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PREPARATION OF TiN FILMS BY N_2 ASSISTED Xe^+ ION BEAM ENHANCED DEPOSITION AND THEIR MECHANICAL PROPERTIES
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作者 WANG Xi YANG Genqing LIU Xianghuai ZHENG Zhihong HUANG Wei ZHOU Zuyao ZOU Shichang Ion Beam Laboratory,Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica,shanghai,China 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1992年第11期370-374,共5页
A new method for preparation of hard TiN films has been developed by using electron beam evaporation-deposition of Ti and bombardment with 40 keV Xe^+ ion beam in a N_2 gas environment.The synthesized TiN films were s... A new method for preparation of hard TiN films has been developed by using electron beam evaporation-deposition of Ti and bombardment with 40 keV Xe^+ ion beam in a N_2 gas environment.The synthesized TiN films were superior to PVD and CVD ones in respects of improved adhesion to substrate and low preparing temperature.They exhibited good wear resistance and high hardness up to 2200 kg/mm^2.Some industrial applications have been reported. 展开更多
关键词 tin film ion beam enhanced deposition mechanical properties
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SYNTHESIS OF TiN FILM WITH ION BEAM ENHANCED DEPOSITION AND ITS PROPERTIES
2
作者 ZHOU Jiankun LIU Xianghuai CHEN Youshan WANG Xi ZHENG Zhihong HUANG Wei ZOU Shichang Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica,Shanghai,China 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1990年第11期345-349,共5页
The TiN films were synthesized with an alternate process of depositing titanium from a E-gun evaporation source and 40 keV N^+ bombarding onto the target.It is shown from the composi- tion analysis and structure inves... The TiN films were synthesized with an alternate process of depositing titanium from a E-gun evaporation source and 40 keV N^+ bombarding onto the target.It is shown from the composi- tion analysis and structure investigations using RBS,AES,TEM,XPS and X-ray diffraction spectrum that the formed fihns are mainly composed of TiN phase with grain size of 30—40 nm and without preferred orientation,the nitrogen content in the film is much less than that in case without N^+ bombarding,and an intermixed region about 40 nm thick exists between the film and the substrate.The films exhibt high microhardness and low friction. ZHOU Jiankun,Ion Beam Laboratory,Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica, Shanghai 200050,China 展开更多
