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用SF_(6)-N_(2)混合气的反应离子刻蚀制作WSi_(x)微米结构
1
作者
程美乔
傅绍云
李建中
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第5期355-359,共5页
本文报道了ESi_x在SF_6-Ar、SF_6-N_2混合气中的反应离子刻蚀(RIE)的实验结果。研究了在SF_6-N_2的混合气中刻蚀WSi_x时,气体成分、气体流量、工作气压和输入功率对刻蚀速率的影响。发现在SF_6/N_2中刻蚀WSi_x微米结构具有优越性。实验...
本文报道了ESi_x在SF_6-Ar、SF_6-N_2混合气中的反应离子刻蚀(RIE)的实验结果。研究了在SF_6-N_2的混合气中刻蚀WSi_x时,气体成分、气体流量、工作气压和输入功率对刻蚀速率的影响。发现在SF_6/N_2中刻蚀WSi_x微米结构具有优越性。实验结果的重复性较好,并在高速场效应器件、光电集成器件(微米结构)制作中得到应用。
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关键词
SF_(6)-N_(2)混合气
反应离子刻蚀
wsi
_(
x
)微米结构
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职称材料
高分辨三维X射线显微成像在药物制剂结构分析中的应用
2
作者
昝孟晴
黄韩韩
+4 位作者
南楠
牛剑钊
马玲云
许鸣镝
刘倩
《中国现代应用药学》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第24期3316-3321,共6页
药物制剂的结构研究能够帮助更加全面地评价药物制剂的质量,也有助于新型药物制剂的设计和创新。高分辨三维X射线显微成像技术能够在微米级甚至纳米级空间分辨率上原位、无损地展示粉末、颗粒、片剂、胶囊等固体制剂的三维结构信息,为...
药物制剂的结构研究能够帮助更加全面地评价药物制剂的质量,也有助于新型药物制剂的设计和创新。高分辨三维X射线显微成像技术能够在微米级甚至纳米级空间分辨率上原位、无损地展示粉末、颗粒、片剂、胶囊等固体制剂的三维结构信息,为新型制剂的创新和质量控制提供新方法。本文在介绍高分辨三维X射线显微成像技术的原理、发展及其研究药物制剂结构的基本流程的基础上,综述了其在药物制剂结构研究方面的国内外进展,为相关研究提供参考。
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关键词
药物制剂结构
高分辨三维
x
射线显微成像技术
三维结构表征
质量控制
微米级空间分辨率
原文传递
题名
用SF_(6)-N_(2)混合气的反应离子刻蚀制作WSi_(x)微米结构
1
作者
程美乔
傅绍云
李建中
机构
中国科学院半导体研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第5期355-359,共5页
文摘
本文报道了ESi_x在SF_6-Ar、SF_6-N_2混合气中的反应离子刻蚀(RIE)的实验结果。研究了在SF_6-N_2的混合气中刻蚀WSi_x时,气体成分、气体流量、工作气压和输入功率对刻蚀速率的影响。发现在SF_6/N_2中刻蚀WSi_x微米结构具有优越性。实验结果的重复性较好,并在高速场效应器件、光电集成器件(微米结构)制作中得到应用。
关键词
SF_(6)-N_(2)混合气
反应离子刻蚀
wsi
_(
x
)微米结构
Keywords
SF_(6-)N_(2)
mi
x
ture
reactive ion etching
micron
structures
of
wsi
_(
x
)
分类号
TN405.982 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
高分辨三维X射线显微成像在药物制剂结构分析中的应用
2
作者
昝孟晴
黄韩韩
南楠
牛剑钊
马玲云
许鸣镝
刘倩
机构
中国食品药品检定研究院
出处
《中国现代应用药学》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第24期3316-3321,共6页
基金
国家重点研发计划项目(2020YFE0201700)。
文摘
药物制剂的结构研究能够帮助更加全面地评价药物制剂的质量,也有助于新型药物制剂的设计和创新。高分辨三维X射线显微成像技术能够在微米级甚至纳米级空间分辨率上原位、无损地展示粉末、颗粒、片剂、胶囊等固体制剂的三维结构信息,为新型制剂的创新和质量控制提供新方法。本文在介绍高分辨三维X射线显微成像技术的原理、发展及其研究药物制剂结构的基本流程的基础上,综述了其在药物制剂结构研究方面的国内外进展,为相关研究提供参考。
关键词
药物制剂结构
高分辨三维
x
射线显微成像技术
三维结构表征
质量控制
微米级空间分辨率
Keywords
pharmaceutical preparation structure
high-resolution three-dimensional
x
-ray microscopy imaging technology
three-dimensional structure characterization
quality control
micron
spatial resolution
分类号
R943 [医药卫生—药剂学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用SF_(6)-N_(2)混合气的反应离子刻蚀制作WSi_(x)微米结构
程美乔
傅绍云
李建中
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990
0
下载PDF
职称材料
2
高分辨三维X射线显微成像在药物制剂结构分析中的应用
昝孟晴
黄韩韩
南楠
牛剑钊
马玲云
许鸣镝
刘倩
《中国现代应用药学》
CAS
CSCD
北大核心
2022
0
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