期刊文献+
共找到148篇文章
< 1 2 8 >
每页显示 20 50 100
Liquid phase epitaxy magnetic garnet films and their applications 被引量:3
1
作者 Yi-Heng Rao Huai-Wu Zhang +4 位作者 Qing-Hui Yang Dai-Nan Zhang LI-Chuan Jln Bo Ma Yu-Juan Wu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第8期62-71,共10页
Liquid phase epitaxy (LPE) is a mature technology. Early experiments on single magnetic crystal films fabricated by LPE were focused mainly on thick films for microwave and magneto-optical devices. The LPE is an exc... Liquid phase epitaxy (LPE) is a mature technology. Early experiments on single magnetic crystal films fabricated by LPE were focused mainly on thick films for microwave and magneto-optical devices. The LPE is an excellent way to make a thick film, low damping magnetic garnet film and high-quality magneto-optical material. Today, the principal challenge in the applied material is to create sub-micrometer devices by using modern photolithography technique. Until now the magnetic garnet films fabricated by LPE still show the best quality even on a nanoscale (about 100 nm), which was considered to be impossible for LPE method. 展开更多
关键词 liquid phase epitaxy (lpe magnetic garnet MAGNETO-OPTICAL SPINTRONICS magnonics
下载PDF
Growth and characteristics of InAsSb epilayers with a cutoff wavelength of 4.8 μm prepared by one-step liquid phase epitaxy 被引量:3
2
作者 GAO Yuzhu GONG Xiuying +1 位作者 FANG Weizheng Akihiro Ishida 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第4期313-316,共4页
InAsSb epilayers with a cutoff wavelength of 4.8 μm have been successfully grown on InAs substrates by one-step liquid phase epitaxy (LPE) technology. The epilayers were characterized by X-ray diffraction (XRD), ... InAsSb epilayers with a cutoff wavelength of 4.8 μm have been successfully grown on InAs substrates by one-step liquid phase epitaxy (LPE) technology. The epilayers were characterized by X-ray diffraction (XRD), Fourier transform infrared (PTIR) transmittance measurements and scanning electron microscopy (SEM). The influence of different growth conditions on the optical and structural properties of the materials was studied. The results revealed that the good crystalline quality, mirror smooth surface and flat interface of InAsSb epilayers were achieved. They benefited from optimized growth conditions, i.e., sufficient homogeneity of the growth melt and a very slow cooling rate. 展开更多
