area
interference
.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless
interference
lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective
interference
.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless
interference
lithography systemThe SPP maskless
interference
lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields con
fine
d to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless
interference
lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制
被引量:
5
6
作者
鲁森
杨开明
朱煜
王磊杰
张鸣
杨进
机构
清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室
清华大学精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室
东风商用车技术中心基础技术研究室
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第10期202-210,共9页
基金
国家科技重大专项"磁悬浮工件台关键技术研究"(2012ZX02702-006)
文摘
扫描干涉场曝光(SBIL)系统中曝光效果与工件台的运动性能密切相关。为了制作纳米精度的大面积平面光栅,工件台采用了粗微叠层结构设计,其中微动台是实现工件台运动精度的关键。基于SBIL原理,推导了干涉条纹周期测量精度与曝光对比度的关系。针对移动分光镜测量干涉条纹周期的方法,结合周期测量精度需求,分析了微动台定位精度指标,提出了实现微动台x、y、θz三个自由度定位精度的控制器设计方法,并在微动台系统上进行了实验验证。结果表明,微动台x方向定位精度可达±1.51nm,y方向定位精度可达±5.46nm,θz定位精度可达±0.02μrad,可以满足SBIL的需求和干涉条纹周期测量的精度要求。
关键词
测量
扫描干涉场曝光
微动台
条纹周期测量精度
相位锁定
Keywords
measurement
scanning beam
interference
lithography
fine
positioning stage
fringe
period measurement accuracy
phase locking
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
细丝衍射图样中干涉条纹精细结构的研究
被引量:
3
7
作者
房晓勇
曹茂盛
任克勤
机构
东北重型机械学院
出处
《应用激光》
CSCD
北大核心
1996年第1期30-32,共3页
文摘
在激光束直接照射细丝时,发现了衍射条纹的精细结构。利用细丝衍射光强分布函数对条纹进行了分析,建立了条纹的数学表达式。
关键词
细丝
衍射图样
干涉条纹
精细结构
氦氖激光束
Keywords
filament diffraction,diffraction pattern,
interference fringe
,
fine
structure
分类号
TN241 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
激光全息干涉条纹的计算机数字图像处理
被引量:
3
8
作者
王瑞芳
机构
中国科学技术大学
出处
《应用激光》
CSCD
北大核心
2002年第6期551-555,共5页
文摘
本文就激光全息干涉条纹的背景噪音的消除、图像对比度增强的技术与方法 ,进行了研究与探讨 ,从而实现对全息干涉条纹进行细化 。
关键词
激光
全息
干涉条纹
计算机
数字图像处理
背景噪音
消除
条纹细化
Keywords
holographic interferometry
fringe
s background
interference
elimination finges fining
分类号
TP391.41 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
O43 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用计算机细分干涉条纹技术的研究
肖国宏
黄丽清
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1999
5
下载PDF
职称材料
2
利用精细干涉条纹测量细丝直径的实验研究
房晓勇
任克勤
曹茂盛
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1996
1
下载PDF
职称材料
3
正交光栅信号的脉宽调制细分技术
曹国荣
曹俊卿
陈家璧
《光学仪器》
1997
1
下载PDF
职称材料
4
用OCV细分干涉条纹技术的研究
任明善
朱长纯
万长虹
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991
0
下载PDF
职称材料
5
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
6
用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制
鲁森
杨开明
朱煜
王磊杰
张鸣
杨进
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
5
原文传递
7
细丝衍射图样中干涉条纹精细结构的研究
房晓勇
曹茂盛
任克勤
《应用激光》
CSCD
北大核心
1996
3
原文传递
8
激光全息干涉条纹的计算机数字图像处理
王瑞芳
《应用激光》
CSCD
北大核心
2002
3
原文传递
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