关键词 tin film ion beam enhanced deposition
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Effect of Cu content on the glass forming ability of Cu-Zr-Ti system studied by ion beam mixing 被引量:1
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作者 WANG Yuan Yu WANG Qi LIU Bai Xin 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第4期750-752,共3页
Based on the Cu-Zr-Ti ternary phase diagram,four sets of Cu-Zr-Ti multilayered films with various compositions of Cu20Zr36Ti44,Cu36Zr31Ti33,Cu49Zr24Ti27,and Cu67Zr16Ti17 were prepared and then the ion beam mixing was ... Based on the Cu-Zr-Ti ternary phase diagram,four sets of Cu-Zr-Ti multilayered films with various compositions of Cu20Zr36Ti44,Cu36Zr31Ti33,Cu49Zr24Ti27,and Cu67Zr16Ti17 were prepared and then the ion beam mixing was carried out.It turned out that the increase of Cu content doesn't always have a positive effect on the glass forming ability.The glass forming ability of Cu49Zr24Ti27 was degraded due to the appearance of a Cs Cl-type B2 structure Cu Zr phase in the eutectic region.The experimental observations justify the existence of the Cu Zr phase under the non-equilibrium condition.Possible formation mechanisms for the crystalline phase were also discussed in terms of the atomic collision theory. 展开更多
关键词 glass forming ability ion beam mixing filmS
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离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响 被引量:7
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作者 梁爱民 徐洮 +2 位作者 王立平 林义民 孙蓉 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期534-536,共3页
采用低能离子束辅助沉积技术在Si片上制备了TiN纳米薄膜。考察了离子束流密度和基底温度对薄膜性能的影响。研究表明:随着离子束流密度的增大,TiN薄膜的纳米硬度上升,膜基结合力变化不大,薄膜的耐磨性获得了很大改善;制膜时的基底温度升... 采用低能离子束辅助沉积技术在Si片上制备了TiN纳米薄膜。考察了离子束流密度和基底温度对薄膜性能的影响。研究表明:随着离子束流密度的增大,TiN薄膜的纳米硬度上升,膜基结合力变化不大,薄膜的耐磨性获得了很大改善;制膜时的基底温度升高,薄膜的硬度也会上升,但膜基结合力下降,摩擦系数增大,薄膜的耐磨性下降。 展开更多
关键词 tin薄膜 离子束辅助沉积 结合强度 纳米硬度 摩擦学性能
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氮气辅助氙离子束增强沉积TiN薄膜及其机械性能 被引量:2