关键词 INASSB liquid phase epitaxy crystalline quality cutoff wavelength scanning electron microscopy
下载PDF
Al_xGa_(1-x)As/GaAs Solar Cell Grown by Multi-substrate Liquid Phase Epitaxy
3
作者 CHENTingjin YUANHairong 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1998年第2期128-133,共6页
A novel horizontal push-pull multi-substrate epitaxy boat with three separate cells is introduced in this article, with which multi-substrate LPE processing is feasible in horizontal LPE furnace. The processes of LPE ... A novel horizontal push-pull multi-substrate epitaxy boat with three separate cells is introduced in this article, with which multi-substrate LPE processing is feasible in horizontal LPE furnace. The processes of LPE AlxGa1-x)As/ GaAs solar cells are studied and the efficiency of the solar cells achieved 19.8% (AMO, 25℃, 120 mW/cm2). 展开更多
关键词 liquid phase epitaxy Semiconductor Materials Single Crystal Film Solar Cell
下载PDF
中国电科11所碲镉汞薄膜材料制备技术进展 被引量:1
4
作者 折伟林 邢晓帅 +7 位作者 邢伟荣 刘江高 郝斐 杨海燕 王丹 侯晓敏 李振兴 王成刚 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期483-494,共12页
碲镉汞材料具有响应速度快、量子效率高、带隙连续可调等优点,广泛应用于红外探测领域,本文报道了近年来中国电科11所在碲镉汞薄膜材料制备方面的技术进展。在碲锌镉衬底材料制备方面,已突破Φ135mm碲锌镉晶体生长技术,碲锌镉衬底平均... 碲镉汞材料具有响应速度快、量子效率高、带隙连续可调等优点,广泛应用于红外探测领域,本文报道了近年来中国电科11所在碲镉汞薄膜材料制备方面的技术进展。在碲锌镉衬底材料制备方面,已突破Φ135mm碲锌镉晶体生长技术,碲锌镉衬底平均位错腐蚀坑密度(EPD)<1×10^(4)cm^(-2),具备了80mm×80mm规格碲锌镉衬底的批量生产能力。在液相外延碲镉汞薄膜制备方面,富碲水平液相外延碲镉汞薄膜平均位错腐蚀坑密度EPD<4×10^(4)cm^(-2),具备80mm×80mm规格碲镉汞薄膜的制备能力;富汞垂直液相外延实现高质量双层异质结碲镉汞薄膜材料批量化制备,该种材料的半峰宽(FWHM)控制在(20~40)arcsec范围内,碲镉汞薄膜厚度极差≤±06μm。在分子束外延碲镉汞薄膜方面,实现了6 in硅基碲镉汞材料制备,组分标准偏差≤00015,表面宏观缺陷密度≤100cm^(-2);碲锌镉基碲镉汞材料已具备50mm×50mm制备能力,组分标准偏差为0002,厚度标准偏差为0047μm。从探测器验证结果来看,基于富碲水平液相外延碲镉汞薄膜实现了1 k×1 k、2 k×2 k等规格红外焦平面探测器的工程化制备;采用双层异质结碲镉汞薄膜实现了高温工作、长波及甚长波探测器的制备;使用分子束外延制备的碲镉汞薄膜实现了27 k×27 k、54 k×54 k、8 k×8 k等规格红外焦平面探测器研制,在宇航领域有巨大的应用潜力。 展开更多
关键词 碲锌镉 碲镉汞 双层异质结 红外探测 液相外延 分子束外延
下载PDF
100 mm×100 mm液相外延碲镉汞薄膜技术进展
5
作者 邓文斌 宋林伟 +11 位作者 孔金丞 姜军 杨晋 起文斌 万志远 刘燕 荣徽宇 许江明 杨翔 朱逊 郑要争 姬荣斌 《红外技术》 CSCD 北大核心 2024年第10期1172-1177,共6页
