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Fabrication and photoluminescence of GaN nanowires prepared by ammoniating GaeO3/BN films on Si substrate 被引量:2
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作者 XUE Chengshan WU Yuxin ZHUANG Huizhao TIAN Deheng LIU Yi'an HE Jianting AI Yujie SUN Lili WANG Fuxue 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2006年第14期1662-1665,共4页
GaN nanowires were successfully pre-pared on Si(111) substrate through ammoniating Ga2O3/BN films deposited by radio frequency mag-netron sputtering system. The synthesized nanowires were confirmed as hexagonal wurtzi... GaN nanowires were successfully pre-pared on Si(111) substrate through ammoniating Ga2O3/BN films deposited by radio frequency mag-netron sputtering system. The synthesized nanowires were confirmed as hexagonal wurtzite GaN by X-ray diffraction, selected-area electron diffraction and Fourier transform infrared spectra. Scanning electron microscopy and transmission electron microscopy revealed that the grown GaN nanowires have a smooth and clean surface with diameters ranging from 40 to 160 nm and lengths typically up to several tens of micrometers. The representative photolumi-nescence spectrum at room temperature exhibited a strong UV light emission band centered at 363 nm and a relative weak purple light emission peak at 422 nm. The growth mechanism is discussed briefly. 展开更多
关键词 磁控溅射 gan纳米线 光致发光 GaeO3/BN薄膜 Si
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Si基氨化ZnO/Ga_2O_3薄膜制备GaN纳米线 被引量:3
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作者 高海永 庄惠照 +5 位作者 薛成山 王书运 何建廷 董志华 吴玉新 田德恒 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期931-935,共5页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上溅射ZnO中间层和Ga2O3 薄膜,然后在管式炉中常压下通氨气对ZnO/Ga2O3 薄膜进行氨化,高温下ZnO层在氨气气氛中挥发,而Ga2O3 薄膜和氨气反应合成出GaN纳米线.X射线衍射测量结果表明利用该方法制备的GaN... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上溅射ZnO中间层和Ga2O3 薄膜,然后在管式炉中常压下通氨气对ZnO/Ga2O3 薄膜进行氨化,高温下ZnO层在氨气气氛中挥发,而Ga2O3 薄膜和氨气反应合成出GaN纳米线.X射线衍射测量结果表明利用该方法制备的GaN纳米线具有沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿结构.利用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、傅里叶红外透射谱、能量弥散谱及选区电子衍射观测并分析了样品的形貌、成分和晶格结构.研究发现ZnO层的挥发有利于Ga2O3 和NH3 反应合成GaN纳米线. 展开更多
关键词 gan纳米线 ZnO/Ga2O3薄膜 射频磁控溅射 氨化
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氨化Si基Ga_2O_3/Co薄膜制备GaN纳米线 被引量:1
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作者 秦丽霞 薛成山 +3 位作者 庄惠照 陈金华 李红 杨兆柱 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期851-852,856,共3页
采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化反应制备GaN薄膜。X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收光谱(FTIR)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)的分析结果表明,采用... 采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化反应制备GaN薄膜。X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收光谱(FTIR)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)的分析结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线。通过扫描电镜(SEM)观察发现纳米线的形貌,纳米线的尺寸在50-200nm之间。 展开更多
