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Fabrication of micro carbon pillar by laser-induced chemical vapor deposition
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作者 周健 罗迎社 +3 位作者 李立君 钟琦文 李新华 殷水平 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2008年第S1期197-201,共5页
Argon ion laser was used as the induced light source and ethane(C2H4) was selected as the precursor gas,in the variety ranges of laser power from 0.5 W to 4.5 W and the pressure of the precursor gas from 225×133.... Argon ion laser was used as the induced light source and ethane(C2H4) was selected as the precursor gas,in the variety ranges of laser power from 0.5 W to 4.5 W and the pressure of the precursor gas from 225×133.3 Pa to 680×133.3 Pa,the experiments of laser induced chemical vapor deposition were proceeded for fabrication of micro carbon pillar.In the experiments,the influences of power of laser and pressure of work gas on the diameter and length of micro carbon pillar were investigated,the variety on averaged growth rate of carbon pillar with the laser irradiation time and moving speed of focus was discussed.Based on experiment data,the micro carbon pillar with an aspect ratio of over 500 was built through the method of moving the focus. 展开更多
关键词 laser-induced chemical vapor deposition(LCVD) GROWING rapid DIAMETER microcarbon.
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Effect of Doping with Sulfur on the Optical Constant of the SiC Films Prepared by TEA-CO2 Laser
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作者 Majida Ali Ameen 《材料科学与工程(中英文版)》 2010年第12期6-11,共6页
关键词 SIC薄膜 掺杂效应 六氟化硫 光学特性 光学常数 CO2激光 TEA 二氧化碳激光
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激光制备碳化硅纳米粉的研究 被引量:7
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作者 俞肇元 贺春林 +3 位作者 张滨 刘常升 国玉军 才庆魁 《粉末冶金技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期162-164,共3页
以廉价有机硅烷反应物—二甲基二乙氧基硅烷为原料 ,采用激光气相法合成了纳米SiC粉。详细研究了载气对粉体产率的影响 ,并对粉体的合成方法。
关键词 激光合成 二甲基二乙氧基硅烷 纳米粉 碳化硅
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通过激光诱导化学气相沉积来制造微碳柱的研究 被引量:7
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作者 温宗胤 李宝灵 周健 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期79-82,共4页
使用氩离子激光作为光源,乙烷(C2H6)作为工作气体,在激光功率0.5—4.5W,气体压力0.03—0.09MPa的变化范围内,进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响,讨论了碳柱平均... 使用氩离子激光作为光源,乙烷(C2H6)作为工作气体,在激光功率0.5—4.5W,气体压力0.03—0.09MPa的变化范围内,进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响,讨论了碳柱平均生长率随照射时间、焦点移动速度的变化规律。根据实验数据,使用焦距移动方法,生成长径比超过500的微碳柱。 展开更多
