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Surface metallization of PTFE and PTFE composites by ion implantation for low-background electronic substrates in rare-event detection experiments 被引量:2
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作者 Shao-Jun Zhang Yuan-Yuan Liu +5 位作者 Sha-Sha Lv Jian-Ping Cheng Bin Liao Pan Pang Zhi Deng Li He 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第7期37-47,共11页
Polytetrafluoroethylene(PTFE)is a low-background polymer that is applied to several applications in rare-event detection and underground low-background experiments.PTFE-based electronic substrates are important for re... Polytetrafluoroethylene(PTFE)is a low-background polymer that is applied to several applications in rare-event detection and underground low-background experiments.PTFE-based electronic substrates are important for reducing the detection limit of high-purity germanium detectors and scintillator calorimeters,which are widely applied in dark matter and 0υββdetection experiments.The traditional adhesive bonding method between PTFE and copper is not conducive to working in liquid nitrogen and extremely low-temperature environments.To avoid adhesive bonding,PTFE must be processed for surface metallization owing to the mismatch between the PTFE and copper conductive layer.Low-background PTFE matrix composites(m-PTFE)were selected to improve the electrical and mechanical properties of PTFE by introducing SiO_(2)/TiO_(2) particles.The microstructures,surface elements,and electrical properties of PTFE and m-PTFE were characterized and analyzed following ion implantation.PTFE and m-PTFE surfaces were found to be broken,degraded,and cross-linked by ion implantation,resulting in C=C conjugated double bonds,increased surface energy,and increased surface roughness.Comparably,the surface roughness,bond strength,and conjugated double bonds of m-PTFE were significantly more intense than those of PTFE.Moreover,the interface bonding theory between PTFE and the metal copper foil was analyzed using the direct metallization principle.Therefore,the peel strength of the optimized electronic substrates was higher than that of the industrial standard at extremely low temperatures,while maintaining excellent electrical properties. 展开更多
关键词 surface modification Polytetrafluoroethylene ion implantation surface metallization Low temperature resistance
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Development and experimental study of large size composite plasma immersion ion implantation device
2
作者 宋法伦 李飞 +5 位作者 朱明冬 王浪平 张北镇 龚海涛 甘延青 金晓 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第1期90-94,共5页
Plasma immersion ion implantation (PI) overcomes the direct exposure limit of traditional beam- line ion implantation, and is suitable for the treatment of complex work-piece with large size. Pm technology is often ... Plasma immersion ion implantation (PI) overcomes the direct exposure limit of traditional beam- line ion implantation, and is suitable for the treatment of complex work-piece with large size. Pm technology is often used for surface modification of metal, plastics and ceramics. Based on the requirement of surface modification of large size insulating material, a composite full-directional PHI device based on RF plasma source and metal plasma source is developed in this paper. This device can not only realize gas ion implantation, but also can realize metal ion implantation, and can also realize gas ion mixing with metal ions injection. This device has two metal plasma sources and each metal source contains three cathodes. Under the condition of keeping the vacuum unchanged, the cathode can be switched freely. The volume of the vacuum chamber is about 0.94 m3, and maximum vacuum degree is about 5 x10-4 Pa. The density of RF plasma in homogeneous region is about 109 cm-3, and plasma density in the ion implantation region is about 101x cm-3. This device can be used for large-size sample material PHI treatment, the maximum size of the sample diameter up to 400 mm. The experimental results show that the plasma discharge in the device is stable and can run for a long time. It is suitable for surface treatment of insulating materials. 展开更多
关键词 plasma immersion ion implantation cathode arc metal plasma source RF plasmasource surface modification
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SiO_(2)@Li_(2)SiO_(3)双包覆`层策略改善正极材料LiNi_(0.8)Co_(0.1)Mn_(0.1)O_(2)循环稳定性
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作者 陈奎元 李凯强 李岩璞 《矿冶工程》 CAS 北大核心 2024年第4期36-41,共6页
