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The effects of pressure, temperature, and depth/diameter ratio on the microvia filling performance of Ag-coated Cu micro-nanoparticles for advanced electronic packaging 被引量:1
1
作者 Guannan Yang Shaogen Luo +6 位作者 Bo Luo Yan Zuo Shiwo Ta Tingyu Lin Zhaohui Zhao Yu Zhang Chengqiang Cui 《International Journal of Smart and Nano Materials》 SCIE EI 2022年第4期543-560,共18页
Conductive fillers made from metal nanoparticles offer many advan-tages for the fabrication of a variety of electronic devices,but when they have a porous structure,their poor conductivity limits their adoption in man... Conductive fillers made from metal nanoparticles offer many advan-tages for the fabrication of a variety of electronic devices,but when they have a porous structure,their poor conductivity limits their adoption in many applications.In this study,an Ag-coated Cu micro-nanoparticle paste is used to achieve compact filling of blind vias on flexible copper clad polyimide laminates through a multistep filling and sintering tech-nique.The filled blind vias achieve a resistivity as low as 6.2μΩ·cm,which is comparable that of electroplated blind vias.Higher sintering pressure and temperature promote the filling performance,while the conductivity deteriorates at a via depth/diameter ratio greater than 1:1.Finite element simulations reveal a stress inhomogeneity in vias with large depth/diameter ratios,which is the key to understanding the evolution of the conductive properties of a paste-filled via.This study provides an effective method for high-performance microvia filling as well as insights into the mechanism that influences its performance. 展开更多
关键词 Ag-coated Cu micronanoparticles vertical interconnection microvia filling SINTERING
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多层互连印制电路板深微孔性能仿真分析
2
作者 王康磊 宋伟伟 焦小山 《印制电路信息》 2023年第3期11-17,共7页
印制电路板(PCB)深微孔蟹脚及镀层结晶异常是PCB电镀过程中常见的缺陷,对其可靠性影响较大。采用有限元分析法,对侧喷时板面及孔内的镀液流动状态进行数值计算,得到不同喷流速度和不同厚径比时镀液在深微孔底部的流速分布数据。同时,通... 印制电路板(PCB)深微孔蟹脚及镀层结晶异常是PCB电镀过程中常见的缺陷,对其可靠性影响较大。采用有限元分析法,对侧喷时板面及孔内的镀液流动状态进行数值计算,得到不同喷流速度和不同厚径比时镀液在深微孔底部的流速分布数据。同时,通过试验研究电流密度、波形时间比、正反电流比等电镀参数对深微孔电镀效果的影响。结果表明:当电镀参数与喷流频率协同作用时,可有效改善PCB深微孔蟹脚和及镀层结晶异常类缺陷。 展开更多