关键词 磁控溅射 gan纳米线 CO
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Si基Au催化合成镁掺杂GaN纳米线 被引量:1
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作者 黄英龙 薛成山 +5 位作者 庄惠照 张冬冬 王英 王邹平 郭永福 刘文军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期233-235,共3页
通过一种新奇的方法在硅衬底上成功地合成了掺杂镁的氮化镓纳米线,用金属镁粉末作为掺杂源,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化Ga2O3薄膜制备GaN纳米线。X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(... 通过一种新奇的方法在硅衬底上成功地合成了掺杂镁的氮化镓纳米线,用金属镁粉末作为掺杂源,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化Ga2O3薄膜制备GaN纳米线。X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)和能量弥散X射线谱(EDX)的分析结果表明,采用此方法得到的GaN纳米线为六方纤锌矿结构,纳米线的直径大约在60~100nm之间,纳米线的长约十几个微米。EDX分析表明纳米线掺杂了镁。室温下以325nm波长的光激发样品表面,发现由于镁的掺杂使GaN的发光峰有较大的蓝移。最后,简单讨论了GaN纳米线的生长机制。 展开更多
关键词 磁控溅射 gan纳米线 Mg 氨化
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氨化温度对氨化Si基Ga_2O_3/Cr膜制备GaN纳米结构的影响 被引量:1
5
作者 王邹平 薛成山 +4 位作者 庄惠照 王英 张冬冬 黄英龙 郭永福 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期595-597,601,共4页
采用磁控溅射的方法在Si(111)衬底上溅射沉积Ga2O3/Cr膜,并通过氨化的方法在Si(111)衬底上成功合成了六方纤锌矿GaN纳米结构材料,研究了不同的氨化温度对合成GaN纳米材料的影响。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子... 采用磁控溅射的方法在Si(111)衬底上溅射沉积Ga2O3/Cr膜,并通过氨化的方法在Si(111)衬底上成功合成了六方纤锌矿GaN纳米结构材料,研究了不同的氨化温度对合成GaN纳米材料的影响。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HR-TEM)、傅里叶红外吸收(FTIR)光谱来检测样品的形态,结构和成分,并且讨论了GaN纳米结构的生长机理。研究结果表明,在Cr催化合成GaN纳米结构的过程中,氨化温度对其有重要影响,最佳温度是950℃。 展开更多
关键词 Ga2O3/Cr膜 gan纳米线 氨化温度 磁控溅射
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氨化反应自组装GaN纳米线 被引量:1
6
作者 王显明 杨利 +1 位作者 王翠梅 薛成山 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期684-687,共4页
通过氨化射频溅射工艺生长的纳米Ga2 O3薄膜 ,在石英衬底上反应自组装生成了高质量的GaN纳米线。用X射线衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM)和高分辨电镜 (HRTEM)对样品的组分、形貌和结构进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑 ,其直径为 2 0~... 通过氨化射频溅射工艺生长的纳米Ga2 O3薄膜 ,在石英衬底上反应自组装生成了高质量的GaN纳米线。用X射线衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM)和高分辨电镜 (HRTEM)对样品的组分、形貌和结构进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑 ,其直径为 2 0~ 12 0nm ,长可达 5 0 μm;纳米线为高质量的单晶六方纤锌矿GaN ,沿 [110 ]方向生长。用此工艺制备GaN纳米线 ,简单新颖 。 展开更多
关键词 纳米Ga2O3薄膜 gan纳米线 射频磁控溅射 氨化
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氨化Si基Ga_2O_3/V膜制备GaN纳米线(英文)
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作者 杨兆柱 薛成山 +5 位作者 庄慧照 王公堂 陈金华 李红 秦丽霞 王邹平 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期377-379,共3页
氨化硅基钒应变层氧化镓膜制备了大量氮化镓纳米线,X射线衍射、扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察发现,纳米线具有十分光滑且干净的表面,其直径为20-60mm左右,长度达到十几微米。高分辨透射电子显微镜和选区电子衍射分析结果表明... 氨化硅基钒应变层氧化镓膜制备了大量氮化镓纳米线,X射线衍射、扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察发现,纳米线具有十分光滑且干净的表面,其直径为20-60mm左右,长度达到十几微米。高分辨透射电子显微镜和选区电子衍射分析结果表明。制备的氮化稼纳米线为六方纤锌矿结构。光致发光谱显示制备的氮化稼纳米线有良好的发光特性。另外,简单讨论了氮化稼纳米线的生长机制。 展开更多
关键词 磁控溅射 氮化镓 纳米线 光致发光
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氨化磁控溅射Ga_2O_3/BN薄膜制备GaN纳米棒