昆明物理研究所突破了φ150 mm碲锌镉单晶定向生长技术,实现了100 mm×100 mm碲锌镉衬底的小批量制备,位错腐蚀坑密度(EPD)≤4×10^(4) cm^(-2),沉积相尺寸小于5μm、沉积相密度小于5×10^(3) cm^(-2)。突破了大尺寸碲锌镉... 昆明物理研究所突破了φ150 mm碲锌镉单晶定向生长技术,实现了100 mm×100 mm碲锌镉衬底的小批量制备,位错腐蚀坑密度(EPD)≤4×10^(4) cm^(-2),沉积相尺寸小于5μm、沉积相密度小于5×10^(3) cm^(-2)。突破了大尺寸碲锌镉衬底表面处理以及大面积富碲水平推舟液相外延技术,实现了100 mm×100 mm大尺寸短波、中波碲镉汞薄膜材料的制备,薄膜表面质量优异,厚度极差优于±1.25μm,组分极差优于±0.0031,是目前国际上报道的最大面积碲锌镉衬底基碲镉汞薄膜材料。该材料为10k×10k及以上亿像素规模红外探测器的研制、4k×4k等规模大面阵红外探测器的量产奠定了坚实的基础。 展开更多
关键词 液相外延 100mm×100mm 碲锌镉 碲镉汞
下载PDF
高质量碲镉汞双层异质结材料制备
6
作者 郝斐 折伟林 +6 位作者 杨海燕 刘兴新 胡易林 邢晓帅 刘世光 王鑫 孙浩 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2024年第8期1258-1262,共5页
本文重点介绍了富汞垂直液相外延技术,在对该技术进行研究时,提出了一种温场优化方法和一种生长方法来提升材料质量和工艺稳定性。最后介绍基于双层异质结材料采用台面结器件加工等碲镉汞探测器组件制备方法,制备中波、长波和甚长波碲... 本文重点介绍了富汞垂直液相外延技术,在对该技术进行研究时,提出了一种温场优化方法和一种生长方法来提升材料质量和工艺稳定性。最后介绍基于双层异质结材料采用台面结器件加工等碲镉汞探测器组件制备方法,制备中波、长波和甚长波碲镉汞探测器组件的进展情况。 展开更多
关键词 碲镉汞 富汞垂直液相外延 p-on-n型异质结
下载PDF
多片LPE生长Al_xGa_(1-x)As/GaAs单晶薄膜 被引量:3
7
作者 陈庭金 袁海荣 刘翔 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1998年第5期304-307,共4页
介绍了一种新的“分离三室水平推挤式多片外延舟”,可在国产水平外延炉中实现多片单晶薄膜外延。同时,研究了适合于多片外延的各种工艺条件。用于研制的p+-AlxGa1-xAs/p-n-n+-GaAs太阳能电池,AM0,25... 介绍了一种新的“分离三室水平推挤式多片外延舟”,可在国产水平外延炉中实现多片单晶薄膜外延。同时,研究了适合于多片外延的各种工艺条件。用于研制的p+-AlxGa1-xAs/p-n-n+-GaAs太阳能电池,AM0,25℃,120mW·cm-2的转换效率达到19.8%。 展开更多
关键词 液相外延 单晶薄膜 化合物半导体 太阳能电池
下载PDF
LPE法生长GaP/Si材料初探
8
作者 邓希敏 王兢 刘明登 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1993年第1期77-79,共3页
用普通的液相外延(LPE)方法,在Si衬底上生长了厚约10μm的GaP外延层,并对以Ga,In或Sn为生长熔体进行生长得到的结果做了比较.结果表明,Si在Ga中溶解度很大,Ga不适合做熔体;In为熔体时生长出InGaP合金,Si含量较高,而且出现化学计量比偏... 用普通的液相外延(LPE)方法,在Si衬底上生长了厚约10μm的GaP外延层,并对以Ga,In或Sn为生长熔体进行生长得到的结果做了比较.结果表明,Si在Ga中溶解度很大,Ga不适合做熔体;In为熔体时生长出InGaP合金,Si含量较高,而且出现化学计量比偏离现象;Sn为熔体生长的GaP层中Si含量小于In熔体,而且GaP符合化学计量比. 展开更多
关键词 液相外延 异质结 磷化镓
下载PDF
LPE法在Si衬底上生长SiGe层的方法及电子特性的研究
9
作者 陈建新 邹德恕 +2 位作者 张时明 韩军 沈光地 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第12期886-890,共5页
本文介绍了在电阻率为(77~300)kΩ·cm的n型(111)Si衬底上用LPE法生长高质量Si1-XGex单晶薄层(其厚度一般为1~3μm)的生长条件,并对引入的缺陷进行了TEM研究,结果表明其缺陷密度和用MB... 本文介绍了在电阻率为(77~300)kΩ·cm的n型(111)Si衬底上用LPE法生长高质量Si1-XGex单晶薄层(其厚度一般为1~3μm)的生长条件,并对引入的缺陷进行了TEM研究,结果表明其缺陷密度和用MBE及超高真空CVD法生长的同样厚度和组分的Si1-xGex薄层的缺陷密度相等甚至更低.霍尔迁移率μH与温度有μH∝Tm的关系,(在T=80~300K时,m=-0.95).当x>0.85时,μH的测量值和由Krishnamurthy计算的理论值相符,x<0.85,测量值仅为理论值的70%.由Bi杂质引入能级的电子激活能En与Ge的组分x有关.但在x=0.83时有最大值.其值分别为Bi在St,Ge体材料中的1/4.这表明用LPE生长的SiGe层的电子特性不但与Bi而且还与SiGe的结构特性有关. 展开更多
关键词 SIGE lpe法硅 外延生长 电子特性
下载PDF
电流控制LPE生长In_(1-x)Ga_xAs_yP_(1-Y)
10