关键词 深微孔印制板 电镀效果 结晶异常 有限元分析
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印制线路板微孔镀铜研究现状 被引量:20
3
作者 李亚冰 王双元 王为 《电镀与精饰》 CAS 2007年第1期32-35,39,共5页
印制线路板微孔金属化的关键在于在高厚径比的微孔中形成无空洞、无接缝、均匀的铜沉积层。综述了目前微孔填充技术的发展现状,对电镀过程中采用的电流密度、搅拌因素和电流波形等进行了探讨,重点讨论了添加剂对填孔效果的影响及其作用... 印制线路板微孔金属化的关键在于在高厚径比的微孔中形成无空洞、无接缝、均匀的铜沉积层。综述了目前微孔填充技术的发展现状,对电镀过程中采用的电流密度、搅拌因素和电流波形等进行了探讨,重点讨论了添加剂对填孔效果的影响及其作用机理。 展开更多
关键词 印制线路板 微孔 厚径比 添加剂 填孔 脉冲电镀
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多场耦合研究印制电路盲孔填铜 被引量:3
4
作者 苏世栋 冀林仙 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第7期22-28,共7页
盲孔填铜作为高密度互连印制电路板制造的关键技术,其填铜性能一直是电镀铜研究的热点。采用多物理场耦合的有限元方法讨论了印制电路盲孔填铜过程,探讨了镀液流场、电镀添加剂与盲孔形状对铜沉积过程的影响。数值模拟结果表明,孔内镀... 盲孔填铜作为高密度互连印制电路板制造的关键技术,其填铜性能一直是电镀铜研究的热点。采用多物理场耦合的有限元方法讨论了印制电路盲孔填铜过程,探讨了镀液流场、电镀添加剂与盲孔形状对铜沉积过程的影响。数值模拟结果表明,孔内镀液的良好交换、添加剂的加入与倒梯形孔型的设计有利于实现盲孔铜的超等角沉积,填充性能大于80%。采用数值模拟方法研究电镀铜过程是行之有效的方法,对高密度互连板层间连接的研究具有一定的指导意义。 展开更多
关键词 印制电路 盲孔 电镀铜 层间互连 多场耦合 有限元法
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激光在高密度PCB制造中的应用研究 被引量:1
5
作者 徐梦廓 丁黎光 +1 位作者 李书平 陈佰江 《电加工与模具》 2009年第3期47-49,共3页
传统机械钻削难以满足高密度PCB微细孔的加工要求。试验表明,通过对激光波长模式、光斑直径和脉冲宽度等参数的精确控制,及利用激光束对材料相互作用的效应加工高密度PCB微孔,不仅能达到的较好加工质量,同时还体现出激光打孔快速、精准... 传统机械钻削难以满足高密度PCB微细孔的加工要求。试验表明,通过对激光波长模式、光斑直径和脉冲宽度等参数的精确控制,及利用激光束对材料相互作用的效应加工高密度PCB微孔,不仅能达到的较好加工质量,同时还体现出激光打孔快速、精准的优势。 展开更多
关键词 高密度PCB 应用激光 微细孔加工
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HDI工艺中取代涂树脂铜箔适合激光钻孔的半固化片 被引量:3
6
作者 高艳丽 朱斌 《印制电路信息》 2006年第1期27-29,共3页
应用于HDI的激光钻孔半固化片的方法和其它常规材料相比具有的优缺点。
关键词 HDI 激光钻孔 涂树脂铜箔 无纺布 微孔
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任意层互连印制板工艺发展路线 被引量:3
7
作者 陈永生 《印制电路信息》 2013年第4期16-20,共5页
印制板任意层互连化是电子产品"轻、薄、短、小"发展的内在要求。文章以传统的HDI工艺为基础,通过实践和论证对任意层互连高密度互连印制板的工艺进行了全面的可行性研究,为任意层互连工艺产业化提供必要的参考依据。
关键词 积层 高密度互连 微孔 电镀填孔 精细线路
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提高电镀填盲孔效果的研究
8
作者 朱凯 何为 +3 位作者 陈苑明 陶志华 陈世金 徐缓 《印制电路信息》 2013年第S1期150-155,共6页