针对高镍层状金属氧化物(LiNi_(x)Mn_(y)Co_(1-x-y)O_(2),0.8≤x<1,NCM)随着Ni摩尔分数增大而容量严重衰退问题,提出了利用SiO_(2)@Li_(2)SiO_(3)双包覆层改性单晶NCM正极材料、提高其电化学性能的策略。合成过程中,通过SiO_(2)+2LiO... 针对高镍层状金属氧化物(LiNi_(x)Mn_(y)Co_(1-x-y)O_(2),0.8≤x<1,NCM)随着Ni摩尔分数增大而容量严重衰退问题,提出了利用SiO_(2)@Li_(2)SiO_(3)双包覆层改性单晶NCM正极材料、提高其电化学性能的策略。合成过程中,通过SiO_(2)+2LiOH=Li_(2)SiO_(3)+H2O反应消耗材料表面残锂,改善界面锂离子扩散动力学,抑制界面副反应。SiO_(2)@Li_(2)SiO_(3)双包覆层改性正极材料在120次循环后放电比容量为156.88 mAh/g,容量保持率为70.52%。 展开更多
关键词 锂离子电池 三元正极材料 改性 高镍层状金属氧化物 表面包覆 高能量密度 循环稳定性
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Progress in doping and crystal deformation for polyanions cathode based lithium-ion batteries
4
作者 Sajeela Awasthi Srikanta Moharana +6 位作者 Vaneet Kumar Nannan Wang Elham Chmanehpour Anupam Deep Sharma Santosh K.Tiwari Vijay Kumar Yogendra Kumar Mishra 《Nano Materials Science》 EI CAS 2024年第5期504-535,共32页
Polyanion-based materials are considered one of the most attractive and promising cathode materials for lithiumion batteries(LIBs)due to their good stability,safety,cost-effectiveness,suitable voltages,and minimal env... Polyanion-based materials are considered one of the most attractive and promising cathode materials for lithiumion batteries(LIBs)due to their good stability,safety,cost-effectiveness,suitable voltages,and minimal environmental impact.However,these materials suffer from poor rate capability and low-temperature performance owing to limited electronic and ionic conductivity,which restricts their practical applicability.Recent developments,such as coating material particles with carbon or a conductive polymer,crystal deformation through the doping of foreign metal ions,and the production of nanostructured materials,have significantly enhanced the electrochemical performances of these materials.The successful applications of polyanion-based materials,especially in lithium-ion batteries,have been extensively reported.This comprehensive review discusses the current progress in crystal deformation in polyanion-based cathode materials,including phosphates,fluorophosphates,pyrophosphates,borates,silicates,sulfates,fluorosilicates,and oxalates.Therefore,this review provides detailed discussions on their synthesis strategies,electrochemical performance,and the doping of various ions. 展开更多
关键词 Crystal deformation in polyanions metal ions doping Cathode materials surface modification Lithium-ion batteries
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Biofunctionalization of metallic implants by calcium phosphate coatings 被引量:13
5
作者 Yingchao Su Irsalan Cockerill +3 位作者 Yufeng Zheng Liping Tang Yi-Xian Qin Donghui Zhu 《Bioactive Materials》 SCIE 2019年第1期196-206,共11页
Metallic materials have been extensively applied in clinical practice due to their unique mechanical properties and durability.Recent years have witnessed broad interests and advances on surface functionalization of m... Metallic materials have been extensively applied in clinical practice due to their unique mechanical properties and durability.Recent years have witnessed broad interests and advances on surface functionalization of metallic implants for high-performance biofunctions.Calcium phosphates(CaPs)are the major inorganic component of bone tissues,and thus owning inherent biocompatibility and osseointegration properties.As such,they have been widely used in clinical orthopedics and dentistry.The new emergence of surface functionalization on metallic implants with CaP coatings shows promise for a combination of mechanical properties from metals and various biofunctions from CaPs.This review provides a brief summary of state-of-art of surface biofunctionalization on implantable metals by CaP coatings.We first glance over different types of CaPs with their coating methods and in vitro and in vivo performances,and then give insight into the representative biofunctions,i.e.osteointegration,corrosion resistance and biodegradation control,and antibacterial property,provided by CaP coatings for metallic implant materials. 展开更多
关键词 Calcium phosphates metallic implant materials surface biofunctionalization OSTEOINTEGRATion BIODEGRADATion
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金属表面改性——离子注入技术的发展与应用 被引量:33
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作者 陈勇军 史庆南 +2 位作者 左孝青 王茗 吴新光 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期4-7,共4页
 系统介绍了金属表面改性用离子注入的机理和特点。剖析了温度、注入剂量、离子种类等影响因子对改性层效果的影响,综述了该技术在提高强度和硬度、改善磨损性能、降低摩擦系数等方面的用途,展示了离子注入技术的开发方向和应用前景。
关键词 离子注入 金属材料 表面改性 应用 强度 硬度 磨损性能 摩擦系数
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金属材料中氦的扩散与氦泡的形核生长研究 被引量:20
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作者 张崇宏 陈克勤 +1 位作者 王引书 孙继光 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期50-55,共6页
简述了金属材料中氦聚集行为的研究概况 ,特别是本课题组近年来对奥氏体不锈钢中氦扩散及氦泡形核生长机制的研究结果 ,并提出了这个领域有待解决的问题 .
