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从空间飞行器注入电离层的调制电子束产生的电磁波辐射
被引量:
4
1
作者
杨勇
赵正予
I.O.Anisimov
《地球物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第5期977-984,共8页
调制电子束入射进电离层等离子体中会激发电磁波辐射,根据不同试验条件和等离子体状态,激发电磁波的机制也不一样.本文主要讨论半无界稀薄调制电子束沿地球磁场力线从空间飞行器入射到电离层等离子体产生的电磁波辐射,其相应的辐射机理...
调制电子束入射进电离层等离子体中会激发电磁波辐射,根据不同试验条件和等离子体状态,激发电磁波的机制也不一样.本文主要讨论半无界稀薄调制电子束沿地球磁场力线从空间飞行器入射到电离层等离子体产生的电磁波辐射,其相应的辐射机理是由于束的纵向约束而产生的电磁波辐射.理论分析和数值计算结果显示,在满足切伦柯夫(Cerenkov)共振条件时,哨声波前向辐射方向图有一个尖锐的峰值,且随着电子束弛豫长度的增加,辐射功率值也相应增大,表明可以通过对电子束的适当调制增强电子束激发的电磁波辐射强度.
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关键词
电磁波辐射
各向异性等离子体
调制电子束
驻定相位法
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职称材料
从空间飞行器入射进电离层的调制电子束产生的高频波辐射
被引量:
3
2
作者
杨勇
赵正予
I.O.Anisimov
《空间科学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期86-91,共6页
在主动束-等离子体试验中,调制电子束从空间飞行器入射进电离层等离子体将会产生电磁波辐射, 在不同试验条件下电磁波辐射机理也不一样,由电子束纵向约束性产生电磁波辐射是其中之一,对半无界稀薄调制电子束从空间飞行器入射进电离层等...
在主动束-等离子体试验中,调制电子束从空间飞行器入射进电离层等离子体将会产生电磁波辐射, 在不同试验条件下电磁波辐射机理也不一样,由电子束纵向约束性产生电磁波辐射是其中之一,对半无界稀薄调制电子束从空间飞行器入射进电离层等离子体时所产生的波现象进行了理论分析和数值计算,结果表明, 当调制电子柬沿磁力线入射时,会在电离层等离子体中产生高频电磁波辐射,该辐射主要集中在垂直于入射电子束运动方向的平面内。
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关键词
调制电子束
空间等离子体
高频电磁波辐射
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职称材料
调制电子束弛豫长度对哨声波辐射的影响
3
作者
王艳
杨勇
赵正予
《空间科学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第4期292-297,共6页
在发射调制电子束的主动空间试验中,电子束与背景等离子体的线性和非线性相互作用将产生哨声波辐射.影响辐射特性的因素很多,调制电子束的弛豫长度是其中一个重要因素.本文研究了呈指数衰减的调制电子束弛豫长度对电子束产生的哨声波辐...
在发射调制电子束的主动空间试验中,电子束与背景等离子体的线性和非线性相互作用将产生哨声波辐射.影响辐射特性的因素很多,调制电子束的弛豫长度是其中一个重要因素.本文研究了呈指数衰减的调制电子束弛豫长度对电子束产生的哨声波辐射特性的影响.结果表明,当电子束弛豫长度与背景等离子体非均匀特征尺度相当时,有利于提高调制电子束产生的波辐射强度.
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关键词
调制电子束
弛豫长度
空间等离子体
渡越辐射
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职称材料
调制电子束在空间等离子体中激发的电磁波辐射
4
作者
杨勇
赵正予
Anisimov I.O.
《电波科学学报》
EI
CSCD
北大核心
2006年第3期305-309,共5页
当调制电子束入射进空间等离子体时,由于电子束本征电磁场在非均匀等离子体中的散射(渡越辐射transitionradiation)或者电子束的纵向约束性可以产生电磁波辐射。基于这两种辐射机制,研究了半无界调制电子束从航天器入射进平面分层各向...
当调制电子束入射进空间等离子体时,由于电子束本征电磁场在非均匀等离子体中的散射(渡越辐射transitionradiation)或者电子束的纵向约束性可以产生电磁波辐射。基于这两种辐射机制,研究了半无界调制电子束从航天器入射进平面分层各向同性非均匀空间等离子体产生的电磁波辐射。结果表明,由背景等离子体非均匀性产生的电磁波辐射强度高于由束的纵向约束性引起的辐射强度通过对电子束的适当调制,可以满足辐射电磁波在局部等离子体谐振区域的共振条件,从而增大辐射强度。研究结果可用于对主动空间等离子体试验数据的分析。
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关键词
调制电子束
空间等离子体
电磁波辐射
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
从空间飞行器注入电离层的调制电子束产生的电磁波辐射
被引量:
4
1
作者
杨勇
赵正予
I.O.Anisimov
机构
武汉大学电子信息学院
乌克兰基辅国立舍辅琴科大学无线电物理系
出处
《地球物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第5期977-984,共8页
基金
国家自然科学基金项目(40374059)资助.