关键词 激光诱导化学气相沉积 生长速度 直径 微碳柱
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赝火花脉冲电子束烧蚀制备纳米薄膜 被引量:3
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作者 韩丽君 江兴流 文雄伟 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 2002年第2期24-28,共5页
类似于脉冲激光束烧蚀法制备薄膜 ,利用纳秒赝火花脉冲电子束与靶材料相互作用 ,通过靶材料的瞬间熔化、蒸发或以团簇抛出的方式 ,在低温衬底上重新成核、凝结 ,得到了与靶材的化学计量比相同的薄膜。讨论了材料烧蚀和沉积过程中出现的... 类似于脉冲激光束烧蚀法制备薄膜 ,利用纳秒赝火花脉冲电子束与靶材料相互作用 ,通过靶材料的瞬间熔化、蒸发或以团簇抛出的方式 ,在低温衬底上重新成核、凝结 ,得到了与靶材的化学计量比相同的薄膜。讨论了材料烧蚀和沉积过程中出现的诸多现象 ,并给出高分辨电子显微镜、X射线衍射、光电子能谱分析等方法的测试结果。研究表明 ,由于赝火花脉冲电子束高功率密度 (10 9W cm2 )的瞬态烧蚀作用 ,为研究和制备多元素氧化物薄膜、难熔金属多层膜或氧化物 展开更多
关键词 赝火花脉冲电子束 烧蚀 制备 纳米薄膜
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TiN类薄膜的激光化学气相沉积 被引量:7
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作者 张鸿俭 冯钟潮 张鹤 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期41-44,共4页
研究了激光化学气相沉积的方法在Ti和Ti-6Al-4V基材上沉积TiN、TiC、 Ti(Cn、Nm)薄膜的工艺方法,并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 (LCVD)方法制备成功的TiN类薄膜颜色金黄... 研究了激光化学气相沉积的方法在Ti和Ti-6Al-4V基材上沉积TiN、TiC、 Ti(Cn、Nm)薄膜的工艺方法,并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 (LCVD)方法制备成功的TiN类薄膜颜色金黄,成份均匀,其平均显微硬度为HK2500,耐磨 性比基材提高了六倍。 展开更多
关键词 TiN类薄膜 钛合金 激光化学气相沉积
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激光诱导化学气相沉积法制备a-Si_3N_4纳米粒子研究 被引量:6
7
作者 凤雷 郑韬 李道火 《中国粉体技术》 CAS 1999年第3期30-32,共3页
给出激光化学气相沉积法制备a-Si3N4纳米粒子的原理和经验公式,在特定工艺参数下获得平均粒径为10nm左右的优良a-Si3N4纳米粒子。红外吸收和拉曼光谱研究表明,a-Si3N4纳米粒子中存在Si-N,Si-H,N... 给出激光化学气相沉积法制备a-Si3N4纳米粒子的原理和经验公式,在特定工艺参数下获得平均粒径为10nm左右的优良a-Si3N4纳米粒子。红外吸收和拉曼光谱研究表明,a-Si3N4纳米粒子中存在Si-N,Si-H,N-H,Si-O-Si键,分析了a-Si3N4纳米粒子在不同的温度和气氛退火后的变化情况。 展开更多
关键词 非晶态氮化硅 纳米粒子 激光化学气相沉积法
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激光合成纳米硅的红外光声光谱 被引量:1
8
作者 王卫乡 刘颂豪 《华南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1996年第1期28-34,共7页
利用光声技术对激光气相沉积的纳米硅进行了红外光声光谱的研究,考察了红外光声谱随退火处理和外加压力的变化行为,给出了纳米硅红外吸收峰的指认和解释,讨论了固态效应对吸收峰位置的影响.
关键词 红外光谱 光声光谱 纳米硅 激光合成 半导体
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退火处理对激光诱导化学气相沉积制备纳米硅红外光谱的影响
9
作者 张海燕 陈可心 +2 位作者 刘颂豪 梁礼正 王卫乡 《中山大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2000年第S2期169-173,共5页
研究激光诱导化学相沉积(LICVD)法制备纳米硅粒子的工艺过程,分析了影响纳米硅形成及尺寸的主要工艺参数,获得了最佳的工艺条件并讨论了退火处理对纳米硅红外光谱各吸收峰的强度。
关键词 纳米硅 激光诱导化学气相沉积(licvd) 红外光谱
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纳米材料的激光制备技术
