期刊文献+
共找到87篇文章
< 1 2 5 >
每页显示 20 50 100
Effects of the ion-beam voltage on the properties of the diamond-like carbon thin film prepared by ion-beam sputtering deposition 被引量:1
1
作者 孙鹏 胡明 +4 位作者 张锋 季一勤 刘华松 刘丹丹 冷健 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第6期581-585,共5页
Diamond-like carbon (DLC) thin film is one of the most widely used optical thin films. The fraction of chemical bondings has a great influence on the properties of the DLC film. In this work, DLC thin films are prep... Diamond-like carbon (DLC) thin film is one of the most widely used optical thin films. The fraction of chemical bondings has a great influence on the properties of the DLC film. In this work, DLC thin films are prepared by ion-beam sputtering deposition in Ar and CH4 mixtures with graphite as the target. The influences of the ion-beam voltage on the surface morphology, chemical structure, mechanical and infrared optical properties of the DLC films are investigated by atomic force microscopy (AFM), Raman spectroscopy, nanoindentation, and Fourier transform infrared (FTIR) spec- troscopy, respectively. The results show that the surface of the film is uniform and smooth. The film contains sp2 and sp3 hybridized carbon bondings. The film prepared by lower ion beam voltage has a higher sp3 bonding content. It is found that the hardness of DLC films increases with reducing ion-beam voltage, which can be attributed to an increase in the fraction of sp3 carbon bondings in the DLC film. The optical constants can be obtained by the whole infrared optical spectrum fitting with the transmittance spectrum. The refractive index increases with the decrease of the ion-beam voltage, while the extinction coefficient decreases. 展开更多
关键词 DLC thin film ion-beam sputtering deposition chemical bondings infrared optical and mechani-cal properties
下载PDF
In vitro Cyto and Blood Compatibility of Titanium Containing Diamond-Like Carbon Prepared by Hybrid Sputtering Method
2
作者 Krishnasamy NAVANEETHA PANDIYARAJ Jan HEEG +5 位作者 Andreas LAMPKA Fabian JUNGE Torsten BARFELS Marion WIENECKE Young Ha RHEE Hyoung Woo KIM 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第9期829-836,共8页
In recent years, diamond-like carbon films (DLC) have been given more attention in research in the biomedical industry due to their potential application as surface coating on biomedical materials such as metals and... In recent years, diamond-like carbon films (DLC) have been given more attention in research in the biomedical industry due to their potential application as surface coating on biomedical materials such as metals and polymer substrates. There are many ways to prepare metal containing DLC films deposited on polymeric film substrates, such as coatings from car- bonaceous precursors and some means that incorporate other elements. In this study, we in- vestigated both the surface and biocompatible properties of titanium containing DLC (Ti-DLC) films. The Ti-DLC films were prepared on the surface of poly (ethylene terephthalate) (PET) film as a function of the deposition power level using reactive sputtering technique. The films' hydrophilicity was studied by contact angle and surface energy tests. Their surface morphology was studied by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). Their elemental chemical composition was analyzed using energy dispersive X-spectra (EDX) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Their blood and cell compatibility was studied by in vitro tests, including tests on platelet adhesion, thrombus formation, whole blood clotting time and osteoblast cell compatibility. Significant changes in the morphological and chemical composition of the Ti-DLC films were observed and found to be a function of the deposition level. These morphological and chemical changes reduced the interfacial tension between Ti-DLC and blood proteins as well as resisted the adhesion and activation of platelets on the surface of the Ti-DLC films. The cell compatibility results exhibited significant growth of osteoblast cells on the surface of Ti incorporated DLC film compared with that of DLC film surface. 展开更多