5
作者 王曦 杨根庆 +4 位作者 柳襄怀 郑志宏 黄巍 周祖尧 邹世昌 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1992年第3期B133-B137,共5页
本文提出一个合成TiN硬质薄膜的新方法,在氮气氛中,电子束蒸发沉积Ti的同时,用40keV的氙离子束对其进行轰击而合成TiN薄膜,该方法优于PVD和CVD之处在于合成温度低,薄膜与基体结合力强,其临界载荷达4.2kg,Knoop硬度达2200kg/mm^2,具有良... 本文提出一个合成TiN硬质薄膜的新方法,在氮气氛中,电子束蒸发沉积Ti的同时,用40keV的氙离子束对其进行轰击而合成TiN薄膜,该方法优于PVD和CVD之处在于合成温度低,薄膜与基体结合力强,其临界载荷达4.2kg,Knoop硬度达2200kg/mm^2,具有良好的耐磨损性能,报道了所合成的TiN薄膜在工业上应用的一些结果。 展开更多
关键词 tin薄膜 离子束 增强沉积 耐磨性
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离子束增强沉积TiN薄膜界面结合强度的研究 被引量:14
6
作者 顾剑锋 周平南 杨晓豫 《金属热处理学报》 CSCD 1997年第2期30-35,共6页
采用划痕法测定了离子束增强沉积TiN薄膜的界面结合力。结果表明,由于在离子束增强沉积过程中TiN薄膜和基体之间生成一层厚约30~40nm的过渡层,从而大大改善了涂层的界面结合强度,其临界载荷可达140N,为一般PVD... 采用划痕法测定了离子束增强沉积TiN薄膜的界面结合力。结果表明,由于在离子束增强沉积过程中TiN薄膜和基体之间生成一层厚约30~40nm的过渡层,从而大大改善了涂层的界面结合强度,其临界载荷可达140N,为一般PVD和CVD方法所生成的TiN膜的3~4倍,并且发现它并不随膜厚的增加而变化。 展开更多
关键词 薄膜 离子束增强沉积 界面结合强度 氮化钛
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氮离子束轰击对电弧离子镀TiN膜层的作用 被引量:2
7
作者 吕树国 刘常升 +3 位作者 李玉海 张罡 毕监智 金光 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期58-60,84,共3页
电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用。采用俄罗斯UVN0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击。结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全... 电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用。采用俄罗斯UVN0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击。结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低。膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强。膜层的显微硬度由原来的1980HV1N升高到2310HV1N。 展开更多
关键词 氮离子束 轰击 电弧离子镀 tin 显微硬度
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离子束辅助沉积TiN膜的摩擦学特性 被引量:4
8
作者 刘捍卫 陈元儒 张绪寿 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第7期B323-B326,共4页
用XPS,AES和XRD分析厚约2μm离子束辅助沉积TiN膜的成分和结构.实验表明:膜的表面成分主要是TiO_2,膜内是轻微择优取向晶粒较细的TiN.膜与衬底的界面存在混合区,用阶梯加载法测定润滑条件下GCr15钢与... 用XPS,AES和XRD分析厚约2μm离子束辅助沉积TiN膜的成分和结构.实验表明:膜的表面成分主要是TiO_2,膜内是轻微择优取向晶粒较细的TiN.膜与衬底的界面存在混合区,用阶梯加载法测定润滑条件下GCr15钢与TiN膜对磨时的临界载荷-速度关系.试验发现TiN膜可显著扩大边界润滑区,承受较大载荷而不致发生擦伤. 展开更多
关键词 氮化钛膜 离子束沉积 滑动摩擦
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脉冲偏压对离子束辅助电弧离子镀TiN/Cu纳米复合膜结构及硬度的影响 被引量:3
9
作者 李凤岐 冯丹 +1 位作者 赵彦辉 于宝海 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期1040-1046,共7页
