期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究
被引量:
4
1
作者
王凤平
崔明启
+1 位作者
王佩璇
方正知
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第7期774-778,共5页
对磁控溅射方法制备的W/Si周期多层膜在X射线衍时仪上进行了低角X射线衍射实验,并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度,在对实验谱线的拟合过程中,考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度...
对磁控溅射方法制备的W/Si周期多层膜在X射线衍时仪上进行了低角X射线衍射实验,并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度,在对实验谱线的拟合过程中,考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响,并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度.
展开更多
关键词
多层膜
磁控溅射
低角X射线衍射
粗糙度
下载PDF
职称材料
题名
多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究
被引量:
4
1
作者
王凤平
崔明启
王佩璇
方正知
机构
北京科技大学
出处
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第7期774-778,共5页
文摘
对磁控溅射方法制备的W/Si周期多层膜在X射线衍时仪上进行了低角X射线衍射实验,并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度,在对实验谱线的拟合过程中,考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响,并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度.
关键词
多层膜
磁控溅射
低角X射线衍射
粗糙度
Keywords
multilayer
,
low-angle x-ray diffraction
,
interface roughness
,
magnetron sputtering
分类号
O722.5 [理学—晶体学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究
王凤平
崔明启
王佩璇
方正知
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
4
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部