10
作者 王赛玉 黄楚云 熊惟皓 《金属功能材料》 CAS 2005年第4期31-34,共4页
本文综述了纳米材料的激光制备方法。其中重点介绍了激光消融法制备纳米颗粒、纳米纤维、纳米薄膜的原理和现状。
关键词 激光诱导气相沉积法 激光消融法 纳米材料 纳米纤维 纳米薄膜 纳米颗粒
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LIVCD法制备纳米氮化硅粉末工艺参数对粉体特征影响的研究
11
作者 黄永攀 李道火 +1 位作者 王锐 黄伟 《光电子技术与信息》 CAS 2005年第1期27-29,共3页
激光诱导气相沉积法是制备纳米氮化硅粉末的主要方法之一。在制备纳米粉体过程中,各工艺参数的变化对粉体特征有很大的影响。在激光制Si3N4纳米粉中基本的运行参数有:激光强度(I),反应池压力(P),反应火焰温度(T),反应气体配比(ΦSiH4/... 激光诱导气相沉积法是制备纳米氮化硅粉末的主要方法之一。在制备纳米粉体过程中,各工艺参数的变化对粉体特征有很大的影响。在激光制Si3N4纳米粉中基本的运行参数有:激光强度(I),反应池压力(P),反应火焰温度(T),反应气体配比(ΦSiH4/ΦNH3),反应气体流速(V)等。通过实验研究了各个工艺参数对粉体特征的影响并分析了其影响的原因。 展开更多
关键词 激光诱导化学气相沉积 氮化硅 纳米
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激光诱导化学气相合成纳米微粉的物理化学模型
12
作者 刘军 《沈阳大学学报》 CAS 2007年第2期1-4,共4页
针对激光低压化学气相合成纳米微粉材料的过程建立了物理化学统一模型,其中包括气体分子动力学、化学反应热力学和流体动力学三部分.分别介绍了模型的基本假设、基本公式及主要结论.描述了反应物分子的热运动状态,提出了激光强度阈值的... 针对激光低压化学气相合成纳米微粉材料的过程建立了物理化学统一模型,其中包括气体分子动力学、化学反应热力学和流体动力学三部分.分别介绍了模型的基本假设、基本公式及主要结论.描述了反应物分子的热运动状态,提出了激光强度阈值的预测方法,给出了生成物颗粒的成核速率、生长速率和最终粒径.模型对进一步揭示纳米微粉生成过程的物理化学机制,寻找宏观工艺参量对微观合成过程及所制备纳米微粉性质的影响规律有实际意义. 展开更多
关键词 纳米微粉 激光诱导 化学气相合成技术 物理化学模型
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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用 被引量:3
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作者 黄河 朱晓 +4 位作者 朱长虹 朱广志 李跃松 张沛 万承华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期330-332,共3页
为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密... 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。 展开更多
关键词 激光技术 光化学 光掩模修复 激光化学气相沉积 开放式
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PECVD技术制备单层光学薄膜抗激光损伤特性研究 被引量:5
14
作者 李鹏 杭凌侠 +1 位作者 徐均琪 李林军 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期206-213,共8页
采用PECVD技术在BK7玻璃基底上沉积了不同厚度的单层SiO2(折射率为1.46)和SiNx(折射率为1.84)光学薄膜,并对这2种膜层进行抗激光损伤阈值(LIDT)测试,分析讨论了PECVD技术制备的单层光学薄膜与抗激光损伤特性之间的关系。实验结果表明:PE... 采用PECVD技术在BK7玻璃基底上沉积了不同厚度的单层SiO2(折射率为1.46)和SiNx(折射率为1.84)光学薄膜,并对这2种膜层进行抗激光损伤阈值(LIDT)测试,分析讨论了PECVD技术制备的单层光学薄膜与抗激光损伤特性之间的关系。实验结果表明:PECVD技术制备的单层SiO2薄膜有较高的LIDT,薄膜光学厚度在λo/4~λo/2之间时,在光学厚度为350nm时,LIDT有最小值21.7J/cm2,光学厚度为433nm时,LIDT有最大值27.9J/cm2。SiNx薄膜的LIDT随着光学厚度增加而减小,在光学厚度为λo/4时,LIDT有最大值29.3J/cm2,光学厚度为λo/2时,LIDT有最小值4.9J/cm2。 展开更多
关键词 PECVD 光学薄膜 激光损伤阈值 激光损伤特性测试装置 损伤形貌
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激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅及粉体光谱特性研究 被引量:7
15
作者 王锐 李道火 +2 位作者 黄永攀 罗丽明 浦坦 《中国粉体技术》 CAS 2003年第4期35-38,共4页