关键词 Ti-DLC hybrid reactive sputtering technique surface analysis cyto and blood compatibility
下载PDF
Surface Modification of NaCl Particles with Metal Films Using the Polygonal Barrel-Sputtering Method
3
作者 Satoshi Akamaru Mitsuhiro Inoue Takayuki Abe 《Materials Sciences and Applications》 2013年第7期29-34,共6页
In this study, the surfaces of NaCl particles were modified with metal films using the polygonal barrel-sputtering method. When Pt was sputtered on NaCl particles, the individual particles changed from white to metall... In this study, the surfaces of NaCl particles were modified with metal films using the polygonal barrel-sputtering method. When Pt was sputtered on NaCl particles, the individual particles changed from white to metallic. Characterization of the treated samples indicated that thin Pt metal films were uniformly deposited on the NaCl particles. Immersion of the treated NaCl particles in water revealed that they floated to the surface of the water with the increase in the immersion time, although their original cubic shapes remained unchanged. The floating phenomenon of the Pt-coated NaCl particles, as mentioned above, suggests that NaCl was dissolved by the permeation of water through invisible defects such as grain boundaries in the Pt films, leading to the formation of hollow particle-like materials. It should be noted that uniform film deposition on the NaCl particles could also be achieved by sputtering with Au or Cu. Based on the obtained results, our sputtering method allows uniform surface modification of water-soluble and water-reactive powders that cannot be treated by conventional wet process using water. 展开更多
关键词 Particle Surface Modification IONIC Crystal DRY Process sputtering technique NACL
下载PDF
Synthesis and Characterization of Copper Doped Zinc Oxide Thin Films Deposited by RF/DC Sputtering Technique
4
作者 KHAN Mohibul ALAM Md.Shabaz AHMED Sk.Faruque 《Journal of Shanghai Jiaotong university(Science)》 EI 2023年第2期172-179,共8页
Undoped and copper(Cu)doped zinc oxide(Zn_(1-x)Cu_(x)O,where x=0-0.065)nano crystal thin films have been deposited on glass substrate via RF/DC reactive co-sputtering technique.The aim of this work is to investigate t... Undoped and copper(Cu)doped zinc oxide(Zn_(1-x)Cu_(x)O,where x=0-0.065)nano crystal thin films have been deposited on glass substrate via RF/DC reactive co-sputtering technique.The aim of this work is to investigate the crystal structure of ZnO and Cu doped ZnO thin films and also study the effect of Cu doping on optical band gap of ZnO thin films.The identification and confirmation of the crystallinity,film thickness and surface morphology of the nano range thin films are confirmed by using X-ray diffractometer(XRD),scanning electron microscope and atomic force microscope.The XRD peak at a diffractive angle of 34.44°and Miller indices at(002)confirms the ZnO thin films.Crystallite size of undoped ZnO thin films is 27 nm and decreases from 27 nm to 22 nm with increasing the atomic fraction of Cu(x_(Cu))in the ZnO thin films from 0 to 6.5%respectively,which is calculated from XRD(002)peaks.The different bonding information of all deposited films was investigated by Fourier transform infrared spectrometer in the range of wave number between 400 cm^(-1) to 4000 cm^(-1).Optical band gap energy of all deposited thin films was analyzed by ultraviolet visible spectrophotometer,which varies from 3.35 eV to 3.19 eV with the increase of x_(Cu) from 0 to 6.5%respectively.Urbach energy of the deposited thin films increases from 115 meV to 228 meV with the increase of x_(Cu) from 0 to 6.5% respectively. 展开更多
关键词 Cu-ZnO thin films RF/DC sputtering technique X-ray diffraction atomic force microscope optical property Urbach energy
原文传递
Studies on Ion-Beam Modified Hydrogen Evolution Electrodes
5