随着电子产品的持续发展,HDI印制电路板的应用越来越广泛,本文通过正交实验优化电镀填孔工艺参数,并通过控制变量法研究了通孔孔径及位置对盲孔电镀填孔效果的影响,并以金相显微镜分析盲孔的凹陷度作为考察指标。研究结果表明采用优化... 随着电子产品的持续发展,HDI印制电路板的应用越来越广泛,本文通过正交实验优化电镀填孔工艺参数,并通过控制变量法研究了通孔孔径及位置对盲孔电镀填孔效果的影响,并以金相显微镜分析盲孔的凹陷度作为考察指标。研究结果表明采用优化参数能够降低盲孔填充凹陷度,通孔对盲孔的填孔电镀效果会产生影响,随着通孔孔径的增大,对盲孔的填孔电镀越有利,同时实验还发现,若在孔金属化后通孔孔壁与盲孔底部铜层电导通有利于盲孔的填孔。 展开更多
关键词 高密度互连技术 电镀填孔 通孔
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因材料和工艺而异的常规通孔技术
9
作者 张伯兴 吴梅珠 《印制电路信息》 2004年第9期33-39,42,共8页
在亚洲和欧洲HDI技术广泛应用于消费级电子产品,如便携式无线通讯设备、计算机、数码成像和芯片安装等。虽然在这方面,北美一直都比较落后,但是HDI仍将在北美市场备受瞩目。正因为这样,PCB制造商必须有能力制造精细线路和间距,同时有能... 在亚洲和欧洲HDI技术广泛应用于消费级电子产品,如便携式无线通讯设备、计算机、数码成像和芯片安装等。虽然在这方面,北美一直都比较落后,但是HDI仍将在北美市场备受瞩目。正因为这样,PCB制造商必须有能力制造精细线路和间距,同时有能力进行微孔成型和小孔电镀。 本文分两部分,将就与微孔相关的原料和成型工艺来探讨微孔的热可靠性和常见的通孔。互连可靠性将用多种方法来测试,包括标准热冲击测试、互连应力测试(IST^(TM))和以空气为介质的热循环。 展开更多
关键词 通孔 互连 HDI技术 热可靠性 精细线路 无线通讯 芯片 PCB制造商 北美市场 消费
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添加剂对印制线路板微盲孔填铜效果的影响 被引量:4
10
作者 唐明星 张胜涛 +6 位作者 陈世金 强玉杰 罗莉 何为 高箐遥 秦中建 郭茂桂 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2017年第13期667-673,共7页
在电流密度1.94 A/dm^2、温度25°C和空气搅拌的条件下,采用由220 g/L CuSO_4·5H_2O、0.54 mol/L H_2SO_4和4种添加剂组成的酸性镀铜液对PCB(印制线路板)微盲孔进行填充。所用添加剂包含Cl-、加速剂(聚二硫二丙烷磺酸钠,SPS)... 在电流密度1.94 A/dm^2、温度25°C和空气搅拌的条件下,采用由220 g/L CuSO_4·5H_2O、0.54 mol/L H_2SO_4和4种添加剂组成的酸性镀铜液对PCB(印制线路板)微盲孔进行填充。所用添加剂包含Cl-、加速剂(聚二硫二丙烷磺酸钠,SPS)、抑制剂(聚乙二醇-8000,PEG-8000)和整平剂(4,6-二甲基-2-巯基嘧啶,DMP)。通过电化学阻抗谱和阴极极化曲线分析了上述4种添加剂的用量对微盲孔填充效果的影响。结果表明:当Cl-为30~60 mg/L、SPS为0.5~1.0 mg/L,PEG-8000为100~300 mg/L、DMP为1~7 mg/L时,填孔效率最佳,所得镀层表面结构均匀、致密,耐浸锡热冲击和抗高低温循环的性能良好,满足PCB的可靠性要求。 展开更多
关键词 印制线路板 微盲孔 添加剂 填孔率 电化学 可靠性
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AOI技术在激光微孔产品检查中的应用
11
作者 高艳丽 毛少昊 《印制电路信息》 2006年第5期44-47,共4页
在过去几年里,小型PCB诸如硅芯片级以及便携式移动电话的生产者和设计者们已经发现:如果要保持自己的竞争力并具备生产高密度封装板能力,就必须采用微孔技术。微孔技术的出现要求针对微孔缺陷的有效检测手段对工艺进行过程控制。本文对... 在过去几年里,小型PCB诸如硅芯片级以及便携式移动电话的生产者和设计者们已经发现:如果要保持自己的竞争力并具备生产高密度封装板能力,就必须采用微孔技术。微孔技术的出现要求针对微孔缺陷的有效检测手段对工艺进行过程控制。本文对激光微孔的自动光学检测进行了详细介绍。 展开更多
关键词 高密度互连 激光微孔 缺陷侦测 自动光学检测
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高酸低铜酸性镀铜溶液中添加剂对微盲孔填充效果的影响 被引量:3
12
作者 姚龙杰 路旭斌 +1 位作者 任少军 王增林 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2013年第8期15-20,共6页