研究了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施,利用双光束激发制备得到了超微的、非晶纳米氮化硅粉体。实验证明,纳米氮化硅粉体具有很多奇异物理性能和光谱特性。
关键词 激光诱导化学气相沉积法 氮化硅 纳米粉体 红外吸收光谱 拉曼光谱
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非晶硅薄膜晶化过程的研究 被引量:1
16
作者 黄木香 杨琳 +1 位作者 刘玉琪 王江涌 《真空》 CAS 2012年第5期35-38,共4页
多晶硅薄膜具有较高的电迁移率和稳定的光电性能,是制备微电子器件、薄膜晶体管、大面积平板液晶显示的优质材料。多晶硅薄膜被公认为是制备高效、低耗、最理想的薄膜太阳能电池的材料。因此,如何制备多晶硅薄膜是一个非常有意义的研究... 多晶硅薄膜具有较高的电迁移率和稳定的光电性能,是制备微电子器件、薄膜晶体管、大面积平板液晶显示的优质材料。多晶硅薄膜被公认为是制备高效、低耗、最理想的薄膜太阳能电池的材料。因此,如何制备多晶硅薄膜是一个非常有意义的研究课题。固相法是制备多晶硅薄膜的一种常用方法,它是在高温退火的条件下,使非晶硅薄膜通过固相相变而成为多晶硅薄膜。本文采用固相法,利用X-ray衍射及拉曼光谱,对用不同方法制备的非晶硅薄膜的晶化过程进行了系统地研究。 展开更多
关键词 硅薄膜 非晶硅晶化 固相法 激光诱导晶化 磁控溅射 化学气相沉积
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激光诱导六甲基乙硅胺烷制备氮化硅纳米粉体 被引量:2
17
作者 陈磊 王锐 +1 位作者 黄永攀 李道火 《光电子技术与信息》 2005年第3期10-13,共4页
针对激光气相合成氮化硅纳米粉体的性能与成本的矛盾,在对激光合成反应物的研究与分析的基础上,选择廉价、无氯硫、对CO2激光有强吸收、易于处理的有机硅烷反应物六甲基乙硅胺烷(HMDS)作为价格昂贵、难以处理的硅烷(SiH4)的替代反应物,... 针对激光气相合成氮化硅纳米粉体的性能与成本的矛盾,在对激光合成反应物的研究与分析的基础上,选择廉价、无氯硫、对CO2激光有强吸收、易于处理的有机硅烷反应物六甲基乙硅胺烷(HMDS)作为价格昂贵、难以处理的硅烷(SiH4)的替代反应物,进行了激光合成氮化硅纳米粉体的研究。 展开更多
关键词 激光诱导化学气相合成 六甲基乙硅胺烷 氮化硅纳米粉体
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纳米硅制备过程中微结构与反应气体流量之间的关系研究(英文)
18
作者 刘英才 尹衍升 +2 位作者 李静 李嘉 初蕾 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期644-646,共3页
利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒。研究了不同反应气体流量条件下 ,纳米硅微结构的转变规律 ,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响机制。研究表明 ,在激光功率密度恒定条件下 ,随着反应气体流量的增加 ,所制备纳米硅颗粒的尺寸逐渐变... 利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒。研究了不同反应气体流量条件下 ,纳米硅微结构的转变规律 ,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响机制。研究表明 ,在激光功率密度恒定条件下 ,随着反应气体流量的增加 ,所制备纳米硅颗粒的尺寸逐渐变小 ,微结构中非晶态比例随反应气流的增加而增加。 展开更多
关键词 纳米硅 制备 微结构 反应气体流量 licvd方法 晶体生长 激光诱导化学气相沉积法
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激光引发气相化学合成Si_3N_4超细粉末
19
作者 李士杰 陈根生 +1 位作者 陈钰清 丁子上 《浙江大学学报(自然科学版)》 CSCD 1992年第5期585-590,共6页
利用CO_2激光引发在NH_3/Si_3H_4体系中化学合成超细、高纯Si_3N_4粉末。实验研究了反应参数和反应条件,在较好的实验条件下制备出近似球形、粒径约20mm、纯度98%的无定形Si_3N_4粉末。
关键词 超细粉末 激光 气相化学合成 陶瓷
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激光引发化学气相合成Si_3N_4超细粉末
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作者 李士杰 陈根生 +1 位作者 陈钰清 丁子上 《微细加工技术》 1992年第1期43-50,共8页
本文讨论了激光引发NH_3/SiH_4系统的化学气相合成高纯Si_3N_4超细粉未的实验参数和反应条件。在参考实验条件下,制备出粒径20nm、均匀球形、纯度98%的Si_3N_4粉末。
关键词 化学气相合成 陶瓷 超细粉末 SI3N4
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