作者 曾庆科 曾宪富 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1995年第2期142-146,共5页
用电流控制液相外延(CCLPE)方法首次在(100)InP衬底上成功地生长出In1-xGaxAsyP1-y(0.30<x<0.47,0.70<y<0.96)外延层,并对外延层特性进行了详细研究,提出在InP衬底上生长... 用电流控制液相外延(CCLPE)方法首次在(100)InP衬底上成功地生长出In1-xGaxAsyP1-y(0.30<x<0.47,0.70<y<0.96)外延层,并对外延层特性进行了详细研究,提出在InP衬底上生长电外延层的机理,推导出生长动力学的理论模型,该模型与上述实验结果十分吻合。 展开更多
关键词 液相外延生长 材料制备 半导体薄膜
下载PDF
用回熔再生长LPE工艺制备高效AlGaAs/GaAs太阳电池 被引量:1
11
作者 李标 向贤碧 +1 位作者 许颖 费雪英 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期103-109,共7页
报道了采用欠饱和溶液的回熔—再生长液相外延(LPE)方法制备高效AIxGa1-xAs/GaAs异质结构太阳电池的工艺。研究表明,与传统的过冷生长技术相比,回熔工艺对衬底质量的要求不严格,且能形成有利于光生少子被收集的... 报道了采用欠饱和溶液的回熔—再生长液相外延(LPE)方法制备高效AIxGa1-xAs/GaAs异质结构太阳电池的工艺。研究表明,与传统的过冷生长技术相比,回熔工艺对衬底质量的要求不严格,且能形成有利于光生少子被收集的带隙结构。在工艺优化的情况下,获得大阳电池的全面积转换效率在AM0,1sun的测试条件下为18.78%(0.72cm2),在AM1.5,1sun下为23.17%。 展开更多
关键词 液相外延 太阳能电池 转换效率 砷化镓
下载PDF
过冷度对Ⅲ-Ⅴ族五元系化合物AlGaInPAs LPE生长的影响
12
作者 徐自亮 徐万劲 +2 位作者 李力 杨澄清 刘弘度 《北京大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1998年第5期600-603,共4页
计算了Ⅲ-Ⅴ族五元系化合物AlGaInPAs与GaAs晶格匹配时的等能隙曲线以及液相外延生长AlGaInPAs/GaAs所用母液中Al的分凝系数。实验证明,由于Al的分凝,使过冷度对Al-GaInPAs外延层的固相组... 计算了Ⅲ-Ⅴ族五元系化合物AlGaInPAs与GaAs晶格匹配时的等能隙曲线以及液相外延生长AlGaInPAs/GaAs所用母液中Al的分凝系数。实验证明,由于Al的分凝,使过冷度对Al-GaInPAs外延层的固相组分有显著影响,但对外延层的其他性质没有影响。 展开更多
关键词 五元系 AlGaInPAs 半导体 化合物 lpe
下载PDF
LPE-GaAs掺Er的研究
13
作者 施益和 李韻仪 +3 位作者 李双喜 丁墨元 周济 袁佑荣 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第2期101-102,共2页
本文采用液相外延(LPE)法研究在GaAs中掺鼯土元素Er的外延生长,并对外延层的质量及光荧光等测量结果进行讨论。
关键词 液相处延生长 稀土掺杂 lpe-GaAs
下载PDF
昆明物理研究所大面积水平推舟液相外延碲镉汞薄膜技术进展 被引量:3
14
作者 孔金丞 宋林伟 +8 位作者 起文斌 姜军 丛树仁 刘燕 荣徽宇 许江明 方东 赵鹏 姬荣斌 《红外技术》 CSCD 北大核心 2023年第2期111-122,共12页
报道了近年来昆明物理研究所在富碲水平推舟液相外延碲镉汞外延薄膜制备技术方面的进展。2019年以来,突破了Ф120 mm碲锌镉晶体定向生长技术,使碲锌镉衬底沉积相和夹杂相密度≤5×103 cm^(-2),位错腐蚀坑密度(EPD)≤4.0×10^(4)... 报道了近年来昆明物理研究所在富碲水平推舟液相外延碲镉汞外延薄膜制备技术方面的进展。2019年以来,突破了Ф120 mm碲锌镉晶体定向生长技术,使碲锌镉衬底沉积相和夹杂相密度≤5×103 cm^(-2),位错腐蚀坑密度(EPD)≤4.0×10^(4)cm^(-2),Ф120 mm(111)晶圆衬底的Zn组份分布极差≤0.36%。基于碲锌镉衬底技术的进步,液相外延碲镉汞薄膜的最大生长尺寸达到了70 mm×75 mm,薄膜位错腐蚀坑密度均值为5×10^(4)cm^(-2),X射线双晶回摆曲线半峰宽(DCRC-FWHM)≤35 arcsec,部分可控制到25 arcsec以下;50 mm×60 mm尺寸长波碲镉汞薄膜的厚度极差≤±1.25μm,室温截止波长极差≤±0.1μm,中波碲镉汞薄膜相应指标分别为≤±1μm、≤±0.05μm。材料技术的进展促进了制冷型碲镉汞探测器产能提升和成本的降低,也支撑了高性能长波/甚长波探测器、高工作温度(HOT)探测器以及2048×2048、4096×4096等甚高分辨率高性能探测器的研制。 展开更多
关键词 液相外延 碲锌镉衬底 碲镉汞薄膜
下载PDF
SOLUBILITY CHARACTERISTICS OF GaAs IN Bi AND THEIR PHASE DIAGRAM
