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Ion Beam Polishing for K9 Glass
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作者 SU Zhiwei CHEN Qingchuan 《Southwestern Institute of Physics Annual Report》 2005年第1期147-149,共3页
K9 glass is a common material of optics and micro system, with cheaper price and better processing function. With the development of the optical and micro system, the technique of manufacturing micron/nanometer dimens... K9 glass is a common material of optics and micro system, with cheaper price and better processing function. With the development of the optical and micro system, the technique of manufacturing micron/nanometer dimensions microstructure and micro device on K9 glass has used in photoelectron, microwave and diffraction optics device et al The coarse surface of optics and microwave device can cause the light scattering and signal losing, and the function of device reduced. So the supersmooth surface plays an important role in optic and microwave device. 展开更多
关键词 K9 Glass ion beam polishing AFM Supersmooth surfaces
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离子束抛光对单晶硅表面质量影响的分子动力学模拟研究
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作者 赵仕燕 郭海林 +6 位作者 黄思玲 张旭 夏超翔 王大森 聂凤明 裴宁 李晓静 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第6期113-121,共9页
离子束抛光作为一种超精密加工技术,被应用于材料表面抛光的精抛阶段,而其原子量级的去除效果使得它的加工过程与加工效果难以直接观察,因此为了能够从微观尺度研究离子束抛光的加工效果以及加工参数对材料表面粗糙度与表面损伤的影响,... 离子束抛光作为一种超精密加工技术,被应用于材料表面抛光的精抛阶段,而其原子量级的去除效果使得它的加工过程与加工效果难以直接观察,因此为了能够从微观尺度研究离子束抛光的加工效果以及加工参数对材料表面粗糙度与表面损伤的影响,提出使用分子动力学模拟的方法研究离子束抛光过程,通过对氩离子轰击单晶硅的仿真模拟,分析加工参数对单晶硅表面粗糙度与晶格损伤的影响规律,指导实际的加工工艺设计.研究发现,在不同加工角度下,离子剂量对于表面粗糙度的影响规律不同,低角度(0°~40°)低剂量以及高角度(>50°)高剂量的加工有助于达到较低的表面粗糙度;随着加工角度的增加,离子束对晶体表面造成的损伤逐渐减少,当加工角度大于40°时能够大幅度减少晶格损伤.模拟结果显示在实际的离子束抛光过程中,为了得到高质量的表面,应该采取高角度高剂量的加工方式以达到既降低材料表面粗糙度又减小对材料表面晶格产生损伤的目的. 展开更多
关键词 离子束抛光 表面质量 分子动力学 单晶硅 加工角度
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离子束抛光去除函数的在位快速计算与抛光实验
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作者 张旭 王大森 +4 位作者 夏超翔 郭海林 黄思玲 赵仕燕 聂凤明 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第20期158-165,共8页
目的基于BP神经网络使用法拉第杯扫描离子束流实现离子束抛光去除函数的在位快速计算。方法对于空间分布不同的离子束流,通过法拉第杯扫描方法获得电流密度分布信息,通过刻蚀实验计算去除函数分布信息,使用BP神经网络对电流密度和去除... 目的基于BP神经网络使用法拉第杯扫描离子束流实现离子束抛光去除函数的在位快速计算。方法对于空间分布不同的离子束流,通过法拉第杯扫描方法获得电流密度分布信息,通过刻蚀实验计算去除函数分布信息,使用BP神经网络对电流密度和去除函数分布之间的关系进行拟合,建立基于BP神经网络计算去除函数的模型。使用该模型可以实现对去除函数的在位快速计算,并应用于光学元件的离子束抛光实验中。结果利用上述方法建立的BP神经网络模型计算的去除函数体积去除率和实验方法获得的去除函数体积去除率的误差为5.09%,使用计算的去除函数进行了离子束抛光实验,抛光样件为直径320 mm的融石英,抛光后光学元件表面PV值为0.197λ(波长λ=632.8 nm),RMS值为0.009λ,收敛率达到4.19,实现了光学元件表面的超精密抛光。结论使用建立的BP神经网络模型可以实现离子束抛光去除函数的在位快速计算,该模型对融石英及其他材料的光学元件均适用,计算的去除函数精度满足光学元件离子束超精密加工需求,并提高了离子束抛光的效率。 展开更多