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作者 吴玉新 薛成山 +5 位作者 庄惠照 田德恒 刘亦安 孙莉莉 王福学 艾玉杰 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第A02期129-132,共4页
利用射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备Ga2O3/BN薄膜,在氨气中退火合成了大量的一维GaN纳米棒。用X射线衍射(XRD)、选区电子衍射(SAED)、傅立叶红外透射谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和光致发光谱(PL)对样品... 利用射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备Ga2O3/BN薄膜,在氨气中退火合成了大量的一维GaN纳米棒。用X射线衍射(XRD)、选区电子衍射(SAED)、傅立叶红外透射谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和光致发光谱(PL)对样品的晶体结构、元素成分、形貌特征和光学特性进行了分析。结果表明:GaN纳米棒为六方纤锌矿结构的单晶相,其直径在150 nm~400 nm左右,长度可达几十微米。室温下光致发光谱的测试发现了较强的372nm处的强紫外发光峰和420nm处的蓝色发光峰。 展开更多
关键词 磁控溅射 氨化 氮化镓纳米棒 光致发光
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氨化Ga_2O_3/Pd/Sapphire薄膜制备GaN纳米线
9
作者 薛成山 郭永福 +4 位作者 石锋 庄惠照 刘文军 曹玉萍 孙海波 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期976-979,共4页
利用金属元素钯作催化剂,采用磁控溅射后氨化法,成功的在Sapphire衬底上制备出GaN纳米线。X射线衍射和X射线光电子能谱研究显示合成的纳米线具有六方纤锌矿GaN结构。通过扫描电子显微镜,透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得... 利用金属元素钯作催化剂,采用磁控溅射后氨化法,成功的在Sapphire衬底上制备出GaN纳米线。X射线衍射和X射线光电子能谱研究显示合成的纳米线具有六方纤锌矿GaN结构。通过扫描电子显微镜,透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得出GaN纳米线为单晶结构,其纳米线的直径约为10~60nm,长度达几十个微米。室温下以325nm波长的光激发样品表面,发现GaN带边发光峰有较弱的蓝移。最后简单讨论了GaN纳米线的生长机制。 展开更多
关键词 纳米线 gan 磁控溅射 单晶 钯催化
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氨化Ga_2O_3/TiO_2/Si薄膜制备GaN纳米线
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作者 孙莉莉 薛成山 +5 位作者 孙传伟 艾玉杰 庄惠照 王福学 陈金华 李红 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2006年第4期279-281,共3页
为了制备高质量的GaN纳米结构,采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/TiO2薄膜,然后在950℃时于流动的氨气中进行氨化反应,成功制备出GaN纳米线.采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和高... 为了制备高质量的GaN纳米结构,采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/TiO2薄膜,然后在950℃时于流动的氨气中进行氨化反应,成功制备出GaN纳米线.采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对样品进行分析.研究结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线,纳米线的直径在100~400nm,纳米线的长度在3~10μm. 展开更多
关键词 磁控溅射 gan TIO2 纳米线
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氨化Si基Ga_2O_3/V薄膜制备GaN纳米线
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作者 杨兆柱 薛成山 +6 位作者 庄惠照 王公堂 秦丽霞 李红 陈金华 黄英龙 张冬冬 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期143-144,147,共3页
为了制备高质量的GaN纳米结构,采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/V薄膜,然后在流动的氨气中进行氨化反应,成功制备出GaN纳米线。采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)对样品... 为了制备高质量的GaN纳米结构,采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/V薄膜,然后在流动的氨气中进行氨化反应,成功制备出GaN纳米线。采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)对样品进行分析。研究结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN纳米线,且900℃时制备的纳米线质量最好,直径在60nm左右,长度达到十几微米。 展开更多
关键词 磁控溅射 gan V 纳米线
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钯缓冲层制备GaN纳米线及光学特性分析
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作者 薛成山 郭永福 +2 位作者 石锋 庄惠照 刘文军 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第1期14-17,共4页
