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低真空射频反应溅射 Ta_2O_5 减反射薄膜及其光伏应用
被引量:
1
1
作者
魏晋云
刘滔
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期332-334,共3页
在低真空下,用射频反应溅射法在硅片和硅太阳电池上制备理想配比的非晶Ta2O5减反射薄膜。测定表明,其减反射性能良好。
关键词
射频反应溅射
减反射薄膜
五氧化二钽
下载PDF
职称材料
题名
低真空射频反应溅射 Ta_2O_5 减反射薄膜及其光伏应用
被引量:
1
1
作者
魏晋云
刘滔
机构
云南师范大学太阳能研究所
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期332-334,共3页
基金
云南省教委科学研究基金
文摘
在低真空下,用射频反应溅射法在硅片和硅太阳电池上制备理想配比的非晶Ta2O5减反射薄膜。测定表明,其减反射性能良好。
关键词
射频反应溅射
减反射薄膜
五氧化二钽
Keywords
low vacuum
,
r f sputtering
,
ta 2o 5 antireflection thin film
,
pv apprication
分类号
O484 [理学—固体物理]
TM914.41 [电气工程—电力电子与电力传动]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
低真空射频反应溅射 Ta_2O_5 减反射薄膜及其光伏应用
魏晋云
刘滔
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998
1
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