关键词 离子束抛光 去除函数 半高全宽 BP神经网络 法拉第扫描 融石英
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多光谱硫化锌光学窗口离子束抛光工艺研究及参数优化
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作者 蔡根 朱蓓蓓 +2 位作者 秦琳 张楚鹏 陈肖 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期2247-2255,共9页
多光谱硫化锌因其在近、中、远红外等多个光谱波段具有较高的光学透率,广泛应用于红外光学制导导引头、光电探测雷达、机载光电吊舱。为了获得超高面形精度的多光谱硫化锌光学元件,并提高离子束抛光效率,采用正交实验方法对硫化锌进行... 多光谱硫化锌因其在近、中、远红外等多个光谱波段具有较高的光学透率,广泛应用于红外光学制导导引头、光电探测雷达、机载光电吊舱。为了获得超高面形精度的多光谱硫化锌光学元件,并提高离子束抛光效率,采用正交实验方法对硫化锌进行离子束单点刻蚀实验,获取各工艺参数下的去除函数特征量及体积去除率。通过对正交实验数据进行直观法分析和极差法分析,以体积去除率最大为目标进行工艺参数优化,获得的优化工艺参数组合为:离子束流电压1100 V、射频功率110 W、加速电压200 V、氩气流量7 sccm、加工距离30 mm。通过调控工艺参数获得不同的离子束束斑直径对口径为80mm硫化锌进行组合抛光,加工后的硫化锌面形精度PV值由467 nm下降到了71.506 nm、RMS值由112 nm下降到10.758 nm。以上实验结果表明,采用大、小束径离子束组合能够有效提升多光谱硫化锌光学元件的加工效率和面型精度。 展开更多
关键词 硫化锌 离子束抛光 去除函数 工艺优化 极差分析
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Application of BIB polishing technology in cross-section preparation of porous, layered and powder materials: A review 被引量:4
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作者 Rongrong JIANG Ming LI +2 位作者 Yirong YAO Jianmin GUAN Huanming LU 《Frontiers of Materials Science》 SCIE CSCD 2019年第2期107-125,共19页
For the accuracy of experimental results, preparing a high quality polished surface and cross-section of the materials for further analysis using electron backscattered diffraction (EBSD), electron probe microanalysis... For the accuracy of experimental results, preparing a high quality polished surface and cross-section of the materials for further analysis using electron backscattered diffraction (EBSD), electron probe microanalysis (EPMA), and scanning probe microscopy (SPM) is extremely important. Broad ion beam (BIB) polishing, a method based on the principle of ion bombardment, has irreplaceable advantages. It makes up for the drawbacks and limitations of traditional polishing methods such as mechanical polishing, electrochemical polishing, and chemical polishing. The ions will not leave the bombardment area during polishing, which makes the BIB method suitable for porous materials. The energy of the ion beam can be adjusted according to the sample to reduce the deformation and