利用射频磁控技术,在Si衬底上以Pd为缓冲层、Ga2O3粉末作为生长GaN的Ga源,成功制备出大量GaN纳米线。通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得出GaN纳米线为单晶结构,纳米线的直径为10~60nm,长度达几十个... 利用射频磁控技术,在Si衬底上以Pd为缓冲层、Ga2O3粉末作为生长GaN的Ga源,成功制备出大量GaN纳米线。通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得出GaN纳米线为单晶结构,纳米线的直径为10~60nm,长度达几十个微米。X射线衍射和X射线能量散射谱显示合成的纳米线为GaN单晶结构。傅里叶变换红外吸收光谱和光致发光光谱测试表明,制得的GaN纳米线与GaN体材料相比具有不同的光学特性。 展开更多
关键词 氮化镓 纳米线 磁控溅射 单晶 氨化 催化剂
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氨化Ga_2O_3/Mg薄膜制备簇状GaN纳米线
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作者 孙莉莉 薛成山 +2 位作者 艾玉杰 庄惠照 王福学 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期190-192,共3页
通过在1050°C时氨化Ga2O3/Mg薄膜制备出簇状GaN纳米线。用X射线衍射(XRD),傅里叶红外吸收光谱(FTIR)扫描电子显微镜(SEM)和高分辨电子显微镜(HRTEM)对样品进行测试分析。结果表明,GaN纳米线为六万纤锌矿结构单晶相并且成族生长,直... 通过在1050°C时氨化Ga2O3/Mg薄膜制备出簇状GaN纳米线。用X射线衍射(XRD),傅里叶红外吸收光谱(FTIR)扫描电子显微镜(SEM)和高分辨电子显微镜(HRTEM)对样品进行测试分析。结果表明,GaN纳米线为六万纤锌矿结构单晶相并且成族生长,直径在200~500nm米左右,其长度可达5~10μm。几乎所有纳米线的直径均有逐渐缩小的趋势。对Mg膜的作用进行了初步的分析。 展开更多
关键词 氮化镓 磁控溅射 纳米线
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氨化法制备大量单晶GaN纳米线及其特性研究
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作者 薛成山 秦丽霞 +3 位作者 庄惠照 陈金华 杨兆柱 李红 《微细加工技术》 EI 2008年第2期15-18,共4页
利用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在管式炉中通入流动的氨气在950℃对薄膜进行氨化,反应后成功制备出大量GaN纳米线。采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HRT... 利用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在管式炉中通入流动的氨气在950℃对薄膜进行氨化,反应后成功制备出大量GaN纳米线。采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对样品进行分析。结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线,纳米线的直径在50 nm^150 nm范围内,长度为几十微米。 展开更多
关键词 磁控溅射 氮化镓纳米线 X射线衍射
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氨化Si基Ga_2O_3/Ta薄膜制备GaN纳米线
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作者 李红 薛成山 +4 位作者 庄惠照 张晓凯 陈金华 杨兆柱 秦丽霞 《微细加工技术》 2007年第5期31-33,51,共4页
利用磁控溅射技术在Si衬底上制备Ga2O3/Ta薄膜,然后在900℃、氨气中退火合成了大量的一维单晶氮化镓纳米线。用X射线衍射、扫描电子显微镜、傅里叶红外吸收光谱、透射电子显微镜、选区电子衍射和光致发光谱对制备的氮化镓进行了表征。... 利用磁控溅射技术在Si衬底上制备Ga2O3/Ta薄膜,然后在900℃、氨气中退火合成了大量的一维单晶氮化镓纳米线。用X射线衍射、扫描电子显微镜、傅里叶红外吸收光谱、透射电子显微镜、选区电子衍射和光致发光谱对制备的氮化镓进行了表征。结果表明,制备的GaN纳米线是六方纤锌矿结构,其直径大约为50 nm,最大长度可达8μm左右。室温下光致发光谱的测试发现了364 nm处有较强紫外发光峰。 展开更多
关键词 氮化镓 磁控溅射 纳米线
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氨化Ga_2O_3/Nb薄膜制备GaN纳米线 被引量:1
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作者 李保理 庄惠照 +1 位作者 薛成山 张士英 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期54-56,共3页
采用射频磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Nb薄膜,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化制备GaN纳米线。用X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)详细分析了GaN纳米线的结构... 采用射频磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Nb薄膜,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化制备GaN纳米线。用X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)详细分析了GaN纳米线的结构和形貌。结果表明:采用此方法得到的GaN纳米线为六方纤锌矿结构,其纳米线的直径大约在50-100nm之间,纳米线的长约几个微米。室温下以325nm波长的光激发样品表面,只显示出一个位于364.4nm的很强的紫外发光峰。最后,简单讨论了GaN纳米线的生长机制。 展开更多
关键词 gan纳米线 磁控溅射 氨化
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