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用SF_(6)-N_(2)混合气的反应离子刻蚀制作WSi_(x)微米结构
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作者 程美乔 傅绍云 李建中 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第5期355-359,共5页
本文报道了ESi_x在SF_6-Ar、SF_6-N_2混合气中的反应离子刻蚀(RIE)的实验结果。研究了在SF_6-N_2的混合气中刻蚀WSi_x时,气体成分、气体流量、工作气压和输入功率对刻蚀速率的影响。发现在SF_6/N_2中刻蚀WSi_x微米结构具有优越性。实验... 本文报道了ESi_x在SF_6-Ar、SF_6-N_2混合气中的反应离子刻蚀(RIE)的实验结果。研究了在SF_6-N_2的混合气中刻蚀WSi_x时,气体成分、气体流量、工作气压和输入功率对刻蚀速率的影响。发现在SF_6/N_2中刻蚀WSi_x微米结构具有优越性。实验结果的重复性较好,并在高速场效应器件、光电集成器件(微米结构)制作中得到应用。 展开更多
关键词 SF_(6)-N_(2)混合气 反应离子刻蚀 wsi_(x)微米结构
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高分辨三维X射线显微成像在药物制剂结构分析中的应用
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作者 昝孟晴 黄韩韩 +4 位作者 南楠 牛剑钊 马玲云 许鸣镝 刘倩 《中国现代应用药学》 CAS CSCD 北大核心 2022年第24期3316-3321,共6页
药物制剂的结构研究能够帮助更加全面地评价药物制剂的质量,也有助于新型药物制剂的设计和创新。高分辨三维X射线显微成像技术能够在微米级甚至纳米级空间分辨率上原位、无损地展示粉末、颗粒、片剂、胶囊等固体制剂的三维结构信息,为... 药物制剂的结构研究能够帮助更加全面地评价药物制剂的质量,也有助于新型药物制剂的设计和创新。高分辨三维X射线显微成像技术能够在微米级甚至纳米级空间分辨率上原位、无损地展示粉末、颗粒、片剂、胶囊等固体制剂的三维结构信息,为新型制剂的创新和质量控制提供新方法。本文在介绍高分辨三维X射线显微成像技术的原理、发展及其研究药物制剂结构的基本流程的基础上,综述了其在药物制剂结构研究方面的国内外进展,为相关研究提供参考。 展开更多
关键词 药物制剂结构 高分辨三维x射线显微成像技术 三维结构表征 质量控制 微米级空间分辨率
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