strain of the polishing area, especially for fragile, soft, and hard materials. The conditions that need to be controlled during BIB polishing are simple. This paper demonstrated the unique advantages of BIB polishing technology in porous, layered and powder materials characterization through some typical application examples, and guided more researchers to understand and utilize BIB polishing technology in the development of new applications. 展开更多
关键词 BROAD ion beam polishing LAYERED MATERIAL powder cross-section POROUS MATERIAL
原文传递
Polarization of Radiation Emitted after Electron Impact Excitation
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作者 吴泽清 李月明 +2 位作者 段斌 颜君 张弘 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2007年第6期1560-1562,共3页
A programme is developed to calculate the polarizations of the radiation emitted after electron impact excitation. The fully relativistic distorted-wave method is used in cross-section calculations. The programme is a... A programme is developed to calculate the polarizations of the radiation emitted after electron impact excitation. The fully relativistic distorted-wave method is used in cross-section calculations. The programme is applied to He- and Li-like ions. The calculated values of line polarization are compared with other theoretical results and experimental values. For He-like U, at lower incident energy, the present polarization agrees with the other theoretical ones within 1%, while at higher energy, the differences increase up to about 10%. For He-like Fe and Ti, the present results of polarization degree for most of the lines agree with the experimental data within the experimental error bars. For the Li-like Ti line q (ls2s2p^2p3/2 to ls^22s), the present value of the polarization agree excellently with another theoretical one, and both the values are consistent with the measured data within the experimental error bar. 展开更多
关键词 RAY-LINE POLARIZATion HIGHLY-CHARGED ionS HE-LIKE FE-XXV MAGNETICSUBLEVELS cross-sectionS beam SPECTROSCOPY TRANSITionS EMISSion
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离子束抛光在微电子封装失效分析领域的应用
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作者 王刚 冯丽婷 +6 位作者 李潮 黎恩良 郑林挺 胡宏伟 刘家儒 夏姗姗 武慧薇 《电子产品可靠性与环境试验》 2023年第6期94-97,共4页
首先,以具体微电子封装失效机理和失效模式研究的应用为落脚点,较为全面地介绍了离子束抛光的工作原理、样品参数选择依据;然后,利用离子束抛光系统对典型的封装互连结构进行抛光,结合材料和离子束刻蚀理论进行参数探索;最后,对尺寸测... 首先,以具体微电子封装失效机理和失效模式研究的应用为落脚点,较为全面地介绍了离子束抛光的工作原理、样品参数选择依据;然后,利用离子束抛光系统对典型的封装互连结构进行抛光,结合材料和离子束刻蚀理论进行参数探索;最后,对尺寸测量、成分分布和相结构等信息进行观察和分析,为离子束抛光系统在微电子封装破坏性物理分析和失效分析中的应用提供了指导。 展开更多
