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Suppression of oxygen and carbon impurity deposition in the thermal system of Czochralski monocrystalline silicon 被引量:1
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作者 Jing Zhang Ding Liu Yani Pan 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2020年第10期75-81,共7页
When preparing large monocrystalline silicon materials,severe carbon etching and silicide deposition often occur to the thermal system.Therefore,a suppression method that optimizes the upper insulation structure has b... When preparing large monocrystalline silicon materials,severe carbon etching and silicide deposition often occur to the thermal system.Therefore,a suppression method that optimizes the upper insulation structure has been proposed.Assisted by the finite element method,we calculated temperature distribution and carbon deposition of heater and heat shield,made the rule of silicide and temperature distributing in the system,and we explained the formation of impurity deposition.Our results show that the optimized thermal system reduces carbon etching loss on heat components.The lowered pressure of the furnace brings a rapid decrease of silicide deposition.The increase of the argon flow rate effectively inhibits CO and back diffusion.The simulated results agree well with the experiment observations,validating the effectiveness of the proposed method. 展开更多
关键词 monocrystalline silicon CARBON silicide deposition thermal system
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Single-Seed Casting Large-Size Monocrystalline Silicon for High-Efflciency and Low-Cost Solar Cells 被引量:1
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作者 Bing Gao Satoshi Nakano +3 位作者 Hirofumi Harada Yoshiji Miyamura Takashi Sekiguchi Koichi Kakimoto 《Engineering》 SCIE EI 2015年第3期378-383,共6页
To grow high-quality and large-size monocrystalline silicon at low cost, we proposed a single-seed casting technique. To realize this technique, two challenges—polycrystalline nucleation on the crucible wall and disl... To grow high-quality and large-size monocrystalline silicon at low cost, we proposed a single-seed casting technique. To realize this technique, two challenges—polycrystalline nucleation on the crucible wall and dislocation multiplication inside the crystal—needed to be addressed. Numerical analysis was used to develop solutions for these challenges. Based on an optimized furnace structure and operating conditions from numerical analysis, experiments were performed to grow monocrystalline silicon using the single-seed casting technique. The results revealed that this technique is highly superior to the popular high-performance multicrystalline and multiseed casting mono-like techniques. 展开更多
关键词 single-seed casting monocrystalline silicon polycrystalline nucleation dislocation multiplication multicrystalline silicon
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THE GROWTH OF MONOCRYSTALLINE SILICON THIN FILM ON INSULATOR (SOI) BY SCANNING ELECTRON BEAM