15
作者 FENG Shuifu ZHO U Jicheng Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica,Shanghai,China ZHOU Jicheng,Shanghai Institute of Metallurgy,Academia Sinica,Shanghai 200050,China 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1990年第11期312-315,共4页
A modified liquid phase epitaxy apparatus for semiconductor materials was used to measure the solubility of GaAs in Bi.Two phase diagrams rich in Bi under H_2 and N_2 atmospheres were obtained according to the results... A modified liquid phase epitaxy apparatus for semiconductor materials was used to measure the solubility of GaAs in Bi.Two phase diagrams rich in Bi under H_2 and N_2 atmospheres were obtained according to the results of measurement.A new phenomenon,in which the parameter Q value(quantity of GaAs dissolved in Bi in fixed time/saturation quantitu,of GaAs in Bi)was different from each other at various temperatures and there existed a maxi- mum Q value at definite temperature,was observed.This phenomenon may be regarded as a common feature of a simple binary metallic system which has the phase diagram similar to that of Bi-GaAs.The difference observed from the dependence of Q values on temperature in both H_2 and N_2 atmospheres was discussed. 展开更多
关键词 SOLUBILITY liquid phase epitaxy phase diagram
下载PDF
Fabrication of 1.3μm InGaAsP/InP Gain-Coupled DFB Lasers with Loss Grating Using LPE Technique
16
作者 王文 《High Technology Letters》 EI CAS 1996年第2期28-30,共3页
In this paper,the fabrication of 1.3μm InGaAsP/InP gain-coupled DFB lasers with lossgrating is reported for the first time.A technique of regrowth on corrugated surface usingLPE is developed.By using GaAs as the cove... In this paper,the fabrication of 1.3μm InGaAsP/InP gain-coupled DFB lasers with lossgrating is reported for the first time.A technique of regrowth on corrugated surface usingLPE is developed.By using GaAs as the cover of thermal protection and controlling theamount of the super cooling,high quality epitxial layers on corrugated surface are obtained.The oxide stripe lasers with a stripe width of 20μm are fabricated.Single-mode oscillation isachieved at 1.293μm,and a high single-mode oscillation yield is also obtained. 展开更多
关键词 liquid phase epitaxy Gain coupling DFB Semiconductor lasers