关键词 离子束抛光 截面 扫描电子显微镜 电子背散射衍射 失效分析 失效模式
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离子束修形技术 被引量:16
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作者 戴一帆 周林 +2 位作者 解旭辉 廖文林 沈永祥 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第4期753-760,805,共9页
离子束修形技术具有精度高、确定性好等优点,应用越来越广泛。介绍了离子束修形技术的原理和特点,以及国外离子束修形技术的发展历程和现状,并介绍了国内离子束修形技术的发展现状。针对当前离子束修形技术的研究热点,如中高频误差控制... 离子束修形技术具有精度高、确定性好等优点,应用越来越广泛。介绍了离子束修形技术的原理和特点,以及国外离子束修形技术的发展历程和现状,并介绍了国内离子束修形技术的发展现状。针对当前离子束修形技术的研究热点,如中高频误差控制技术、驻留时间求解算法和加工工艺等方面,综述了国内外的研究现状。 展开更多
关键词 离子束修形 抛光 驻留时间 光学加工
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计算机控制抛光中基于等面积增长螺旋线的加工路径 被引量:6
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作者 周林 戴一帆 +1 位作者 解旭辉 李圣怡 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期1-4,共4页
目前计算机控制抛光工艺中使用的阿基米德螺旋线路径,存在加工工件中心区域时工件转速过快的缺点。为了克服该缺点,分析了螺旋线路径加工的特点,分析表明工件的瞬时转速取决于加工点的驻留时间密度和螺旋线的面积增长速率。据此,提出了... 目前计算机控制抛光工艺中使用的阿基米德螺旋线路径,存在加工工件中心区域时工件转速过快的缺点。为了克服该缺点,分析了螺旋线路径加工的特点,分析表明工件的瞬时转速取决于加工点的驻留时间密度和螺旋线的面积增长速率。据此,提出了一种新的螺旋线作为抛光路径,该螺旋线的面积增长速率恒定,因此也称为等面积增长螺旋线。利用该螺旋线路径,加工转速趋于恒定,可降低加工中心区域的转速,从而降低对机床运动性能的要求,降低设备成本和加工成本。实验结果证实,阿基米德螺旋线路径加工中心区域容易产生过加工问题,加工精度较低;等面积增长螺旋线路径加工可避免中心区域过加工问题,获得较高的加工精度。 展开更多
关键词 计算机控制抛光 螺旋线路径 离子束修形 抛光
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超薄光学元件精密加工关键技术 被引量:12
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作者 彭利荣 马占龙 +2 位作者 王高文 王飞 王东方 《中国光学》 EI CAS CSCD 2015年第6期964-970,共7页
针对超薄光学元件在加工过程中因重力和磨头产生应力形变的特点,提出了一种高效、先进的超薄光学元件综合加工方法。该方法综合运用了精密铣磨、精密抛光、离子束修形等先进技术进行面形控制。在铣磨阶段采用受力分析和误差补偿的方法... 针对超薄光学元件在加工过程中因重力和磨头产生应力形变的特点,提出了一种高效、先进的超薄光学元件综合加工方法。该方法综合运用了精密铣磨、精密抛光、离子束修形等先进技术进行面形控制。在铣磨阶段采用受力分析和误差补偿的方法降低了元件变形引入的面形误差;在抛光阶段通过气囊抛光和沥青抛光的迭代实现了面形快速收敛;在离子束加工阶段充分利用其非接触、无应力的加工特点实现了高精度面形修正。实验选择径厚比为34(边长152 mm,厚度6.35 mm)的方形融石英材料进行加工实验。结果表明:在铣磨、抛光、修形阶段的各项指标都达到了精密光学元件的加工水平,最终的面形精度为PV=25 nm,RMS=1.5 nm。该加工方法可以广泛应用于超薄光学元件的高精度加工。 展开更多
关键词 超薄镜 精密铣磨 精密抛光 离子束精修 误差补偿
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应用细小离子束加工小型精密光学零件 被引量:9
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作者 解旭辉 谷文华 周林 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期10-14,共5页