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作者 Lin Shichang Zhang Yansheng(institute of E/ectronics, Academia Sinica, Beijing 100080) Zhang Guobing Wang Yangyuan(Peking University, Beijing 100871) 《Journal of Electronics(China)》 1996年第2期170-177,共8页
An experiment for preparation of SOI films by using the scanning electron beam to modify the polycrystalline silicon on SiO2 is presented. This method takes on the epitaxial lateral growth of liquid phase with the cry... An experiment for preparation of SOI films by using the scanning electron beam to modify the polycrystalline silicon on SiO2 is presented. This method takes on the epitaxial lateral growth of liquid phase with the crystallon to form monocrystalline silicon films. The effects of the beam power density, scanning velocity, temperature of the substrates and the construction of samples on the quality of the monocrystalline silicon films were discussed. A good experimental result has been obtained, the monocrystalline silicon zone is nearly 200×25μm2. 展开更多
关键词 monocrystalline silicon film SOI technology Material MODIFICATION SCANNING ELECTRON BEAM
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Soil Pressure Mini-sensor Made of Monocrystalline Silicon and the Measurement of Its Sensitivity Coefficient
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作者 俞晓 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2005年第4期135-137,共3页
A calibration test was done in order to measure its sensitivity coefficient by an improved soil test device.The experimental result shows that the soil pressure min-sensor made of the monocrystalline silicon(SPMMS)i... A calibration test was done in order to measure its sensitivity coefficient by an improved soil test device.The experimental result shows that the soil pressure min-sensor made of the monocrystalline silicon(SPMMS)is proved to be good linear,high precision and less that can fetch precise data in low pressure range even near by O point,which guarantees the reliability of the soil pressure test in geotechnical engineering. 展开更多
关键词 soil pressure mini-sensor monocrystalline silicon sensitivity coefficient
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Study of Thermal Radiation Properties of Pyrolytic Carbon Protective Coatings for Monocrystalline Silicon Furnace
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作者 Wei-Wei Cao Bo Zhu +3 位作者 Wei Zhao Yong-Wei Wang Yang Chen Xi-Hai Wang 《Journal of Harbin Institute of Technology(New Series)》 EI CAS 2013年第4期36-40,共5页
The thermal radiation properties of pyrolytic carbon(PyC)protective coatings for monocrystalline silicon furnace prepared by different processes were tested.The changes of normal emissivity of carbon materials caused ... The thermal radiation properties of pyrolytic carbon(PyC)protective coatings for monocrystalline silicon furnace prepared by different processes were tested.The changes of normal emissivity of carbon materials caused by PyC protective coatings were discussed,and the influence of phase structure and surface