作者 Zhang Ji-shuang Li Qin-lian Lu Yao-jiao and Yan Xi-yun (Department of Chemistry and Chemical Engineering, Hunan Univesity, Changsha, 410082) Hou Rang-kun (Deaprtment of Chemistiy , Henan Educational College, Zhengzhou, 450003 ) 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 1994年第2期68-71,共4页
he present paper focuses on the modifying effects of ion beam mixing, ion im-planting and ion sputtering on hydrogen evolution electrodes. It was discovered thatthe four types of electrodes possessed excellent catalyt... he present paper focuses on the modifying effects of ion beam mixing, ion im-planting and ion sputtering on hydrogen evolution electrodes. It was discovered thatthe four types of electrodes possessed excellent catalytic activity in acid or alkalinemedia and potential stability in long term electrolysis of water under high currentdensity. Their stability and applying life-span greatly surpass those of other elec-trodes activated by electrodepositing and other method. The effects of temperatureand roughness on function of electrodes were also examined. XPS and AES wereapplied to analyse the surface composition and bond states of the electrodes, andthe distribution of concentration varying with depth, and to explain the law of theexperiments . 展开更多
关键词 Implantating ion-beam Mixing Ion sputtering XPS Hydrogen Evo-lution Reaction
下载PDF
The influence of sequence of precursor films on CZTSe thin films prepared by ion-beam sputtering deposition
6
作者 Jun Zhao Guangxing Liang +4 位作者 Yang Zeng Ping Fan Juguang Hu Jingting Luo Dongping Zhang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2017年第2期15-19,共5页
The CuZnSn(CZT) precursor thin films are grown by ion-beam sputtering Cu, Zn, Sn targets with different orders and then sputtering Se target to fabricate Cu_2ZnSnSe_4(CZTSe) absorber thin films on molybdenum subst... The CuZnSn(CZT) precursor thin films are grown by ion-beam sputtering Cu, Zn, Sn targets with different orders and then sputtering Se target to fabricate Cu_2ZnSnSe_4(CZTSe) absorber thin films on molybdenum substrates. They are annealed in the same vacuum chamber at 400 ℃. The characterization methods of CZTSe thin films include X-ray diffraction(XRD), energy dispersive spectroscopy(EDS), scanning electron microscopy(SEM), and X-ray photoelectron spectra(XPS) in order to study the crystallographic properties, composition, surface morphology, electrical properties and so on. The results display that the CZTSe thin films got the strongest diffraction peak intensity and were with good crystalline quality and its morphology appeared smooth and compact with a sequence of Cu/Zn/Sn/Se, which reveals that the expected states for CZTSe are Cu^(1+), Zn^(2+), Sn^(4+), Se^(2).With the good crystalline quality and close to ideal stoichiometric ratio the resistivity of the CZTSe film with the sequence of Cu/Zn/Sn/Se is lower, whose optical band gap is about 1.50 eV. 展开更多
关键词 CZTSe thin films ion-beam sputtering chalcogenide
原文传递
磁控溅射技术新进展及应用 被引量:20
7
作者 张继成 吴卫东 +1 位作者 许华 唐晓红 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第4期56-59,共4页
主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方... 主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果。 展开更多
关键词 磁控溅射技术 薄膜制备 多靶磁控溅射技术 磁场扫描法 非平衡磁控溅射技术 脉冲磁控溅射技术
下载PDF
二氧化钛纳米微粒膜光电化学行为的研究 被引量:13
8
作者 罗瑾 苏连永 +3 位作者 谢雷 周静 祖延兵 林仲华 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1998年第4期315-319,共5页
利用不同的制备方法制备出二氧化钛纳米微粒膜,对二氧化钛纳米微粒膜的光电化学材为和产生的机理进行了研究.结果表明;二氧化钛纳米微粒膜除了具有传统半导体的光电化学性质外,还具有不同于传统半导体的光电化学性质这主要是出膜的... 利用不同的制备方法制备出二氧化钛纳米微粒膜,对二氧化钛纳米微粒膜的光电化学材为和产生的机理进行了研究.结果表明;二氧化钛纳米微粒膜除了具有传统半导体的光电化学性质外,还具有不同于传统半导体的光电化学性质这主要是出膜的微粒性引起的,可综合传统半导体和胶粒半导体两种模型来加以解释。 展开更多
关键词 二氧化钛 纳米微粒膜 半导体 光电化学
下载PDF
射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能 被引量:5
9
作者 熊小涛 阎良臣 +1 位作者 杨会生 王燕斌 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期205-208,212,共5页