关键词 离子注入 金属材料 氦扩散 氦泡 形核 生长 氦聚集 奥氏体不锈钢 核能技术 离子加速器 电境
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9Cr18轴承钢的金属离子加氮离子复合注入处理新工艺 被引量:14
8
作者 汤宝寅 王松雁 +4 位作者 王晓峰 甘孔银 曾照明 田修波 Paul K.Chu 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2000年第4期24-28,共5页
简单地叙述了金属等离子体浸没离子注入与沉积(MePIIID)表面处理新工艺的发展,以及MePIIID工艺对于脉冲阴极弧金属等离子体源的要求。详细报导了9Cr18轴承钢样品的氮离子注入表面处理工艺以及金属离子加氮离子复合注入处理新工艺。... 简单地叙述了金属等离子体浸没离子注入与沉积(MePIIID)表面处理新工艺的发展,以及MePIIID工艺对于脉冲阴极弧金属等离子体源的要求。详细报导了9Cr18轴承钢样品的氮离子注入表面处理工艺以及金属离子加氮离子复合注入处理新工艺。对被处理和未被处理试样进行了显微硬度、磨痕、摩擦因数及腐蚀特性测试后表明:用金属离子加氮离子复合注入处理的9Cr18钢试样的表面特性改善明显优于只用氮离子处理的试样,证明脉冲阴极弧金属等离子体源和气体等离子体浸没离子注入相结合是现代材料表面强化的一个很有效的手段。 展开更多
关键词 金属离子 氮离子 离子注入 表面改性 轴承钢
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用于材料表面强化处理的第三代多功能PⅢ装置 被引量:6
9
作者 汤宝寅 王浪平 +5 位作者 王小峰 甘孔银 王松雁 朱剑豪 黄楠 孙鸿 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期690-694,共5页
第三代多功能等离子体浸没离子注入 (PIII)装置的强流脉冲阴极弧金属等离子体源既具有强的镀膜功能 ,同时也具有强的金属离子注入功能 ;它的脉冲高压电源能输出大的电流 ;并可获得高的注入剂量均匀性。该装置既能执行离子注入 ,又能把... 第三代多功能等离子体浸没离子注入 (PIII)装置的强流脉冲阴极弧金属等离子体源既具有强的镀膜功能 ,同时也具有强的金属离子注入功能 ;它的脉冲高压电源能输出大的电流 ;并可获得高的注入剂量均匀性。该装置既能执行离子注入 ,又能把离子注入与溅射沉积 ,镀膜结合在一起 ,形成多种综合性表面改性工艺。本文描述了它的主要设计原则、主要部件的特性以及近期的研究工作成果。 展开更多
关键词 表面强化处理 多功能PⅢ装置 等离子体浸没离子注入 表面改性 强流脉冲阴极弧金属等离子体源 金属材料
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钛离子注入类金刚石碳膜的结构与性能的研究 被引量:12
10
作者 柳翠 苟伟 +1 位作者 牟宗信 李国卿 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期301-303,共3页
使用金属离子注入的方法制备了 Ti掺杂的DLC膜。采用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌,Ti掺杂后 DLC 膜的表面粗糙度明显减小,表面光洁度增加,颗粒细化。拉曼光谱分析表明实验获得的薄膜是典型的DLC膜,掺杂Ti后的 DLC膜的拉曼光谱存在... 使用金属离子注入的方法制备了 Ti掺杂的DLC膜。采用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌,Ti掺杂后 DLC 膜的表面粗糙度明显减小,表面光洁度增加,颗粒细化。拉曼光谱分析表明实验获得的薄膜是典型的DLC膜,掺杂Ti后的 DLC膜的拉曼光谱存在明显的肩峰,DLC膜化学结构中的sp2 组分增加,sp3 组分减少。透射电子显微镜分析表明Ti注入后有TiC纳米晶形成。掺入Ti的 DLC膜的硬度从 14GPa增加到 20GPa。Ti 掺杂后的 DLC 膜的摩擦系数(0.15)明显低于未掺杂的DLC膜的摩擦系数(0.21),Ti离子注入有助于提高薄膜的抗磨损性。 展开更多
关键词 无机非金属材料 类金刚石碳膜 金属离子注入 钛掺杂
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强脉冲离子注入中的脉冲能量效应研究 被引量:8