采用离子束辅助电弧离子镀技术在高速钢基体上制备TiN/Cu纳米复合薄膜,考察了基体脉冲负偏压对薄膜成分、结构及硬度的影响。用X射线光电子谱、X射线衍射、扫描电镜、透射电镜和纳米压痕等方法分别测试了薄膜的化学成分、结构、表面形... 采用离子束辅助电弧离子镀技术在高速钢基体上制备TiN/Cu纳米复合薄膜,考察了基体脉冲负偏压对薄膜成分、结构及硬度的影响。用X射线光电子谱、X射线衍射、扫描电镜、透射电镜和纳米压痕等方法分别测试了薄膜的化学成分、结构、表面形貌、硬度以及弹性模量。结果表明,在氮离子束的轰击作用下,随着脉冲偏压幅值从-100 V增加到-900 V时,薄膜中Cu含量先增加而后略有降低,在1.05%-2.50%(原子比)范围内变化。同时,脉冲偏压对薄膜的结构也有明显影响,在-100 V出现TiN(111)择优取向,当基体偏压增加到-300 V以上时,择优取向改变为TiN(220)择优。薄膜的Cu2p峰均对应纯金属Cu,薄膜的晶粒尺寸约在11-17 nm范围内变化。硬度和弹性模量随着偏压幅值增加而增大,当偏压为-900 V时,薄膜硬度和弹性模量达到最大值,分别为29.92 GPa,476 GPa,对应的铜含量为1.91%。 展开更多
关键词 tin/Cu纳米复合膜 离子束辅助沉积 电弧离子镀 脉冲偏压 硬度
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离子束增强沉积TiN薄膜的研究 被引量:1
10
作者 向伟 赖祖武 +2 位作者 罗四维 方仁昌 李文治 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1998年第4期308-312,共5页
利用多功能离子束增强沉积设备,采用三种不同工艺方法制备TiN薄膜,并对制备的TiN薄膜进行了AES,XPS,XRD,RBS和TEM等分析。结果表明:所制备的薄膜都有很好均匀性,TiN薄膜处在压应力状态;在溅射沉积的同时,在0~20keV范围内,N+... 利用多功能离子束增强沉积设备,采用三种不同工艺方法制备TiN薄膜,并对制备的TiN薄膜进行了AES,XPS,XRD,RBS和TEM等分析。结果表明:所制备的薄膜都有很好均匀性,TiN薄膜处在压应力状态;在溅射沉积的同时,在0~20keV范围内,N+和Ar+离子的轰击使得TiN薄膜的生长呈现不同择优取向;随着N+离子轰击能量的增加,制备的TiN薄膜的晶粒增大。 展开更多
关键词 离子束增强沉积 离子轰击 薄膜 氮化钛
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工艺参数对离子束辅助沉积TiN薄膜性能的影响 被引量:1
11
作者 李国明 孙世尧 陈学群 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第6期66-68,共3页
为进一步提高牙科材料的生物相容性、耐磨性和耐腐蚀性能,将离子束辅助沉积制备TiN纳米薄膜技术引入到铁铬钼牙科材料的研究中,在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜。测定了表面膜层的显微硬度,在模拟口腔环境的溶液中,采用电化学方法,... 为进一步提高牙科材料的生物相容性、耐磨性和耐腐蚀性能,将离子束辅助沉积制备TiN纳米薄膜技术引入到铁铬钼牙科材料的研究中,在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜。测定了表面膜层的显微硬度,在模拟口腔环境的溶液中,采用电化学方法,对经不同工艺参数沉积TiN薄膜的牙科用Fe-Cr-Mo合金的耐蚀性进行测试,并以未进行表面镀膜的Fe-Cr-Mo合金为对照。结果表明:经TiN镀膜处理的Fe-Cr-Mo软磁合金硬度明显增加,在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高。工艺参数不同,硬度增加的程度不同,耐蚀性差别也较大,当氮气流量为1.5mL/min,溅射时间为4h时,得到的膜厚为2μm,此时TiN膜硬度最高,在口腔溶液中耐腐蚀性最好。 展开更多
关键词 铁铬钼软磁合金 离子束辅助沉积 显微硬度 耐蚀性 tin薄膜
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等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积TiN膜研究 被引量:1
12
作者 王钧石 柳襄怀 +2 位作者 黄楠 孙宏 王良辉 《材料开发与应用》 CAS 2003年第5期17-20,共4页
本文采用一种新型的等离子体浸没式离子注入 离子束增强沉积的技术(PIII IBAD),在Cr12MoV钢基体上制备出了TiN膜,对沉积膜的组织进行了光电子能谱分析,并对沉积膜进行了硬度检测、摩擦试验及磨痕形貌分析。试验结果表明,沉积膜中的组织... 本文采用一种新型的等离子体浸没式离子注入 离子束增强沉积的技术(PIII IBAD),在Cr12MoV钢基体上制备出了TiN膜,对沉积膜的组织进行了光电子能谱分析,并对沉积膜进行了硬度检测、摩擦试验及磨痕形貌分析。试验结果表明,沉积膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3,TiN膜具有高达Hv3200的高硬度和极其优良的摩擦性能。 展开更多