研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表 明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式, 即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄... 研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表 明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式, 即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要 决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要 采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出 高硬度的氧化铬薄膜. 展开更多
关键词 氧化铬 薄膜 磁控溅射 力学性能
下载PDF
在Si(111)上磁控溅射碳化硅薄膜的H_2退火效应 被引量:7
10
作者 安霞 庄惠照 +2 位作者 杨莺歌 李怀祥 薛成山 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期593-598,共6页
用射频磁控溅射法在常温硅衬底上制备了碳化硅薄膜并研究了氢退火对薄膜的影响 .用傅里叶红外透射谱(FTIR)、X射线衍射 (XRD)、X光电子能谱 (XPS)、扫描电镜 (SEM)及原子力显微镜 (AFM)对薄膜样品进行了结构、组分和形貌分析 .结果表明 ... 用射频磁控溅射法在常温硅衬底上制备了碳化硅薄膜并研究了氢退火对薄膜的影响 .用傅里叶红外透射谱(FTIR)、X射线衍射 (XRD)、X光电子能谱 (XPS)、扫描电镜 (SEM)及原子力显微镜 (AFM)对薄膜样品进行了结构、组分和形貌分析 .结果表明 :高温退火后 Si C膜的晶化程度明显提高 。 展开更多
关键词 磁控溅射 碳化硅 薄膜 氢退火 碳纳米线碳化硅
下载PDF
溅射法制备InSb薄膜工艺探索——In与Sb的原子比问题 被引量:4
11
作者 温作晓 孙承松 +2 位作者 魏永广 关艳霞 周立军 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2001年第7期35-36,共2页
介绍一种基于原子比为 1:1的InSb靶制备原子比为 1:1的InSb薄膜的方法 ,实验结果表明 。
关键词 溅射 INSB薄膜 原子比 磁敏元件 磁敏传感器
下载PDF
磁控溅射法制备金团簇纳米颗粒及性能表征 被引量:9
12
作者 李喜波 唐晓红 +3 位作者 吴卫东 唐永建 王红艳 杨向东 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1023-1026,共4页
采用磁控溅射法制备金团簇纳米颗粒,用透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、紫外可见光分光光度计(UV-Vis)和X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对其表征,研究了金团簇纳米颗粒的形貌、颗粒度、结构、光吸收性质及物质成份。研究结果表明:制备... 采用磁控溅射法制备金团簇纳米颗粒,用透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、紫外可见光分光光度计(UV-Vis)和X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对其表征,研究了金团簇纳米颗粒的形貌、颗粒度、结构、光吸收性质及物质成份。研究结果表明:制备的金团簇纳米颗粒呈球形,平均粒径在10 nm左右,粒径分布均匀,无团聚、氧化现象,颗粒的结构为面心立方。在519 nm处出现团簇颗粒的表面等离子共振吸收峰,测试得到Au(4f7/2)和Au(4f5/2)电子的结合能分别为83.3 eV和86.9 eV,并且没有出现金的氧化产物。 展开更多
关键词 磁控溅射 金团簇纳米颗粒 惯性约束聚变靶材料
下载PDF
卫星激光防护薄膜窗口的设计与制备技术研究 被引量:7
13
作者 姜玉刚 刘华松 +3 位作者 王利栓 陈丹 李士达 季一勤 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期804-809,共6页
当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1.315μm... 当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1.315μm波长的反射和0.5~0.8μm、1.55μm波段的增透,在玻璃基板另一面设计双波段减反射膜,实现0.5~0.8μm和1.55μm波段的增透。采用离子束溅射沉积技术,实现了激光防护窗口薄膜的制备,在0.5~0.8μm的平均透过率大于96%,1.55μm的透过率大于98%,1.315μm的透过率小于0.1%,在2.7μm的透过率为30%,在3.8μm的透过率为1.1%。实验结果表明,该方法实现了可见光-近红外-中红外波段激光防护窗口的制备,对于卫星平台防护激光武器具有重要作用。 展开更多
关键词 激光武器 离子束溅射技术 防护薄膜 透过率 反射率
下载PDF
V含量对TaVN复合膜微结构、力学性能和摩擦性能的影响 被引量:7
14
作者 许俊华 薛雅平 +1 位作者 曹峻 喻利花 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期769-774,共6页
采用磁控溅射仪制备了一系列不同V含量的TaVN复合膜,利用X射线衍射仪研究复合膜以及磨痕的相组成,利用纳米压痕仪表征复合膜的硬度,采用高温摩擦磨损实验机研究了复合膜的室温和高温摩擦性能。结果表明:TaVN复合膜的微结构为面心立方结... 采用磁控溅射仪制备了一系列不同V含量的TaVN复合膜,利用X射线衍射仪研究复合膜以及磨痕的相组成,利用纳米压痕仪表征复合膜的硬度,采用高温摩擦磨损实验机研究了复合膜的室温和高温摩擦性能。结果表明:TaVN复合膜的微结构为面心立方结构,随着V含量的增加,衍射峰择优取向由(200)转变为(111);TaVN薄膜的显微硬度随着V含量增加,先增加后降低,在V含量为18.25at%时,显微硬度达到最大值,为32.3 GPa;在常温下,TaVN复合膜的摩擦系数随着V含量的增加而降低;当温度从室温升高到800℃,薄膜的摩擦系数先升高后降低。采用晶体化学理论讨论了TaVN复合膜和TaN单层膜在高温下的摩擦机理。 展开更多
关键词 TaVN复合膜 磁控溅射 力学性能 摩擦性能
下载PDF
ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究 被引量:9
15
作者 周咏东 方家熊 +2 位作者 李言谨 龚海梅 汤定元 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期1127-1130,共4页
用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积.用X射线光电子能借(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究.实验表明:离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好... 用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积.用X射线光电子能借(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究.实验表明:离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好的组份均匀性,未探测到元素Zn、S的沉积. 展开更多
关键词 硫化锌薄膜 离子束溅射沉积 XPS HGCDTE
下载PDF
透明电极薄膜的制备及其电阻率测量普通物理实验 被引量:12
16
作者 邱宏 吴平 +4 位作者 李腾飞 潘礼庆 赵雪丹 田跃 马瑞新 《实验技术与管理》 CAS 2007年第2期25-28,共4页
介绍了如何把“透明电极薄膜的制备及其电阻率测量”的实验引入到普通物理实验教学中,用简单的直流溅射镀膜仪制备不同厚度的金属氧化物透明电极薄膜(ZnO:Al薄膜),并用四探针测量了它们的电阻率。该实验是对已经在北京科技大学国... 介绍了如何把“透明电极薄膜的制备及其电阻率测量”的实验引入到普通物理实验教学中,用简单的直流溅射镀膜仪制备不同厚度的金属氧化物透明电极薄膜(ZnO:Al薄膜),并用四探针测量了它们的电阻率。该实验是对已经在北京科技大学国家工科物理基础课程教学基地开设的大学生普通物理实验内容的新扩充。 展开更多
关键词 透明电极薄膜 直流溅射 四探针技术 电阻率 普通物理实验
下载PDF
溅射后退火反应法制备GaN薄膜的结构与发光性质 被引量:4
17
作者 杨莺歌 马洪磊 +3 位作者 薛成山 庄惠照 郝晓涛 马瑾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期387-390,共4页
报道了用溅射后退火反应法在 Ga As (110 )衬底上制备 Ga N薄膜 .XRD、XPS、TEM测量结果表明该方法制备的 Ga N是沿 c轴方向生长的六角纤锌矿结构的多晶薄膜 .PL测量结果发现了位于 36 8nm处的室温光致发光峰 .