appearance on the thermal radiation properties was investigated.The results show that the thermal radiation properties of PyC protective coatings with the wave band of 5-25μm are better than C/C substrate,further,normal spectral emissivity of CVD PyC coating remains basically at 0.85-0.90,and the normal total emissivity can reach0.89,which shows high thermal radiation performance.For resin PyC coating and CVD PyC coating,the degree of graphitization are 44.53%and 16.28%respectively,and the R value of Raman spectrum are 0.964and 1.384 respectively.Relatively disorder graphite structure of the latter causes various vibration modes,and the spectral emissivity is better,so the thermal radiation property of CVD PyC coating is excellent.A lot of spherical particles exists on the surface of the CVD PyC coating,and the more interface and spacing of particles reduce the number of particles per unit volume.Therefore,the scattering of thermal radiation is strongly strengthened,and the spectral emissivity is higher. 展开更多
关键词 monocrystalline silicon furnace PyC protective coating Normal spectral emissivity Normal total emissivity Graphite structure
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Molecular Dynamics of Nanometric Processing of Ion Implanted Monocrystalline Silicon Surfaces
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作者 陈耘辉 房丰洲 +1 位作者 张效栋 胡小唐 《Transactions of Tianjin University》 EI CAS 2014年第3期203-209,共7页
Three-dimensional molecular dynamics simulations are carried out to study the mechanism of nanometric processing of ion implanted monocrystalline silicon surfaces. Lattice transformation is observed during implantatio... Three-dimensional molecular dynamics simulations are carried out to study the mechanism of nanometric processing of ion implanted monocrystalline silicon surfaces. Lattice transformation is observed during implantation and nano-indentation using radial distribution function and geometric criterion damage detection. Nano-indentation is simulated to study the changes of mechanical property. Implantation analysis shows the existence of amorphous phase. Indentation process shows the lattice evolution, which is beneficial for reducing fractures during processing. The indentation results reveal the reduction of brittleness and hardness of the implanted surface. The ion fluence is in direct proportion to the damage, and inverse to the hardness of the material. Experiments of ion implar, tation, nanoindentation, nano-scratching and nanometric cutting were carried out to verify the simulation results. 展开更多
关键词 molecular dynamics ion implantation monocrystalline silicon nanometric cutting
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Novel method for detection of anomalous structure characteristics of ID precision ultrathin monocrystalline silicon section cutting tool
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作者 陈宗农 郭明 +1 位作者 王庆九 余学功 《Journal of Zhejiang University Science》 CSCD 2002年第3期263-267,共5页