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作者 赵渭江 颜莎 +7 位作者 乐小云 韩宝玺 薛建明 王宇钢 Remmev G E Opekounov M S Isakov I F Grushin II 《核技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第10期689-696,共8页
在脉冲离子束流密度为15-120A/cm2、脉宽为50-150ns、加速电压为150-260kV范围内,在1×104cm-2的低注量水平上,研究了高功率Cn++H+混合离子束注入45号钢样品的强脉冲能量效应.摩擦... 在脉冲离子束流密度为15-120A/cm2、脉宽为50-150ns、加速电压为150-260kV范围内,在1×104cm-2的低注量水平上,研究了高功率Cn++H+混合离子束注入45号钢样品的强脉冲能量效应.摩擦磨损和微观硬度测量以及SEM和X射线衍射分析表明,上述低注量强脉冲离子束注入可以改变材料表面的微观结构和力学特性,而且强烈依赖于单个脉冲离子束的功率密度和能量密度,在相同离子注量条件下,普通C++H+离子注入对45号钢样品表面微硬度和摩擦系数未见明显影响.直接证明了强脉冲能量效应在离子注入中是相对独立于注入元素掺杂效应的又一可利用的重要效应.基于一维导热模型,讨论了强脉冲能量效应以及脉冲离子束功率密度对离子束材料表面改性的作用。 展开更多
关键词 脉冲能量效应 表面改性 半导体材料
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退火气氛对SIMOX材料Si/SiO_2界面特性的影响 被引量:3
12
作者 李映雪 奚雪梅 +3 位作者 王兆江 张兴 王阳元 林成鲁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第1期11-15,共5页
利用TEM、AES、XPS技术分析研究了不同退火气氛对SIMOX材料的影响.结果表明,在注入能量和剂量以及退火温度和时间都相同的条件下,在Ar+0.5%O2中退火,可以获得光滑平整的Si/SiO2界面,而在纯N2气氛... 利用TEM、AES、XPS技术分析研究了不同退火气氛对SIMOX材料的影响.结果表明,在注入能量和剂量以及退火温度和时间都相同的条件下,在Ar+0.5%O2中退火,可以获得光滑平整的Si/SiO2界面,而在纯N2气氛中退火,Si/SiO2界面极不平整,且界面附近晶体质量较差.本文分析了造成这种结果的原因. 展开更多
关键词 SIMOX材料 二氧化硅 退火 界面
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La^+,Mo^+注入TC4合金表面粗糙度变化研究 被引量:4
13
作者 卫中山 王珉 +1 位作者 左敦稳 李亮 《特种铸造及有色合金》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期1-3,共3页
利用MEVVA离子注入技术对TC4合金进行了表面处理 ,测量了TC4合金经不同剂量的La+和Mo+注入后表面粗糙度的变化。结果表明 ,离子注入使表面粗糙度的高度特性参数值普遍下降 ,随着注入剂量增加 ,各参数值下降更明显 ,Mo+注入效果要略优于... 利用MEVVA离子注入技术对TC4合金进行了表面处理 ,测量了TC4合金经不同剂量的La+和Mo+注入后表面粗糙度的变化。结果表明 ,离子注入使表面粗糙度的高度特性参数值普遍下降 ,随着注入剂量增加 ,各参数值下降更明显 ,Mo+注入效果要略优于La+的效果。表面形貌得到优化。分析了离子注入对表面粗糙度的影响规律 。 展开更多
关键词 钛合金 金属离子注入 表面粗糙度
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锂离子电池正极材料LiFePO4的复合改性研究 被引量:4
14
作者 张培新 文衍宣 +4 位作者 刘波 刘剑洪 任祥忠 罗仲宽 许启明 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期250-253,共4页
为提高LiFePO4的充放电性能,用化学沉淀法制备了金属离子和蔗糖碳复合改性的磷酸铁锂,具有很好的大电流性能,主要原因是金属离子体掺杂和表面包覆导电碳黑提高材料自身的导电能力和电极中颗粒间的导电能力。其中Li0.98Ti0.02FePO4/C在32... 为提高LiFePO4的充放电性能,用化学沉淀法制备了金属离子和蔗糖碳复合改性的磷酸铁锂,具有很好的大电流性能,主要原因是金属离子体掺杂和表面包覆导电碳黑提高材料自身的导电能力和电极中颗粒间的导电能力。其中Li0.98Ti0.02FePO4/C在320mA/g(约2C)的比容量>126mAh/g,充放电循环20次后放电比容量仍保持在96%以上。 展开更多