关键词 溅射 退火 GAN薄膜 结构 光致发光 氮化镓(110)晶面
下载PDF
平面磁控溅射薄膜厚度均匀性的研究概述 被引量:7
18
作者 于贺 吴志明 +3 位作者 王涛 蒋亚东 姜晶 靖红军 《真空》 CAS 北大核心 2010年第3期9-15,共7页
在平面磁控溅射镀膜系统中,薄膜厚度均匀性作为衡量薄膜质量和成膜系统性能的一项重要指标,得到了国内外学者们的广泛研究。本文以膜厚分布的理论模型为出发点,从工艺条件及模型参数两个方面,对靶与基片的位置关系、基片的运动方式、靶... 在平面磁控溅射镀膜系统中,薄膜厚度均匀性作为衡量薄膜质量和成膜系统性能的一项重要指标,得到了国内外学者们的广泛研究。本文以膜厚分布的理论模型为出发点,从工艺条件及模型参数两个方面,对靶与基片的位置关系、基片的运动方式、靶材的形状、溅射功率、工作气压、工作模式等各种影响以及改善薄膜厚度均匀性的因素进行了系统的归纳和陈述。最后对平面磁控溅射镀膜系统膜厚分布的研究进展进行总结并提出了展望。 展开更多
关键词 厚度均匀性 磁控溅射 工艺条件 理论模型
下载PDF
真空镀膜技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度影响的研究 被引量:8
19
作者 吴峻岭 巢永烈 +1 位作者 汲平 高旭 《华西口腔医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期513-516,共4页
目的研究一种新的工程学真空镀膜技术——等离子磁控反应溅射技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的影响。方法用DA9-4烤瓷支架钴铬合金制成标准金属基片,并在金属基片上瓷前利用等离子磁控反应溅射技术在其表面溅射生成一层Al... 目的研究一种新的工程学真空镀膜技术——等离子磁控反应溅射技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的影响。方法用DA9-4烤瓷支架钴铬合金制成标准金属基片,并在金属基片上瓷前利用等离子磁控反应溅射技术在其表面溅射生成一层Al2O3陶瓷薄膜,对其表面形貌、结构、厚度进行分析;金属基片与VMK95瓷粉烧结形成标准三点弯曲试件,测定其结合强度,观察金瓷界面的形貌及元素分布情况。同时,以未进行溅射镀膜基片作为对照。结果溅射镀膜组金瓷结合强度为(180.55±16.45)MPa,对照组(143.80±24.49)MPa。经统计学分析,溅射镀膜后的金瓷结合强度明显高于对照组(P<0.01)。结论等离子磁控反应溅射技术有改善新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的作用。 展开更多
关键词 磁控反应溅射技术 钴铬合金 结合强度
下载PDF
溅射靶的开发与应用 被引量:4
20
作者 侯鹤岚 张世伟 +2 位作者 李云奇 刘革 张振厚 《真空》 CAS 北大核心 2000年第1期37-39,共3页
本文就溅射靶的分类、选用靶材的原则及常用几种靶的制备等问题进行了探讨。
关键词 溅射镀膜 制靶技术 靶材 溅射靶
下载PDF
上一页 1 2 5 下一页 到第
使用帮助 返回顶部