下载PDF
InAs基室温中波红外探测器的液相外延生长
17
作者 陈泽中 段永飞 +5 位作者 林虹宇 张振宇 谢浩 孙艳 胡淑红 戴宁 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第3期306-310,共5页
材料质量好坏对于获得高性能红外探测器至关重要。提出决定材料质量的关键点在于精准控制材料结构中层与层之间的晶格失配度,报道了晶格失配对材料质量和器件暗电流性能的影响。实验结论表明在液相外延技术生长的InAs/InAsSbP材料体系中... 材料质量好坏对于获得高性能红外探测器至关重要。提出决定材料质量的关键点在于精准控制材料结构中层与层之间的晶格失配度,报道了晶格失配对材料质量和器件暗电流性能的影响。实验结论表明在液相外延技术生长的InAs/InAsSbP材料体系中,InAs和InAsSbP间的晶格失配不是越小越好,而是有一个最佳值。如果晶格失配偏离这个值,不管是偏大还是偏小,材料的质量都会恶化。阐述了如何调整生长参数以获得合适的晶格失配度。制备了具有适宜晶格失配度的红外探测器件,该探测器零偏压下的室温峰值探测率为6.8×10^(9) cm Hz^(1/2)W^(-1),与国际商用InAs探测器的指标相当。 展开更多
关键词 半导体四元合金 红外探测器 液相外延 晶格失配
下载PDF
大规模红外焦平面阵列探测器的有效像元率研究
18
作者 谢珩 周铭 +1 位作者 李春领 刘江高 《红外》 CAS 2023年第6期1-6,共6页
随着大规模红外焦平面阵列探测器应用的日益广泛,用户对其有效像元率指标提出了越来越高的要求。分析了有效像元率提升的难点。通过优化基于垂直布里奇曼法的衬底生长以及表面加工等工艺,提高了液相外延材料质量,获得了低缺陷中波碲镉... 随着大规模红外焦平面阵列探测器应用的日益广泛,用户对其有效像元率指标提出了越来越高的要求。分析了有效像元率提升的难点。通过优化基于垂直布里奇曼法的衬底生长以及表面加工等工艺,提高了液相外延材料质量,获得了低缺陷中波碲镉汞薄膜外延材料;通过开发碲镉汞探测器背面平坦化工艺和优化探测器与读出电路倒装互连工艺,提高了成品率。最终提升了有效像元率指标(大于99.8%),获得了良好的效果。 展开更多
关键词 有效像元率 红外焦平面阵列 液相外延 倒装互连
下载PDF
碲锌镉衬底晶面极性对水平液相外延碲镉汞薄膜的影响
19
作者 霍勤 张诚 +5 位作者 焦翠灵 王仍 毛诚铭 陆液 乔辉 李向阳 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第1期1-7,共7页
研究了碲锌镉衬底(111)晶面的不同极性对水平推舟液相外延生长碲镉汞薄膜的影响。实验结果显示,(111)A面碲锌镉衬底水平液相外延生长碲镉汞薄膜材料组分和厚度均与常规(111)B面碲锌镉衬底碲镉汞薄膜材料相当;碲镉汞母液在采用(111)A面、... 研究了碲锌镉衬底(111)晶面的不同极性对水平推舟液相外延生长碲镉汞薄膜的影响。实验结果显示,(111)A面碲锌镉衬底水平液相外延生长碲镉汞薄膜材料组分和厚度均与常规(111)B面碲锌镉衬底碲镉汞薄膜材料相当;碲镉汞母液在采用(111)A面、(111)B面衬底进行液相外延生长的碲镉汞薄膜上接触角分别为(50±2)°和(30±2)°,结合微观模型分析确认碲镉汞母液在碲镉汞薄膜(111)A面存在更大的表面张力;观察并讨论了(111)A面碲镉汞与(111)B面碲镉汞薄膜材料表面微观形貌的差别;实验获得的(111)A面碲镉汞薄膜XRD半峰宽为33.1arcsec。首次报道了(111)晶面选择对母液残留的影响,研究结果表明,采用(111)A面碲锌镉衬底进行碲镉汞水平推舟液相外延生长,能够在不降低晶体质量的情况下,大幅减小薄膜表面母液残留。 展开更多
关键词 Hg1-xCdxTe晶体 CdZnTe衬底 液相外延 (111)A面 (111)B面
下载PDF
液相外延碲镉汞薄膜缺陷综述
20
作者 起文斌 丛树仁 +6 位作者 宋林伟 李沛 江先燕 俞见云 宁卓 邓文斌 孔金丞 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2023年第7期286-301,共16页
液相外延是碲镉汞(MCT)薄膜生长领域最成熟的一种方法,被众多红外探测器研究机构和生产商所采用。然而由于MCT材料自身属性和具体制备工艺的原因,液相外延生长过程中不可避免地会产生各种缺陷,从而降低红外探测器的性能。为了增加对液... 液相外延是碲镉汞(MCT)薄膜生长领域最成熟的一种方法,被众多红外探测器研究机构和生产商所采用。然而由于MCT材料自身属性和具体制备工艺的原因,液相外延生长过程中不可避免地会产生各种缺陷,从而降低红外探测器的性能。为了增加对液相外延MCT薄膜中缺陷的认识,并对具体的生长工艺提供指导性建议,基于已报道的文献总结了液相外延MCT薄膜中所存在一些缺陷的特征以及形成机理和消除方法。对各类缺陷的形成机理和消除方法进行探讨和评估,有助于提高MCT薄膜液相外延的水平,为制造高性能MCT探测器做好材料技术支撑。 展开更多
关键词 碲镉汞材料 液相外延 缺陷形成机理 缺陷消除方法
下载PDF
上一页 1 2 8 下一页 到第
使用帮助 返回顶部