随着现代光学技术的发展,全频段误差控制已成为高精度光学零件制造的一个基本要求。基于小磨头抛光原理的先进修形技术虽然能有效修正低频面形误差,但对于中高频段的面形误差难以修正。中高频误差成为了现代光学加工普遍关注的难点。理... 随着现代光学技术的发展,全频段误差控制已成为高精度光学零件制造的一个基本要求。基于小磨头抛光原理的先进修形技术虽然能有效修正低频面形误差,但对于中高频段的面形误差难以修正。中高频误差成为了现代光学加工普遍关注的难点。理论研究表明,减小小磨头尺寸可以提高工艺对中高频误差的修正能力,进一步提高光学加工精度。本文针对中高频面形误差的控制问题,开展细小离子束修形工艺研究,研究了获取小束径离子束的引束机理和引束结构,初步实现了稳定的细小离子束,针对某小型精密光学元件的具体加工问题,仿真研究了不同束径的加工效率和加工残差,并选择最优束径对元件进行了加工试验,使元件的精度从初始的0.111λrms减小到了0.015λrms(λ=632.8nm)。 展开更多
关键词 离子束抛光 中高频 面形误差 抛光
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离子束轰击法金刚石薄膜抛光 被引量:2
12
作者 陈俊 杨保雄 +1 位作者 王建军 吕反修 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第5期503-507,共5页
本文采用氩离子束轰击法,对不同晶体学表面形貌的CVD金刚石膜进行抛光处理。结果表明,对不同表面形貌的金刚石膜,应合理选择离子束轰击入射角,提高离子束加速电压有利于提高抛光效率,(100)择优生长的金刚石膜最容易得到高的表面平整度。
关键词 金刚石 薄膜 抛光 离子束轰击法
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利用功率谱密度评价离子束抛光光学元件表面粗糙度 被引量:5
13
作者 岳巾英 王泰升 李素文 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期208-211,共4页
利用功率谱密度(PSD)评价光学表面粗糙度具有传统评价手段(Ra)所不具备的优势。给出了功率谱密度的计算方法,以及抽样方向与一维PSD曲线的关系。在离子束抛光K9玻璃实验中引入PSD曲线,以评价抛光光学零件的光学表面粗糙度,结合PSD曲线... 利用功率谱密度(PSD)评价光学表面粗糙度具有传统评价手段(Ra)所不具备的优势。给出了功率谱密度的计算方法,以及抽样方向与一维PSD曲线的关系。在离子束抛光K9玻璃实验中引入PSD曲线,以评价抛光光学零件的光学表面粗糙度,结合PSD曲线与Ra值能够更全面的指导光学加工。 展开更多
关键词 功率谱密度(PSD) 表面粗糙度(Ra) 离子束抛光
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离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法 被引量:4
14
作者 郭伟远 成贤锴 梁斌 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期888-893,共6页
在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候,是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工,加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜... 在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候,是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工,加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜面面型的精度,首先多次用系数法得到比较理想且平滑的镜面面型,然后再用消去法精修面型。这种算法运算速度快,得到的面型精度高且较平滑。对这种综合算法进行仿真分析,比较了理想高斯函数与实际加工函数加工后的差别,同时比较了运用消去算法与综合算法得到的镜面面型,PV值由83.63nm减小到46.92nm,镜面精度提高了很多。 展开更多
关键词 离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形
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离子束加工中全频段误差的演变 被引量:3
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作者 李文卿 张继友 +3 位作者 王永刚 马仙梅 孟晓辉 李昂 《航天返回与遥感》 CSCD 2020年第5期47-54,共8页
在空间光学、光刻物镜、惯性约束聚变及强光系统等领域的高精密光学元件制造过程中,采用基于小磨头抛光原理的修形技术,虽然能有效去除面形低频误差,但对中高频误差难以修正。为了达到有效控制全频段误差的目的,文章以直径420mm的非球... 在空间光学、光刻物镜、惯性约束聚变及强光系统等领域的高精密光学元件制造过程中,采用基于小磨头抛光原理的修形技术,虽然能有效去除面形低频误差,但对中高频误差难以修正。为了达到有效控制全频段误差的目的,文章以直径420mm的非球面为样件,在离子束抛光机床上进行不同频段误差的修形收敛试验。针对光学元件面形误差在不同频段的特性,以面形误差频段均方根及梯度均方根指标作为评价参数,分析各频段误差产生的原因,探索离子束工艺参数及其他因素与各频段误差间的对应关系。通过4轮离子束迭代加工后,样件全频段面形误差均方根值从34.973nm收敛到6.025nm,梯度均方根值由0.091λ/cm收敛到0.061λ/cm(λ=632.8nm)。试验结果表明:通过优化离子束的工艺参数,可显著提升光学元件的全频段面形精度,实现频段误差在不同评价参数下的同步收敛。频段均方根及梯度均方根指标可作为评价全频段面形误差变化的标准,对光学加工具有参考价值。 展开更多