关键词 锂离子电池 正极材料 LIFEPO4 金属离子掺杂 碳包覆
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还原气氛退火对Ag-Cu纳米颗粒光学吸收的影响 被引量:3
15
作者 任峰 陈海波 +2 位作者 蒋昌忠 张丽 石瑛 《武汉大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期609-612,共4页
经43kV和30kV加速后的Ag、Cu离子按相同的剂量在室温下先后注入到非晶SiO2玻璃.用X射线光电子能谱(XPS)分析注入样品的价态分布,发现Ag、Cu仍以金属态形式存在.注入后光学吸收谱显示吸收峰的位置在442nm,说明在该实验条件下,SiO2玻璃表... 经43kV和30kV加速后的Ag、Cu离子按相同的剂量在室温下先后注入到非晶SiO2玻璃.用X射线光电子能谱(XPS)分析注入样品的价态分布,发现Ag、Cu仍以金属态形式存在.注入后光学吸收谱显示吸收峰的位置在442nm,说明在该实验条件下,SiO2玻璃表层很有可能形成了Ag Cu纳米合金颗粒.样品在还原气氛下从300~800℃每隔100℃退火1h后,发现等离子体共振吸收峰的位置发生了蓝移并在500℃时出现双峰,表明退火过程中Ag Cu纳米合金颗粒开始分解成Ag和Cu纳米颗粒.随着退火温度的上升,Ag、Cu纳米颗粒生核生长,当退火温度高于600℃时Cu颗粒尺寸变小,当退火温度高于700℃时Ag颗粒才开始变小. 展开更多
关键词 纳米复合材料 AG CU 金属离子注入 还原气氛退火 光学吸收 表面等离子体共振吸收 蓝移
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MEVVA源金属离子注入和金属等离子体浸没注入 被引量:6
16
作者 张涛 侯君达 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2000年第3期8-12,共5页
MEVVA源金属离子注入技术和金属等离子体浸没注入技术MePIII的共同特性是强流金属离子注入。它们各具长处,相互补充,共同发展。前者因无鞘层重叠问题和其方向强的特点,特别适用于小件、简单件的大批量金属离子注入处理,能保证处理... MEVVA源金属离子注入技术和金属等离子体浸没注入技术MePIII的共同特性是强流金属离子注入。它们各具长处,相互补充,共同发展。前者因无鞘层重叠问题和其方向强的特点,特别适用于小件、简单件的大批量金属离子注入处理,能保证处理的均匀性和高效率。后者因无视线加工限制并克服了保持剂量问题,特别适用于处理体积较大、形状复杂的工件,能保证工件所有暴露表面的加工均匀性,调整工作参数,还能进行金属膜沉积和各种沉积/注入比例的动态增强沉积金属、合金及化合物膜制备。综述上述二者的开发、工作原理、材料表面改性研究和工业应用新进展。 展开更多
关键词 金属离子注入 MEVVA源 PIll技术
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50型MEVVA源离子注入机 被引量:2
17
作者 吴先映 李强 +2 位作者 张胜基 张孝吉 张荟星 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期496-499,共4页
详细介绍了 5 0型强束流、大束斑MEVVA源注入机的结构和各项性能 .5 0型MEVVA源注入机是北京师范大学低能核物理研究所于九五期间承担的“八六三”计划项目“先进离子束注入技术的工业应用”所取得的成果 。
关键词 MEVVA源 离子注入机 材料表面改性 真空靶室 电源 低能核物理 控制测量系统
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离子束溅射沉积羟基磷灰石涂层钛种植体材料的制备和表征 被引量:4
18
作者 王昌祥 陈治清 +5 位作者 邱静 管利民 刘仲阳 王培录 郑思孝 廖小东 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期438-440,共3页