关键词 等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积(PⅢ-IBAD) tin 显微硬度 摩擦性能
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离子束辅助沉积制备TiN/Si_3N_4纳米超硬膜的工艺研究
13
作者 张平 蔡志海 +1 位作者 杜月和 谭俊 《核技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期120-124,共5页
采用离子束辅助沉积法(Ion beam assisted deposition,IBAD)在单晶硅片上进行沉积制备了TiN/Si3N4 纳米复合超硬薄膜;研究了辅助束流、轰击能量和Ti:Si靶面积比等工艺参数对TiN/Si3N4超硬纳米复合薄膜性能的影响。此外采用纳米硬度计... 采用离子束辅助沉积法(Ion beam assisted deposition,IBAD)在单晶硅片上进行沉积制备了TiN/Si3N4 纳米复合超硬薄膜;研究了辅助束流、轰击能量和Ti:Si靶面积比等工艺参数对TiN/Si3N4超硬纳米复合薄膜性能的影响。此外采用纳米硬度计、光电子能谱(X-ray photoelectron spectrum,XPS)和X射线衍射分析(X-ray diffraction,XRD)方法研究了纳米复合薄膜的性能、成分与组织结构;采用原子力显微镜(Atomic force microscopy,AFM)分析了薄膜的表面形貌,并初步探讨了TiN/Si3N4纳米复合超硬薄膜的生长机理。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 超硬纳米复合物 tin/Si3N4薄膜
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离子束增强沉积TiN薄膜的耐蚀性
14
作者 朱雪梅 马永乐 张琳 《大连交通大学学报》 CAS 2013年第6期79-82,共4页
采用不同离子束入射方向的离子束增强沉积技术(IBED)在W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜.利用阳极极化曲线测试技术研究TiN薄膜在0.5 mol/L H2SO4和3%NaCl溶液中的耐蚀性.结果表明:在0.5 mol/L H2SO4溶液中,离子束入射角度为45°时的Ti... 采用不同离子束入射方向的离子束增强沉积技术(IBED)在W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜.利用阳极极化曲线测试技术研究TiN薄膜在0.5 mol/L H2SO4和3%NaCl溶液中的耐蚀性.结果表明:在0.5 mol/L H2SO4溶液中,离子束入射角度为45°时的TiN薄膜的阳极极化曲线呈现自钝化,自腐蚀电位E corr由原始高速钢的-400 mV增至-71 mV,致钝电流密度i b和维钝电流密度i p分别比原始试样降低4个和2个数量级,耐蚀性能显著提高.在3%NaCl溶液中,离子束入射角度分别为0°、30°沉积的TiN薄膜的阳极极化曲线均呈现自钝化-点蚀击穿过程,随着入射角度的增加,自腐蚀电位和点蚀击穿电位升高,入射角度为45°时的TiN薄膜不发生点蚀破坏,自腐蚀电位E corr由原始高速钢的-600 mV增至-10 mV,具有高的抗点蚀性能. 展开更多
关键词 离子束增强沉积 tin薄膜 W18CR4V高速钢 阳极极化
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合成TiN膜的俄歇电子能谱研究
15
作者 刘必荣 M.Lengacher 《安徽大学学报(自然科学版)》 CAS 1996年第4期25-28,共4页
采用离子束增强沉积方法(IBED),在Fe基上制备了TiN薄膜。通过划痕仪,透射电镜(TEM),俄歇电子能谱(AES),粘着力测量仪的观测,分析和计算,给出了膜的形貌,组分和机械特性;发现TiN膜与衬底之间存在一过渡... 采用离子束增强沉积方法(IBED),在Fe基上制备了TiN薄膜。通过划痕仪,透射电镜(TEM),俄歇电子能谱(AES),粘着力测量仪的观测,分析和计算,给出了膜的形貌,组分和机械特性;发现TiN膜与衬底之间存在一过渡区,膜中含氧量比气相真空沉积(CVD)明显减小。在AES定量计算中,本文采用一种与文献不同的方法。 展开更多
关键词 氮化钛 薄膜 合成 俄歇电子能谱
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TiN薄膜的合成及其性能研究 被引量:1
16
作者 周建坤 柳襄怀 +4 位作者 陈酉善 王曦 郑志宏 黄巍 邹世昌 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1990年第2期B130-B135,共6页
