离子束溅射沉积羟基磷灰石涂层钛种植体材料的制备和表征

采用Ａｒ＋离子束溅射沉积技术在钛基体上沉积羟基磷灰石薄膜涂层，Ａｒ＋离子束的能量分别为０．９ｋｅＶ、１．２ｋｅＶ和１．５ｋｅＶ。利用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、扫描电镜（ＳＥＭ）、透射电镜（ＴＥＭ）和红外光谱（ＦＴＩＲ）等检测方法，对制备的羟基磷灰石薄膜涂层进行了表征。Ｘ射线衍射和透射电镜结果表明该薄膜涂层为非晶态；红外光谱中无羟基（ＯＨ－）特征峰存在，ＣＯ＝３根吸收峰的出现说明制备过程中会引入ＣＯ＝３根；扫描电镜观察结果显示出制备的羟基磷灰石薄膜涂层致密、均匀；划痕实验结果表明涂层与钛基体间的结合紧密。以上结果表明，离子束溅射沉积技术可以用于沉积羟基磷灰石薄膜涂层钛种植材料。