The structure characteristics of ID precision ultrathin monocrystalline silicon section cutting machine tool spindle with force monitoring bearings functioning as force measuring sensors were detected with the new H... The structure characteristics of ID precision ultrathin monocrystalline silicon section cutting machine tool spindle with force monitoring bearings functioning as force measuring sensors were detected with the new Hilbert theory based signal wave envelope detection method, presented to replace the conventional hardware device in order to ensure that the signal is measured online with high fidelity. According to the probability of anomalous incidents in the cutting process, a mathematical recognition model has been designed and verified on an STC 22ID machine. 展开更多
关键词 Machine tool spindle BEARING monocrystalline silicon section Signal analysis
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Modeling and Simulation of Heterojunction Solar Cell with Mono Crystalline Silicon
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作者 Sajid Ullah Ayesha Gulnaz Guangwei Wang 《Journal of Applied Mathematics and Physics》 2024年第3期997-1020,共24页
The monocrystalline silicon is a promising material that could be used in solar cells that convert light into electricity. Although the cost of ordinary silicon (Si) solar cells has decreased significantly over the pa... The monocrystalline silicon is a promising material that could be used in solar cells that convert light into electricity. Although the cost of ordinary silicon (Si) solar cells has decreased significantly over the past two decades, the conversion efficiency of these cells has remained relatively high. While solar cells have a great potential as a device of renewable energy, the high cost they incur per Watt continues to be a significant barrier to their widespread implementation. As a consequence, it is vital to conduct research into alternate materials that may be used in the construction of solar cells. The heterojunction solar cell (HJSC), which is based on n-type zinc oxide (n-ZnO) and p-type silicon (p-Si), is one of the numerous alternatives of the typical Si single homojunction solar cell. There are many deficiencies that can be found in the published research on n-ZnO/p-Si heterojunction solar cell. Inconsistencies in the stated value of open circuit voltage (V<sub>oc</sub>) of the solar cell are one example of deficiency. The absence of a full theoretical study to evaluate the potential of the solar cell structure is another deficiency that can be found in these researches. A lower value of experimentally obtained V<sub>OC</sub> in comparison to the theoretical prediction based on the band-gap between n-ZnO and p-Si. There needs to be more consensus among scientists regarding the optimal conditions for the growth of zinc oxide. Many software’s are available for simulating and optimizing the solar cells based on these parameters. For this purpose, in this dissertation, I provide computational results relevant to n-ZnO/p-Si HJSC to overcome deficiencies that have been