文摘
调制电子束入射进电离层等离子体中会激发电磁波辐射,根据不同试验条件和等离子体状态,激发电磁波的机制也不一样.本文主要讨论半无界稀薄调制电子束沿地球磁场力线从空间飞行器入射到电离层等离子体产生的电磁波辐射,其相应的辐射机理是由于束的纵向约束而产生的电磁波辐射.理论分析和数值计算结果显示,在满足切伦柯夫(Cerenkov)共振条件时,哨声波前向辐射方向图有一个尖锐的峰值,且随着电子束弛豫长度的增加,辐射功率值也相应增大,表明可以通过对电子束的适当调制增强电子束激发的电磁波辐射强度.
关键词
电磁波辐射
各向异性等离子体
调制电子束
驻定相位法
Keywords
electromagnetic
wave excitation, Inhomogeneous
plasma
,
modulated electron beam
, Stationary phase method
分类号
P352 [天文地球—空间物理学]
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职称材料
题名
从空间飞行器入射进电离层的调制电子束产生的高频波辐射
被引量:
3
2
作者
杨勇
赵正予
I.O.Anisimov
机构
武汉大学电子信息学院
乌克兰基辅国立舍辅琴科大学无线电物理系
出处
《空间科学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期86-91,共6页
基金
国家自然科学基金项目资助(40374059)
文摘
在主动束-等离子体试验中,调制电子束从空间飞行器入射进电离层等离子体将会产生电磁波辐射, 在不同试验条件下电磁波辐射机理也不一样,由电子束纵向约束性产生电磁波辐射是其中之一,对半无界稀薄调制电子束从空间飞行器入射进电离层等离子体时所产生的波现象进行了理论分析和数值计算,结果表明, 当调制电子柬沿磁力线入射时,会在电离层等离子体中产生高频电磁波辐射,该辐射主要集中在垂直于入射电子束运动方向的平面内。
关键词
调制电子束
空间等离子体
高频电磁波辐射
Keywords
modulated electron beam
,
space plasma
s, High-frequency
electromagnetic
wave excitation
分类号
V419 [航空宇航科学与技术—航空宇航推进理论与工程]
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职称材料
题名
调制电子束弛豫长度对哨声波辐射的影响
3
作者
王艳
杨勇
赵正予
机构
武汉大学电子信息学院
出处
《空间科学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第4期292-297,共6页
基金
国家自然科学基金(40374059)
文摘
在发射调制电子束的主动空间试验中,电子束与背景等离子体的线性和非线性相互作用将产生哨声波辐射.影响辐射特性的因素很多,调制电子束的弛豫长度是其中一个重要因素.本文研究了呈指数衰减的调制电子束弛豫长度对电子束产生的哨声波辐射特性的影响.结果表明,当电子束弛豫长度与背景等离子体非均匀特征尺度相当时,有利于提高调制电子束产生的波辐射强度.
关键词
调制电子束
弛豫长度
空间等离子体
渡越辐射
Keywords
modulated electron beam
, Relaxation characteristic length,
space plasma
s, Transition
radiation
分类号
P353 [天文地球—空间物理学]
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职称材料
题名
调制电子束在空间等离子体中激发的电磁波辐射
4
作者
杨勇
赵正予
Anisimov I.O.
机构
武汉大学电子信息学院
乌克兰基辅国立舍辅琴科大学无线电物理系
出处
《电波科学学报》
EI
CSCD
北大核心
2006年第3期305-309,共5页
基金
国家留学基金管理委员会资助(留金出[2003]3044)
文摘
当调制电子束入射进空间等离子体时,由于电子束本征电磁场在非均匀等离子体中的散射(渡越辐射transitionradiation)或者电子束的纵向约束性可以产生电磁波辐射。基于这两种辐射机制,研究了半无界调制电子束从航天器入射进平面分层各向同性非均匀空间等离子体产生的电磁波辐射。结果表明,由背景等离子体非均匀性产生的电磁波辐射强度高于由束的纵向约束性引起的辐射强度通过对电子束的适当调制,可以满足辐射电磁波在局部等离子体谐振区域的共振条件,从而增大辐射强度。研究结果可用于对主动空间等离子体试验数据的分析。
关键词
调制电子束
空间等离子体
电磁波辐射
Keywords
modulated electron beam
,
space plasma
,
electromagnetic radiation
分类号
P352 [天文地球—空间物理学]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as
electron
beam
lithography[3],ion
beam
lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter
space
s.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two
beam
s by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective
electron
oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense
electromagnetic
fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,
plasma
waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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1
从空间飞行器注入电离层的调制电子束产生的电磁波辐射
杨勇
赵正予
I.O.Anisimov
《地球物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
4
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职称材料
2
从空间飞行器入射进电离层的调制电子束产生的高频波辐射
杨勇
赵正予
I.O.Anisimov
《空间科学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006
3
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职称材料
3
调制电子束弛豫长度对哨声波辐射的影响
王艳
杨勇
赵正予
《空间科学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007
0
下载PDF
职称材料
4
调制电子束在空间等离子体中激发的电磁波辐射
杨勇
赵正予
Anisimov I.O.
《电波科学学报》
EI
CSCD
北大核心
2006
0
下载PDF
职称材料
5
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
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职称材料
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