在电镀铜填充微盲孔的高酸、低铜酸性镀铜溶液中,以旋转圆盘电极为辅助,通过恒电流计时电位法对不同转速下,不同添加剂浓度的电镀铜溶液阴极电位及电位差的测定,研究了在高酸、低铜酸性镀铜溶液中通过电位差的大小来指导微盲孔填充的方... 在电镀铜填充微盲孔的高酸、低铜酸性镀铜溶液中,以旋转圆盘电极为辅助,通过恒电流计时电位法对不同转速下,不同添加剂浓度的电镀铜溶液阴极电位及电位差的测定,研究了在高酸、低铜酸性镀铜溶液中通过电位差的大小来指导微盲孔填充的方法,发现该方法在对于高深径比的微盲孔填充时存在一定的局限性。通过改善电镀参数实现了对d为100μm,深度为100μm的微盲孔的完全填充。 展开更多
关键词 旋转圆盘电极 微盲孔填充 添加剂 电镀参数 酸性镀铜
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快速开关CO_2激光钻孔技术
13
作者 欧锋 《印制电路信息》 2003年第8期51-54,61,共5页
我们必须为高密度导通孔的形成开发一些新颖的钻孔技术。这样一种新技术,即快速开关射频激励波导CO2激光器,可望凭借其高脉冲重复频率的性能提高导通孔钻孔能力。
关键词 CO2激光 钻孔技术 导通孔 TEA激光器 印制电路板
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印制电路板激光微孔研究 被引量:2
14
作者 颜庙青 朱海红 程祖海 《光学与光电技术》 2007年第3期37-40,共4页
激光微孔技术是当今印制电路板向高密度互连技术发展的关键,采用UVYAG、RF CO2和TEA CO2三种激光器在FR-4基板上作微打孔工艺研究,得到了激光波长、脉冲宽度、脉冲能量和光学系统构成等一系列参数对微孔孔径和质量的影响及规律。研究结... 激光微孔技术是当今印制电路板向高密度互连技术发展的关键,采用UVYAG、RF CO2和TEA CO2三种激光器在FR-4基板上作微打孔工艺研究,得到了激光波长、脉冲宽度、脉冲能量和光学系统构成等一系列参数对微孔孔径和质量的影响及规律。研究结果表明,波长短及脉宽窄的激光脉冲、合适的扩束装置及透镜焦距能有效地减小微孔孔径和提高孔的质量。此外,通过设计光学系统,还用自行研制的TEA CO2激光器成功打出了孔径在150μm以内的微孔。 展开更多
关键词 印刷电路板 激光微孔 工艺研究 机理
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碱性黄作为整平剂的微盲孔铜电镀填充 被引量:1
15
作者 祝汉品 王继杰 +1 位作者 刘春忠 祝清省 《沈阳航空航天大学学报》 2017年第1期57-64,共8页
使用一种新型添加剂—碱性黄(Basic Yellow,BY)作为整平剂进行微盲孔铜电镀填充。通过微孔填充组织观察以及旋转圆盘电极电化学测试,考察该整平剂的微孔填充性能,分析该整平剂与抑制剂、加速剂之间的协同和竞争吸附行为,揭示其在微孔填... 使用一种新型添加剂—碱性黄(Basic Yellow,BY)作为整平剂进行微盲孔铜电镀填充。通过微孔填充组织观察以及旋转圆盘电极电化学测试,考察该整平剂的微孔填充性能,分析该整平剂与抑制剂、加速剂之间的协同和竞争吸附行为,揭示其在微孔填充中的作用机理。结果表明:BY含量对微孔填充性能具有重要影响,当BY浓度大于5 ppm时,BY-EPE电镀液体系可以实现自底向上沉积方式,达到无孔洞化填充的效果;适量氯离子可协同BY在孔口处的抑制作用,有利于形成超等形沉积方式;当SPS含量低于1ppm时,有利于形成超等形沉积,随着SPS含量增加,沉积模式转变为等形模式。BY与抑制剂EPE可形成复合性抑制剂,该抑制剂对镀液对流条件具有更强的敏感性,有利于在孔壁进行选择性吸附,从而形成自底向上沉积模式;同时,氯离子可协同该整平剂在高对流条件下的抑制作用;SPS的吸附竞争力弱于BY,但强于BY-EPE复合体,因此,在EPEBY-SPS镀液体系中,过量的SPS添加可以减少BY-EPE抑制剂的吸附,不利于形成超等形沉积模式。 展开更多
关键词 碱性黄 整平剂 高密度电路板 铜电镀 微孔填充
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MPS和氯离子在电镀铜盲孔填充工艺中的作用机理 被引量:12
16
作者 李立清 安文娟 王义 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期122-129,共8页