identified. While modeling and simulating the potential of the solar cell structure with AFORS-HET, it is essential to consider the constraints that exist in the real world. AFORS-HET was explicitly designed to mimic the multilayer solar cell arrangement. In AFORS-HET, we can add up to seven layers for solar cell layout. By using this software, we can figure out the open circuit voltage (V<sub>OC</sub>), the short circuit current (J<sub>SC</sub>), the quantum efficiency (QE, %), the heterojunction energy band structure, and the power conversion efficiency (PCE). 展开更多
关键词 Heterojunction Solar Cell silicon monocrystalline DEFICIENCIES AFORS-HET OPTIMIZATION Open Circuit Voltage Quantum Efficiency
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直拉法单晶硅生长原理、工艺及展望
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作者 王正省 任永生 +5 位作者 马文会 吕国强 曾毅 詹曙 陈辉 王哲 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期1-13,共13页
碳达峰、碳中和理念提出后,太阳能作为一种可再生绿色能源备受关注。单晶硅作为主要的光伏材料,其质量决定着太阳能电池效率的高低,为了降低成本和提高产能,人们对单晶硅提出越来越高的要求。直拉法(CZ法)是单晶硅的主要制备方法,其生... 碳达峰、碳中和理念提出后,太阳能作为一种可再生绿色能源备受关注。单晶硅作为主要的光伏材料,其质量决定着太阳能电池效率的高低,为了降低成本和提高产能,人们对单晶硅提出越来越高的要求。直拉法(CZ法)是单晶硅的主要制备方法,其生产效率高,可实现自动化,直拉单晶硅市场占比超过90%,目前正朝着大尺寸、N型、薄片化、低氧低碳的方向发展。然而随着晶棒尺寸增大,热场变化更加复杂,现有CZ工艺难以满足市场需求。未来降低度电成本仍是晶硅光伏发展的驱动力,应通过技术革新、产业标准化、成本控制等手段推动光伏产业发展。本文介绍了CZ法生长单晶硅的基本原理和生长工艺,分别对缺陷控制、热场优化、氧含量控制等进行了分析,在总结工艺现状和单晶生长特点的基础上对直拉法生长单晶硅的发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 直拉法 单晶硅 大尺寸 薄片化 热场 太阳能
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不同金属镀层单晶硅靶板的冲击受力特性
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作者 代锋琪 刘双杰 +1 位作者 郝永平 刘凤丽 《探测与控制学报》 CSCD 北大核心 2024年第1期114-120,共7页
为了探究金属镀层对单晶硅靶板抗冲击性能的影响,建立了金属/单晶硅复合靶板理论分析模型,分析讨论了单晶硅靶板表面的最大应力与镀层材料动态屈服应力的关系,应用有限元法在LS-DYNA软件中对金属/单晶硅复合靶板进行瞬态动力学计算,得... 为了探究金属镀层对单晶硅靶板抗冲击性能的影响,建立了金属/单晶硅复合靶板理论分析模型,分析讨论了单晶硅靶板表面的最大应力与镀层材料动态屈服应力的关系,应用有限元法在LS-DYNA软件中对金属/单晶硅复合靶板进行瞬态动力学计算,得到了不同金属镀层单晶硅靶板冲击受力后的力学响应。根据实验结果总结得到金属镀层对单晶硅靶板冲击受力具有一定的抗冲击效果,能够延迟和减弱出现在靶板正、背面的应力峰值,减小在靶板上产生的应力。 展开更多
关键词 单晶硅 复合靶板 理论分析模型 动态屈服应力 动力学
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光伏单晶硅切割片断裂强度的仿真分析与实验研究
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作者 谭慧莹 邢旭 +1 位作者 葛培琪 毕文波 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第8期1369-1377,共9页
单晶硅被广泛应用于光伏行业,随着切片加工厚度的逐步减小和锯丝的细径化,切片过程中存在的黏附等现象导致单晶硅切割片发生弯曲甚至断裂,进而引起破片率的提高,对光伏太阳能电池的成本造成较大影响。本工作针对光伏单晶硅片切割加工过... 单晶硅被广泛应用于光伏行业,随着切片加工厚度的逐步减小和锯丝的细径化,切片过程中存在的黏附等现象导致单晶硅切割片发生弯曲甚至断裂,进而引起破片率的提高,对光伏太阳能电池的成本造成较大影响。本工作针对光伏单晶硅片切割加工过程,采用三轴弯曲实验,测量并分析硅片的断裂强度及相应的破片率,利用有限元方法建立硅切割片断裂强度的三维仿真分析模型。研究结果表明:硅切割片断裂强度分散性大,平均断裂强度为97.7 MPa;硅切割片的弯曲刚度随着厚度减小而降低,平均弯曲刚度为441.2 N/m,当厚度规格为60μm时,弯曲刚度最低,达103.5 N/m;硅切割片的破片率范围随着厚度的减小而增大,60μm厚度的切割片破片率范围最大,为0.6%~99.9%。仿真与实验结果基本一致,表明仿真模型及方法适用于光伏单晶硅切割片的断裂强度和破片率的模拟分析。 展开更多
关键词 光伏单晶硅 切割加工 断裂强度 有限元分析 厚度 破片率
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单晶硅磨抛协同加工的分子动力学
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作者 郭磊 郭鹏举 +3 位作者 刘天罡 郭万金 吕景祥 靳淇超 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期199-210,共12页