关键词 空间频段 全频段误差 离子束修形 工艺参数 航天遥感
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离子束抛光研究进展 被引量:4
16
作者 王喜社 李新凯 +1 位作者 谭袁迅 邓亦峭 《制造技术与机床》 北大核心 2019年第10期28-31,共4页
介绍了一种新型材料表面处理技术——离子束抛光,阐述了离子束表面抛光的基本原理及国内外离子束抛光的发展。介绍了离子束抛光作为一种新型表面抛光方法在研究领域中的应用,并综述了近年来离子束抛光研究的发展动态,简述了国内外相关... 介绍了一种新型材料表面处理技术——离子束抛光,阐述了离子束表面抛光的基本原理及国内外离子束抛光的发展。介绍了离子束抛光作为一种新型表面抛光方法在研究领域中的应用,并综述了近年来离子束抛光研究的发展动态,简述了国内外相关领域的主要研究成果及取得的进展,对离子束抛光技术做出了展望。 展开更多
关键词 离子束 抛光 材料表面处理 发展
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金刚石薄膜的抛光技术 被引量:4
17
作者 唐璧玉 靳九成 +1 位作者 陈小华 陈宗璋 《机械设计与制造工程》 1998年第4期3-6,共4页
介绍了目前正在研究和应用的金刚石薄膜抛光技术,并对它们的原理、特点和适用范围进行了分析和总结。
关键词 金刚石薄膜 抛光 热化学抛光 激光烧蚀
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离子束抛光工艺中驻留时间的分步消去算法 被引量:2
18
作者 郭伟远 成贤锴 白华 《天文研究与技术》 CSCD 2011年第4期374-379,共6页
在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。求解驻留时间是利用离子束加工函数和驻留时间的卷积等于镜面去除量的关系,而离子束抛光的过程就是一个执行解卷积的过程。受此启发,采用一种分步消去算法解矩阵的卷积运算。这种新算法... 在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。求解驻留时间是利用离子束加工函数和驻留时间的卷积等于镜面去除量的关系,而离子束抛光的过程就是一个执行解卷积的过程。受此启发,采用一种分步消去算法解矩阵的卷积运算。这种新算法占用计算机资源少,运算速度快,同时可以根据预先设定的加工精度算得满足要求的驻留时间函数。对这种新算法进行仿真分析,采用3种不同的消去顺序分步加工,得到了理想的仿真结果,PV值由抛光前的363.721 nm分别减小到6.136 nm、33.347 nm、3.875 nm,抛光后的镜面精度提高了很多。 展开更多
关键词 离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形
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纳米级面形精度光学平面镜加工 被引量:7
19
作者 张峰 《中国光学》 EI CAS 2014年第4期616-621,共6页
为实现纳米级面形精度光学平面镜的高效精密抛光,提出了一种由传统环带抛光技术和先进离子束抛光技术相结合的组合式加工方法。介绍了环带抛光技术和离子束抛光技术的原理,通过实验研究了离子束抛光的材料去除函数,并采用这种组合抛光... 为实现纳米级面形精度光学平面镜的高效精密抛光,提出了一种由传统环带抛光技术和先进离子束抛光技术相结合的组合式加工方法。介绍了环带抛光技术和离子束抛光技术的原理,通过实验研究了离子束抛光的材料去除函数,并采用这种组合抛光方法对口径为150 mm的平面镜进行抛光,抛光后平面镜的面形误差和表面粗糙度分别达到1.217nm RMS和0.506 nm RMS。实验结果表明,这种组合抛光技术适合纳米级面形精度光学平面镜的加工。 展开更多
关键词 光学加工 环带抛光 离子束抛光 材料去除函数
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超光滑超精密玻璃抛光新技术 被引量:7
20
作者 王承遇 李松基 +2 位作者 陶瑛 张咸贵 齐济 《玻璃》 2009年第10期33-37,共5页
超光滑抛光玻璃表面粗糙度为纳米量级,超精密抛光加工精度达到分子级或原子级。超光滑和超精密抛光新技术包括数控小工具抛光、应力盘抛光、浴法抛光、磁流变抛光、离子束抛光、电子束抛光、激光抛光和等离子辅助抛光等。本文重点阐述采... 超光滑抛光玻璃表面粗糙度为纳米量级,超精密抛光加工精度达到分子级或原子级。超光滑和超精密抛光新技术包括数控小工具抛光、应力盘抛光、浴法抛光、磁流变抛光、离子束抛光、电子束抛光、激光抛光和等离子辅助抛光等。本文重点阐述采用20KeV、1×1014. ions/cm2和1×1016. ions/cm2的N+离子对钠钙硅酸盐和铅玻璃进行离子束抛光的原理与工艺,抛光后粗糙度仅为几十纳米。采用高束流脉冲电子束抛光时,当束流超过1012 W/cm2时,玻璃表面Griffith裂纹扩张,粗糙度反而增加,必须严格控制抛光时电子束能量。 展开更多
关键词 超光滑抛光 超精密抛光 玻璃表面 电子束 离子束
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