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低真空射频反应溅射 Ta_2O_5 减反射薄膜及其光伏应用 被引量:1
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作者 魏晋云 刘滔 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期332-334,共3页
在低真空下,用射频反应溅射法在硅片和硅太阳电池上制备理想配比的非晶Ta2O5减反射薄膜。测定表明,其减反射性能良好。
关键词 射频反应溅射 减反射薄膜 五氧化二钽
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