用电子束蒸发沉积钛和40keV氮离子束轰击交替进行的办法合成了TiN薄膜。用RBS,AES,TEM,XPS,和X射线衍射研究TiN薄膜的组分和结构表明:用离子束增强沉积制备的TiN薄膜主要由TiN相构成;晶粒大小为30—40um,无择优取向;而非离子束轰击沉积... 用电子束蒸发沉积钛和40keV氮离子束轰击交替进行的办法合成了TiN薄膜。用RBS,AES,TEM,XPS,和X射线衍射研究TiN薄膜的组分和结构表明:用离子束增强沉积制备的TiN薄膜主要由TiN相构成;晶粒大小为30—40um,无择优取向;而非离子束轰击沉积的薄膜则是无定形的;用离子束增强沉积制备的TiN薄膜,其氧含量明显小于无离子束轰击薄膜的值;在TiN薄膜和衬底之间存在一个界面混合区,厚度为40um左右。机械性能测试表明,TiN薄膜具有高的显微硬度,低的摩擦系数。 展开更多
关键词 tin 薄膜 合成 离子束 沉积
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离子束辅助沉积TiN薄膜的结构和成分 被引量:1
17
作者 江海 王广兵 +1 位作者 陶琨 李恒德 《真空科学与技术》 CSCD 1993年第6期421-424,共4页
用离子束辅助沉积合成了TiN薄膜,背散射、X射线衍射和透射电镜实验的结果表明,在本实验条件下,薄膜Ti/N比接近于TiN的化学计量比,和氮离子束流密度无关。薄膜存在<100>择优取向,在一定条件下,可以形成只有(100)取向的TiN薄膜。
关键词 氮化钛 薄膜 离子束 沉积
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超薄聚合物表面上滴状冷凝的传热研究 被引量:6
18
作者 马学虎 李洪安 +1 位作者 徐敦颀 龙振湖 《高校化学工程学报》 EI CAS CSCD 1993年第4期309-316,共8页
本文采用等离子体聚合和离子束动态混合注入技术在不同的基材(黄铜、紫铜、不锈钢和碳钢)上制备了聚六氟丙烯和聚四氟乙烯的超薄膜,并进行了垂直管外的水蒸汽的滴状冷凝实验。实验发现,对于不同的基材,表面制备的工艺参数对冷凝传热性... 本文采用等离子体聚合和离子束动态混合注入技术在不同的基材(黄铜、紫铜、不锈钢和碳钢)上制备了聚六氟丙烯和聚四氟乙烯的超薄膜,并进行了垂直管外的水蒸汽的滴状冷凝实验。实验发现,对于不同的基材,表面制备的工艺参数对冷凝传热性能及维持滴状冷凝的寿命具有显著的影响。表面性能的测试和估算为预测给定蒸汽在某表面是否成滴提供了依据。 展开更多
关键词 超薄聚合物 表面 滴状冷凝 传热
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H^+辐照对不锈钢基体上涂覆W膜的微观研究 被引量:2
19
作者 杨斌 雷家荣 +1 位作者 汪德志 黄宁康 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期267-271,共5页
对奥氏体不锈钢基体上采用离子束混合技术进行不同厚度的钨膜沉积 ,沉积后的试样进行了H+注入前后的XRD和SEM微观分析 ,研究了H+辐照对W膜的晶体结构和形貌的影响。结果表明 ,沉积的W膜基本上是非晶的 ,还出现了由于污染造成的钨的氧化... 对奥氏体不锈钢基体上采用离子束混合技术进行不同厚度的钨膜沉积 ,沉积后的试样进行了H+注入前后的XRD和SEM微观分析 ,研究了H+辐照对W膜的晶体结构和形貌的影响。结果表明 ,沉积的W膜基本上是非晶的 ,还出现了由于污染造成的钨的氧化物。氢离子的辐照模拟结果表明 ,少量晶化的W向非晶化转变 ,污染的氧化物被择优溅射掉。H+轰击对W膜表面形貌的影响不大 ,它仍然致密、均匀、完整且无明显损伤。 展开更多
关键词 不锈钢基体 离子束混合 W薄膜 H^+辐照 氢离子 辐照模拟 聚变堆 第一壁 钨薄膜 微结构 保护
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离子束增强沉积氮化钛膜改善硬质合金刀具抗切削损伤性能的研究 被引量:6
20
作者 章宗城 贝韵芬 +2 位作者 都佩贤 沈坚 柳襄怀 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第2期156-161,共6页
通过切削对比试验,考察了分别用离子束增强沉积法和离子镀法镀覆TiN膜的硬质合金刀具和无镀层的同种硬质合金刀具的抗切削损伤性能.结果表明,在给定的试验条件下,有离子束增强沉积TiN膜硬质合金刀具的切削距离远比无镀层刀具... 通过切削对比试验,考察了分别用离子束增强沉积法和离子镀法镀覆TiN膜的硬质合金刀具和无镀层的同种硬质合金刀具的抗切削损伤性能.结果表明,在给定的试验条件下,有离子束增强沉积TiN膜硬质合金刀具的切削距离远比无镀层刀具的长,也比有离子镀TiN膜刀具的长,其前面和后面的损伤都很小.这是离子束增强沉积过程中各种参数可以分别调节,膜层质量易于控制,能够形成致密度高且与基体结合力强的硬质薄膜的结果.刀具切削损伤的原因主要有磨损和脆性损伤。 展开更多
关键词 硬质合金 刀具 切削损伤 离子束增强沉积 tin
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