目的揭示MPS(3-巯基-1-丙烷磺酸钠)和氯离子在电镀铜盲孔填充中的作用,并获得相应的机理模型。方法在既定的电镀铜基础液中添加MPS和氯离子,研究其对TP值(盲孔率)的影响,并用金相显微镜观察。通过测定阴极极化曲线和计时电流曲线,分析... 目的揭示MPS(3-巯基-1-丙烷磺酸钠)和氯离子在电镀铜盲孔填充中的作用,并获得相应的机理模型。方法在既定的电镀铜基础液中添加MPS和氯离子,研究其对TP值(盲孔率)的影响,并用金相显微镜观察。通过测定阴极极化曲线和计时电流曲线,分析其对反应过程中氧化还原性质的影响。结果在MPS单一体系中,MPS会与Cu^+形成-S--Cu^+络合物和-SO_3^--Cu^+络合物,且MPS质量浓度在6 mg/L时抑制作用达到最好,MPS加入到基础液后会使阴极电流密度正移、平衡电位负移,表明MPS此时起到了抑制铜离子沉积的作用。在MPS-氯离子复合体系中,MPS能够形成MPS-Cu^+-Cl-络合物,当MPS质量浓度为6mg/L、氯离子质量浓度为60 mg/L时,加速作用达到最大,由于氯离子的存在,MPS加入到基础液后会使阴极电流密度负移、平衡电位正移,表明MPS此时起到了加速铜离子沉积的作用。结论 MPS在没有氯离子时会形成-S--Cu^+和-SO_3^--Cu^+络合物而起到抑制作用,在有氯离子时会形成MPS-Cu^+-Cl-络合物而起到加速作用。同时提出了这些络合物都会以"单分子层"形式吸附于盲孔底部的理论模型,这能很好地解释实验过程。 展开更多
关键词 MPS 氯离子 电镀 盲孔 作用机理
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印制线路板微孔镀铜能力的研究 被引量:4
17
作者 刘璐 《印制电路信息》 2010年第S1期146-151,共6页
自20世纪40年代出现印电线路板,经过几十年的研究和生产实践,印制电路产业取得了巨大的发展。近年来,电子产品日趋"轻、薄、短、小",推动着印制线路板设计向着高密度、多功能、高速化的方向发展,缩小孔的设计尺寸成为达到高... 自20世纪40年代出现印电线路板,经过几十年的研究和生产实践,印制电路产业取得了巨大的发展。近年来,电子产品日趋"轻、薄、短、小",推动着印制线路板设计向着高密度、多功能、高速化的方向发展,缩小孔的设计尺寸成为达到高密度互联的有效手段,但同时也给生产制造带来了一定的难题,"高厚径比"成为湿法工艺面对的最大困难之一,如何在现有技术能力基础上,提升微孔孔化能力,成为湿法工艺研究的主要课题。 展开更多
关键词 微孔填通孔 直流电镀 脉冲电镀
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导电聚合物用于微盲孔直接电镀工艺的常见问题与对策 被引量:2
18
作者 刘彬云 肖亮 何雄斌 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2018年第8期350-355,共6页
将导电聚合物膜应用于印制电路板(PCB)制造的微盲孔金属化直接电镀工艺中。介绍了主要工艺流程,包括除胶渣、有机导电膜工艺和电镀铜。总结了实验和生产过程中的常见问题,并给出了相应的解决对策。
关键词 印制电路板 微盲孔 金属化 直接电镀铜 导电聚合物膜 除胶渣
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电镀铜导通孔填充工艺 被引量:14
19
作者 蔡积庆 《印制电路信息》 2006年第8期28-30,共3页
概述了MacDermid利用电镀铜微盲导通孔填充工艺,可以防止焊接时的孔隙,洞生成和组装时的释气(爆孔),显著的改善了微盲导通孔填充的可靠性。
关键词 微盲导通孔 电镀铜 导通孔填充 抑制剂及抑制剂
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不同电镀参数组合对电镀填孔效果影响研究 被引量:10
20
作者 崔正丹 谢添华 李志东 《印制电路信息》 2011年第4期80-84,共5页
电镀填孔存在填孔爆发期,即在填孔爆发期内盲孔底部和面铜的电沉积速率之比逐渐达到最大值,其中电流密度对填孔爆发期以及爆发前后盲孔内外铜层的电沉积速率变化有较大影响,若能了解其规律可帮助优化电镀参数,以期望缩短电镀填孔时间,... 电镀填孔存在填孔爆发期,即在填孔爆发期内盲孔底部和面铜的电沉积速率之比逐渐达到最大值,其中电流密度对填孔爆发期以及爆发前后盲孔内外铜层的电沉积速率变化有较大影响,若能了解其规律可帮助优化电镀参数,以期望缩短电镀填孔时间,获得较好填孔效果。在不同电流密度及盲孔孔径下,电镀填孔不同时期(初始期、爆发期、末期)持续时间以及填孔过程中盲孔底部、面铜电沉积速率的变化规律,并在不同填孔时间段内使用不同电镀参数进行电镀填孔。研究表明:在电镀填孔不同时期采用不同电镀参数组合,能缩短电镀填孔时间,获得较好盲孔填平效果。 展开更多
关键词 电镀填孔 盲孔 电流密度 爆发期
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