磨削与抛光是实现单晶硅材料超精密表面加工的重要工艺方法,磨抛协同加工过程中由磨粒运动状态主导的二体与三体磨损机制对材料去除效率以及表面加工质量具有重要影响。采用分子动力学方法,建立固结与游离运动状态双磨粒协同作用下的单... 磨削与抛光是实现单晶硅材料超精密表面加工的重要工艺方法,磨抛协同加工过程中由磨粒运动状态主导的二体与三体磨损机制对材料去除效率以及表面加工质量具有重要影响。采用分子动力学方法,建立固结与游离运动状态双磨粒协同作用下的单晶硅表面超精密磨抛加工过程仿真模型,分析磨粒切入深度、横向与纵向间距干涉等因素对磨削力、材料相变、表面损伤及材料去除行为的影响规律,阐释单晶硅磨抛协同超精密加工表面形貌演化规律。研究表明:受磨粒运动状态驱动的单晶硅材料表层损伤原子数量随固结及游离磨粒切入深度增大而增加,磨粒切入深度对工件的材料去除、裂纹生长及损伤行为影响显著;法向和切向磨削力随磨粒切入深度增加而增大,且在同等切入深度变化时法向磨削力增加幅度大于切向磨削力;通过单晶硅金刚石结构分析磨粒间干涉区域的损伤情况可知,随着磨粒间纵向间距增加时,工件所受干涉作用减小,六角金刚石晶体结构减少;相比较固结磨粒,游离磨粒对工件的损伤区域更深,产生瞬态缺陷原子更多。研究结果可为实现超精密磨抛协同加工工艺高材料去除效率和高表面质量提供理论基础。 展开更多
关键词 单晶硅 分子动力学 固结磨粒 游离磨粒 磨抛协同加工
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臭氧催化氧化在单晶硅切削液废水处理的工程应用
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作者 王学良 杨永奎 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2024年第3期195-198,共4页
单晶硅切削液废水具有COD高、可生化性差等特点。针对某单晶硅生产企业废水,目前拟采取将其在企业内经过气浮、生化、曝气生物滤池等工艺处理至达到接管标准后,与其他污水混合进入污水处理厂进行生化处理的措施,这存在着对下游污水处理... 单晶硅切削液废水具有COD高、可生化性差等特点。针对某单晶硅生产企业废水,目前拟采取将其在企业内经过气浮、生化、曝气生物滤池等工艺处理至达到接管标准后,与其他污水混合进入污水处理厂进行生化处理的措施,这存在着对下游污水处理厂水质冲击问题,影响其稳定运行。对此,在污水处理厂生化工艺段前增设臭氧催化氧化处理工艺段对废水进行预处理,以提升生化段进水水质。根据企业外排废水出水COD设置不同的臭氧投加量,连续运行15 d,分析了臭氧消耗量、出水COD和下游污水处理厂出水COD,结果表明,随着单位质量COD的臭氧投加量(臭氧投加比)的提高,出水COD显著降低,但过高的臭氧投加量会造成臭氧尾气破坏装置高负荷运行及高能耗。实验条件下,当臭氧投加比在0.98~1.39 mg/mg内变动,平均1.20 mg/mg时,臭氧工艺段出水COD平均为83 mg/L,下游污水处理厂最终出水COD平均为17 mg/L,实现了出水稳定达标。 展开更多
关键词 单晶硅切削液 臭氧催化氧化 臭氧投加比
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热屏结构对300 mm半导体级单晶硅生长过程温度分布影响的数值模拟
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作者 倪浩然 陈亚 +7 位作者 王黎光 芮阳 赵泽慧 马成 刘洁 张兴茂 赵延祥 杨少林 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第7期1196-1211,共16页
半导体级单晶硅是芯片的基础核心材料,不仅要求控制杂质浓度,还对晶体的缺陷有很高的要求。原生点缺陷浓度作为衡量晶体品质的重要指标之一,需要通过热场的优化、晶体生长温度场的调整、晶体生长过程中晶棒温度分布的控制,以及V/G值(拉... 半导体级单晶硅是芯片的基础核心材料,不仅要求控制杂质浓度,还对晶体的缺陷有很高的要求。原生点缺陷浓度作为衡量晶体品质的重要指标之一,需要通过热场的优化、晶体生长温度场的调整、晶体生长过程中晶棒温度分布的控制,以及V/G值(拉速与晶棒内轴向温度梯度比值)的优化来调控。本文采用ANSYS软件中流体计算模块Fluent的有限体积分析法,研究了不同热屏结构对300 mm半导体级直拉单晶硅温度分布的影响。针对二段式热屏,模拟了不同热屏角度下拉晶初期(400 mm)、中期(800和1400 mm)和末期(2000 mm)三个等径阶段的温度分布、固液界面轴向温度梯度和V/G值。通过分析各阶段V/G值的变化,在相对较大的温度梯度下,寻找到了一种V/G值更接近临界值ζ且径向均一性更优的热屏结构,为控制缺陷的浓度提供更好的条件。通过对晶棒热历史的讨论,优化热屏结构以缩短降温周期,为控制缺陷的尺寸提供更好的条件。模拟计算结果表明,热屏夹角为110°、热屏下段厚度为70 mm、热屏内壁与晶棒间距为30 mm时,其结构设计能够提供低缺陷单晶硅生产的温度分布条件。 展开更多
关键词 半导体级单晶硅 有限体积分析 热屏结构 温度场 流场 V/G值 缺陷
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单晶硅片循环包装设计与可靠性分析
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作者 李志强 王杰 +2 位作者 赵怡怡 王哲 刘迪 《包装工程》 CAS 北大核心 2024年第5期286-291,共6页
目的以某公司M10型单晶硅片为研究对象,基于缓冲包装六步法及4R1D原则设计安全经济的单晶硅片循环包装方案。方法使用Creo软件建立3D模型,利用ANSYSLS-DYNA进行堆码跌落仿真,结合跌落试验结果验证包装的可靠性。结果动态跌落仿真在角跌... 目的以某公司M10型单晶硅片为研究对象,基于缓冲包装六步法及4R1D原则设计安全经济的单晶硅片循环包装方案。方法使用Creo软件建立3D模型,利用ANSYSLS-DYNA进行堆码跌落仿真,结合跌落试验结果验证包装的可靠性。结果动态跌落仿真在角跌落工况下,跌落角产生最大应力为34.42 MPa,小于包装箱许用应力40 MPa;产品最大响应加速度为38.71g,发生在棱跌落工况,小于产品脆值50g。试验与仿真平均误差为8.30%,在450 mm跌落高度下。使用此循环包装方案,产品整体破损率降低了8.02%。结论此循环包装的安全性、便利性和经济性优于现有一次性包装的。 展开更多
关键词 单晶硅片 循环包装 跌落仿真 可靠性分析
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单晶硅片的电化学-固结-游离磨料复合加工表面完整性
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作者 黄宸 黄丹丹 +2 位作者 王剑 孙业荣 鲍官培 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期549-554,560,共7页
