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多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究 被引量：4
1
作者 王凤平 崔明启 +1 位作者 王佩璇 方正知 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第7期774-778,共5页
对磁控溅射方法制备的Ｗ／Ｓｉ周期多层膜在Ｘ射线衍时仪上进行了低角Ｘ射线衍射实验，并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，在对实验谱线的拟合过程中，考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度... 对磁控溅射方法制备的Ｗ／Ｓｉ周期多层膜在Ｘ射线衍时仪上进行了低角Ｘ射线衍射实验，并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，在对实验谱线的拟合过程中，考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响，并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度． 展开更多
关键词 多层膜 磁控溅射 低角X射线衍射 粗糙度
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