采用Ar+离子束溅射沉积技术在钛基体上沉积羟基磷灰石薄膜涂层,Ar+离子束的能量分别为0.9keV、1.2keV和1.5keV。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和红外光谱(FTIR)等... 采用Ar+离子束溅射沉积技术在钛基体上沉积羟基磷灰石薄膜涂层,Ar+离子束的能量分别为0.9keV、1.2keV和1.5keV。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和红外光谱(FTIR)等检测方法,对制备的羟基磷灰石薄膜涂层进行了表征。X射线衍射和透射电镜结果表明该薄膜涂层为非晶态;红外光谱中无羟基(OH-)特征峰存在,CO=3根吸收峰的出现说明制备过程中会引入CO=3根;扫描电镜观察结果显示出制备的羟基磷灰石薄膜涂层致密、均匀;划痕实验结果表明涂层与钛基体间的结合紧密。以上结果表明,离子束溅射沉积技术可以用于沉积羟基磷灰石薄膜涂层钛种植材料。 展开更多
关键词 羟基磷灰石涂层 钛种植体材料 制备 表征
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全方位离子注入及增强沉积工业机和应用 被引量:2
19
作者 童洪辉 陈庆川 +6 位作者 霍岩峰 王珂 穆莉兰 冯铁民 赵军 严兵 耿漫 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期684-689,共6页
报道了等离子体源离子注入 (PSII)或等离子体浸没离子注入 (PIII)及增强沉积工业机的实验结果及应用。该机真空室直径 90 0mm ,高 10 5 0mm ,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了PLC控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa... 报道了等离子体源离子注入 (PSII)或等离子体浸没离子注入 (PIII)及增强沉积工业机的实验结果及应用。该机真空室直径 90 0mm ,高 10 5 0mm ,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了PLC控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa。等离子体由热阴极放电或三个高效磁过滤式金属等离子体源产生 ,因此可实现全方位离子注入或增强沉积成膜。该机的负高压脉冲最高幅值为 80kV ,最大脉冲电流为 6 0A ,重复频率为 5 0— 5 0 0Hz ,脉冲上升沿小于 2 μs,并且可根据需要产生脉冲串。其等离子体密度约为 10 8— 10 10 ·cm- 3,膜沉积速率为 0 .1— 0 .5nm/s。 展开更多
关键词 增强沉积工业机 全方位离子注入 金属等离子体源 表面改性 金属材料
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Ag、Cu离子先后注入SiO_2玻璃后形成纳米颗粒的光学性质研究 被引量:2
20
作者 陈海波 蒋昌忠 +1 位作者 石瑛 付强 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期714-715,718,共3页
 采用由金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)引出的强束流脉冲Ag、Cu离子,先后注入到SiO2玻璃。注入的剂量均为5×1016ions/cm2,Ag的加速电压为43kV,Cu的加速电压为30kV。光学吸收谱显示吸收峰的位置在442nm,可以推测Ag、Cu在SiO2玻璃表...  采用由金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)引出的强束流脉冲Ag、Cu离子,先后注入到SiO2玻璃。注入的剂量均为5×1016ions/cm2,Ag的加速电压为43kV,Cu的加速电压为30kV。光学吸收谱显示吸收峰的位置在442nm,可以推测Ag、Cu在SiO2玻璃表层形成了纳米合金。借助X射线光电子能谱仪(XPS)考察注入样品的价态分布,观察到Ag、Cu仍大多以金属态形式存在。对样品进行退火后,发现光学透射率发生了明显的变化。 展开更多
关键词 金属离子注入 光学透射率 纳米颗粒 表面等离子体 光学性质 SIO2玻璃 XPS 光开关
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