为解决金刚线固结磨料切割硅片中表面线痕较深等问题,提出了电化学-固结-游离磨料复合加工技术。通过实验对比固结磨料线锯切割和复合切割后硅片的表面形貌、表面平均粗糙度(Ra)和表面平整度(即总厚度变化(TTV)),评估复合加工对单晶硅... 为解决金刚线固结磨料切割硅片中表面线痕较深等问题,提出了电化学-固结-游离磨料复合加工技术。通过实验对比固结磨料线锯切割和复合切割后硅片的表面形貌、表面平均粗糙度(Ra)和表面平整度(即总厚度变化(TTV)),评估复合加工对单晶硅片切割质量的影响。实验结果表明,复合加工技术的固结磨料刻滑-游离磨料剥落-电化学氧化材料去除复合机制使硅片表面的线痕明显减少。Ra和TTV也得到了明显改善,表面粗糙度曲线峰谷差从12.09μm降至4.21μm,Ra从1.20μm降至0.65μm,TTV从8.24μm降至6.46μm。基于本实验系统进一步开展电参数对比实验得出复合加工的最优电压为20 V。该复合加工方法能够有效改善切割硅片的表面质量,降低后续制绒工序的减薄量,进而降低生产成本。 展开更多
关键词 单晶硅 电化学反应 固结磨料 游离磨料 复合加工 表面质量
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基于倒金字塔结构的自供电Si/PEDOT:PSS异质结光电探测器
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作者 陈佳年 沈鸿烈 +3 位作者 李玉芳 张静喆 李贺超 张文浩 《南京航空航天大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期188-196,共9页
随着光电器件的进一步发展,陷光结构得到广泛关注,但是倒金字塔结构、尺寸与其陷光性能之间的关系有待深入研究。本文采用铜银共辅助腐蚀法制备倒金字塔结构并实现倒金字塔结构的尺寸在1μm以下调控,研究发现平均尺寸为1μm倒金字塔结... 随着光电器件的进一步发展,陷光结构得到广泛关注,但是倒金字塔结构、尺寸与其陷光性能之间的关系有待深入研究。本文采用铜银共辅助腐蚀法制备倒金字塔结构并实现倒金字塔结构的尺寸在1μm以下调控,研究发现平均尺寸为1μm倒金字塔结构具有最优异的陷光性能。将具有优异陷光性能的倒金字塔结构硅衬底应用于Si/PEDOT:PSS异质结光电探测器,该光电探测器在外加0 V偏压条件下对980 nm波长的光具有61mA/W的响应度和9.20×10^(12)Jones的比探测率,实现了卓越的光电响应性能。本文为高性能Si/PEDOT:PSS异质结光电探测器的制备提供了一种新思路,证明了倒金字塔结构具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 单晶硅 金属辅助化学腐蚀法 倒金字塔结构 自供电 异质结光电探测器
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基于GRA微细铣削单晶硅工艺参数优化及试验研究
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作者 朱译文 曹自洋 +1 位作者 徐文杰 杨凯 《机床与液压》 北大核心 2024年第14期59-64,共6页
为满足实际应用中对单晶硅微槽底部的表面粗糙度、上口尺寸精度以及材料去除率的需求,选择微细铣削的加工方法,并利用灰色关联度分析法对以上3种评价指标进行参数优化。通过设计正交试验获得评价指标的预测值,并分析了各个指标与工艺参... 为满足实际应用中对单晶硅微槽底部的表面粗糙度、上口尺寸精度以及材料去除率的需求,选择微细铣削的加工方法,并利用灰色关联度分析法对以上3种评价指标进行参数优化。通过设计正交试验获得评价指标的预测值,并分析了各个指标与工艺参数之间的关系;运用灰色关联法计算试验序列中各评价指标的灰色关联系数,并对各个试验序列的灰色关联度进行了排序,从而得到了最佳的工艺参数组合,并通过多次试验来验证其可行性,加工出了表面粗糙度为71.2 nm的微槽,提高其加工质量与加工精度。 展开更多
关键词 微细铣削 单晶硅 灰色关联度分析 参数优化
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太阳能电池单晶硅表面光学性能模拟研究
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作者 饶森林 张孜菁 《新余学院学报》 2024年第2期7-11,共5页
采用有限元分析软件对腐蚀前后太阳能电池单晶硅表面结构进行光学行为模拟分析,得到了单晶硅硅片腐蚀前后的表面电场、表面磁场、功率流和反射率的变化规律。研究表明,与腐蚀前相比,腐蚀后的单晶硅表面电场、磁场和功率流较大,当波长为7... 采用有限元分析软件对腐蚀前后太阳能电池单晶硅表面结构进行光学行为模拟分析,得到了单晶硅硅片腐蚀前后的表面电场、表面磁场、功率流和反射率的变化规律。研究表明,与腐蚀前相比,腐蚀后的单晶硅表面电场、磁场和功率流较大,当波长为700 nm时,腐蚀后单晶硅表面电场和磁场大约为腐蚀前的3倍和6倍;腐蚀后单晶硅表面功率流x分量分布均匀;反射率较低,具有较好的光学特性。 展开更多
关键词 单晶硅 腐蚀 反射率 模拟
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拉晶工艺参数对N型单晶硅氧含量的影响研究
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作者 柴晨 张军 +2 位作者 王玉龙 韩庆辉 李怀铭 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第5期792-802,共11页
TOPCon电池基板是以N型硅片为主,N型硅片的氧含量在一定程度上影响着TOPCon电池的转换效率。本文采用直拉法进行单晶硅的拉制,通过调整埚转、氩气流量和炉压来研究拉晶工艺参数对N型单晶硅氧含量的影响。数值模拟分析和实验结果表明:坩... TOPCon电池基板是以N型硅片为主,N型硅片的氧含量在一定程度上影响着TOPCon电池的转换效率。本文采用直拉法进行单晶硅的拉制,通过调整埚转、氩气流量和炉压来研究拉晶工艺参数对N型单晶硅氧含量的影响。数值模拟分析和实验结果表明:坩埚转速的增加会抑制浮力-热毛细漩涡,减少熔体界面处SiO的挥发,提高硅熔体内部和单晶硅棒氧含量;增大氩气流量和降低炉压可增大熔体界面处SiO的质量流量,有效促进SiO挥发,减少固液界面处氧含量,从而降低单晶硅棒氧含量。根据单晶硅氧含量测试和EL检测结果可知,坩埚转速5 r/min、氩气流量100 L/min和炉压1 200 Pa时拉制的N型单晶硅氧含量最低,电池端同心圆比例也是最低的。本文研究结果可为N型单晶硅棒降氧提供一定思路。 展开更多
关键词 N型单晶硅 降氧 坩埚转速 氩气流量 炉压 同心圆
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