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冷阴极离子源辅助镀膜技术及应用
被引量:
1
1
作者
孙屹群
汤彦骐
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
1997年第5期318-320,共3页
叙述了离子束辅助镀膜的特点。对冷阴极和热阴极两种离子源作了比较。论述了冷阴极离子源及其在真空镀膜中的应用。
关键词
离子束辅助蒸发
冷阴极离子源
真空镀膜技术
下载PDF
职称材料
题名
冷阴极离子源辅助镀膜技术及应用
被引量:
1
1
作者
孙屹群
汤彦骐
机构
云南光学仪器厂
出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
1997年第5期318-320,共3页
文摘
叙述了离子束辅助镀膜的特点。对冷阴极和热阴极两种离子源作了比较。论述了冷阴极离子源及其在真空镀膜中的应用。
关键词
离子束辅助蒸发
冷阴极离子源
真空镀膜技术
Keywords
ion
beam
auxiliary
deposition
(
iad
)
cold
cathode
ion
source
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
冷阴极离子源辅助镀膜技术及应用
孙屹群
汤彦骐
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
1997
1
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