微雕关节突关节经椎间孔复位椎管内骨块减压术治疗胸腰椎爆裂骨折的疗效分析

目的探讨微雕关节突关节经椎间孔复位椎管内骨块减压术治疗胸腰椎爆裂骨折的临床效果。方法回顾性分析2016年2月至2023年2月四川省宣汉县人民医院骨科收治的伴有骨块压迫并导致神经症状的胸腰椎爆裂骨折患者64例。接受经肌间隙入路微雕关节突关节行椎体后缘直接减压复位治疗的32例患者为观察组,接受经椎板入路行患侧椎板切除间接减压治疗的32例患者为对照组。比较两组术中出血量、手术时间、截骨量;比较两组术前、术后治疗12个月伤椎Cobb角、伤椎体前缘高度比、功能障碍ODI指数、疼痛程度评分以及末次随访脊髓神经功能分级。结果观察组术中出血量、手术时间、截骨量明显小于对照组(P<0.05);术后12个月观察组伤椎Cobb角明显小于对照组,伤椎体前缘高度比值显著大于对照组,ODI指数、VAS评分明显低于对照组,脊髓神经功能分级显著优于对照组(P<0.05)。结论微雕关节突关节建立减压通道,较常规经椎板切开减压能显著减少出血和创伤,提高椎体稳定性,恢复椎体高度,缓解功能障碍,改善脊髓神经功能。

KCl溶液结晶辅助表征4H-SiC衬底中的微划痕

4H-SiC晶圆表面的微划痕会使外延层中产生大量缺陷,但其线宽低于光学表征技术的极限,无法以无损光学检测的方法获得微划痕在晶圆上的分布规律。本研究基于经典成核理论,利用微划痕上的高指数晶面,通过溶液干燥析晶的方法,使KCl晶体优先成核于高表面能的高指数晶面。实验结果表明:当KCl溶液的浓度为0.013 mol/L时,溶液蒸发后的KCl晶体嵌于微划痕的沟壑内,使微划痕可以间接地被光学方法检测。当KCl溶液的浓度大于0.013 mol/L时,KCl晶体会结晶于没有微划痕的区域,干扰对微划痕的表征。本方法制备的KCl晶体仅吸附成核于4H-SiC表面,不与4H-SiC发生化学反应,通过RCA清洗工艺即可完全去除表面的KCl晶体,不影响晶圆的后续加工工艺。

深紫外激光对GaN薄膜的激光抛光研究

为了研究157nm深紫外激光的激光抛光加工特性,采用小光斑对GaN半导体薄膜进行了微平面扫描刻蚀。通过探讨激光工艺参量与激光抛光质量的影响关系,得到了最佳的工艺参量范围。结果表明,随着激光抛光扫描速率的增加,材料加工表面粗糙度值Ra逐渐减小,其中扫描速率在0.014mm/s～0.015mm/s处,激光抛光质量最高;而激光抛光扫描间距的减小,或者脉冲频率的增加,都将导致被加工表面粗糙度增大;当脉冲频率取8Hz时,抛光效果较好,表面粗糙度值Ra≈20nm。

基于双面反射镜的N×N光开关的特性分析和实验研究

报道了基于双面反射镜的N×N光开关器件。介绍了使用双面反射镜的2×2,4×4光开关的集成光路设计和工作原理;采用Benes网络,以2×2和4×4光开关为基本单元的N×N光开关器件的整体结构,并根据“一笔画”原理,分析了4×4,8×8和16×16光开关矩阵的可重排无阻塞特性和光开关矩阵的光路选择算法。最后,基于2×2,4×4光开关技术制备了16×16光开关矩阵。测试表明,该器件具有良好的插入损耗、回波损耗、串扰和开关时间等性能,从而验证了设计思想和工艺的可行性。在基于双面反射镜的光开关矩阵中,双面反射镜的使用大大减少了光开关矩阵中运动镜片的数量,简化了控制程序,并有利于提升光开关器件的可靠性能,有望在中小型光交换机、网络管理和光路测量中获得应用。

线性光谱混合模型的适用观测尺度分析

线性光谱混合模型是目前应用最广泛的光谱混合模型,但由于遥感观测多分辨率的特点,模型的适用性会受到尺度效应的影响。为探索该模型在不同观测尺度下的适用程度,本文从地物辐射原理出发,通过理论推导微面元辐射通量表达式,得出地物辐射通量除了与端元反射率和面积比有关外,也与天顶角存在显著的非线性关系。因此,在线性光谱混合模型和微面元辐射通量的基础上,推导了更具普适性的积分线性光谱混合模型的表达式,再采用数值模拟的方法,计算了两模型的相对差值Δρ,结果表明Δρ的大小仅与探测单元的半瞬时视场角β有关,并通过实测光谱实验对上述推论进行了验证。研究表明,当β<13°时,Δρ较小,线性光谱混合模型是积分线性光谱混合模型的一种近似表达形式,β完全可作为确定线性光谱混合模型适用观测尺度的关键依据,并且该模型的适用程度随β的增大而降低。

高表面能晶面裸露的金属氧化物微纳米晶体的可控合成

表面结构是影响固体材料物理和化学性质的重要因素,由于高表面能的晶面上存在更多的表面悬挂键等,高表面能晶面裸露的微纳米晶体一般表现出很好的物理和化学活性.近年来,科研工作者针对高能面微纳米晶体材料的制备及性能调控进行了大量的研究工作并取得了一定的进展.本文重点讨论了高能面裸露的金属氧化物半导体微纳米晶体的合成制备方法.主要以本课题组近年在该领域的研究为例,分别从晶体生长过程中的静电作用法、"帽"式试剂保护法、过饱和度调控法、动力学调控法及选择性化学刻蚀法等几个方面对高表面能晶面裸露的金属氧化物微纳米晶体的制备进行了系统的总结.