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光电子材料InP玷污的研究
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作者 徐建成 丁小平 陈定钦 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期550-551,共2页
文章给出了光电子材料InP的 ( 10 0 )和 ( 111)晶面质谱分析的结果 ,对 ( 10 0 )晶面做了光荧光分析。在 30 0和 77K温度下测量了 ( 10 0 )晶面的电子浓度及电子迁移率。
关键词 光电子材料 INP 质谱分析 光荧光 电子浓度 电子迁移率 磷化铟 提纯 杂质
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InP材料的质谱分析及霍耳系数测量
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作者 徐建成 陈亚宁 陈定钦 《电子器件》 CAS 1996年第3期171-174,共4页
本文给出了InP材料(100)和(111)晶面的质谱分析结果,并且对(100)晶面做了光荧光分析。在室温和液氮条件下,测量了(100)晶面的电子浓度及电子迁移率。研究表明沾污主要来自硅。
关键词 质谱分析 光荧光 电子浓度 电子迁移率 磷化铟
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GaN外延膜的红外椭偏光谱研究 被引量:2
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作者 王静 李向阳 +1 位作者 刘骥 黄志明 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2005年第5期544-547,共4页
利用红外椭偏光谱法(IRSE)对生长在蓝宝石衬底上的非故意掺杂的GaN外延膜进行了研究。通过对椭偏光谱的理论计算,拟合了本征GaN中的声子振动参量和等离子振荡的频率及阻尼常量,并由此得到了各向异性的折射率和消光系数的色散曲线以及载... 利用红外椭偏光谱法(IRSE)对生长在蓝宝石衬底上的非故意掺杂的GaN外延膜进行了研究。通过对椭偏光谱的理论计算,拟合了本征GaN中的声子振动参量和等离子振荡的频率及阻尼常量,并由此得到了各向异性的折射率和消光系数的色散曲线以及载流子浓度和迁移率。将得到的电学参数同霍耳测量结果进行了比较。 展开更多
关键词 氮化镓 红外椭偏光谱 折射率 载流子浓度 迁移率
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GaAs PHEMT材料电子迁移率的非接触测试
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作者 张培凤 崔琦 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期459-463,共5页
非接触迁移率测试是一种测试载流子浓度以及迁移率的新型方法,与传统的范德堡霍尔测试相比,具有无损测量和分层测试等诸多优点。分别采用传统的范德堡霍尔测试法和新型的非接触迁移率测试法对不同帽层厚度、不同掺杂浓度的GaAs PHEMT样... 非接触迁移率测试是一种测试载流子浓度以及迁移率的新型方法,与传统的范德堡霍尔测试相比,具有无损测量和分层测试等诸多优点。分别采用传统的范德堡霍尔测试法和新型的非接触迁移率测试法对不同帽层厚度、不同掺杂浓度的GaAs PHEMT样品进行测试分析。结果表明,在盖帽层很薄的情况下,两种测试方法所测得的电子浓度以及迁移率一致,而在盖帽层较厚的情况下,由于受盖帽层重掺杂电子的影响,范德堡霍尔测试无法测得沟道内二维电子气(2DEG)浓度和迁移率,而非接触式迁移率测试法可以将盖帽层和沟道层分开,准确地测得沟道内2DEG浓度和迁移率。 展开更多
关键词 迁移率 电子浓度 非接触迁移率测试 分层测试 迁移率谱
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ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结电子输运性质研究
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作者 白雅楠 吕燕伍 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第3期441-449,共9页
Ga_(2)O_(3)是一种新兴的宽带隙半导体,在电力和射频电子系统中具有潜在的应用前景。前期研究以β-Ga_(2)O_(3)为主,并且已经对β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/Ga_(2)O_(3)异质结构中的二维电子气(2DEG)进行了理论计算,本文主要研究ε-(A... Ga_(2)O_(3)是一种新兴的宽带隙半导体,在电力和射频电子系统中具有潜在的应用前景。前期研究以β-Ga_(2)O_(3)为主,并且已经对β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/Ga_(2)O_(3)异质结构中的二维电子气(2DEG)进行了理论计算,本文主要研究ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)作为势垒层对ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结电子输运性质的影响,首先介绍了ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结的结构和性质,分析计算了由于ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结的自发极化和压电极化所产生的极化面电荷密度,以及极化对2DEG浓度产生的影响,接着分析了在不同Al摩尔组分下,ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)势垒层厚度与合金无序散射、界面粗糙度散射和极性光学声子散射之间的关系。最后通过计算得出结论:界面粗糙度散射和极性光学声子散射对ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结的电子输运性质有重要影响,合金无序散射对异质结的输运性质影响较小;2DEG浓度、合金无序散射、界面粗糙度散射和极性光学声子散射的电子迁移率强弱由ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)势垒层的厚度和Al摩尔组分共同决定。 展开更多
关键词 2DEG浓度 电子迁移率 ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结 合金无序散射 界面粗糙度散射 极性光学声子散射
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MOVPE低温生长的n型GaN电学特性研究 被引量:2
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作者 汪莱 张贤鹏 +5 位作者 席光义 赵维 李洪涛 江洋 韩彦军 罗毅 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期5923-5927,共5页
系统研究了采用金属有机物化学气相外延方法在740℃和900℃条件下生长的n型GaN的电学特性.电化学电容-电压测试表明,在低温条件下采用三乙基镓作为Ga源生长有利于降低非故意掺杂n型GaN的背景杂质浓度.另外,对重掺Si的n型GaN的霍耳效应... 系统研究了采用金属有机物化学气相外延方法在740℃和900℃条件下生长的n型GaN的电学特性.电化学电容-电压测试表明,在低温条件下采用三乙基镓作为Ga源生长有利于降低非故意掺杂n型GaN的背景杂质浓度.另外,对重掺Si的n型GaN的霍耳效应测试表明,随着Si掺杂浓度增大,电子浓度相应线性增大,表现出杂质带导电特性,而迁移率则相应减小.同时,原子力显微镜测试和X射线衍射测试均表明生长温度和掺杂浓度对外延材料的表面形貌和晶体质量有影响,特别是在高掺杂浓度的情况下,样品的表面形貌恶化更严重.在所研究的Si掺杂浓度范围内,在氧气中退火前后所有样品的电子迁移率基本不变,而Si掺杂浓度高于6×1019cm-3的样品在氧气中退火后电子浓度会下降,表明对低温生长的重掺杂n型GaN,热处理的过程有助于Si原子取代N原子形成受主而产生补偿施主的作用. 展开更多
关键词 N型GAN 电子浓度 迁移率
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内嵌InAs量子点的δ掺杂GaAs/Al_xGa_(1-x)As二维电子气特性分析 被引量:2
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作者 王红培 王广龙 +4 位作者 喻颖 徐应强 倪海桥 牛智川 高凤岐 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第20期422-427,共6页
采用分子束外延技术对δ掺杂GaAs/AlxGa1 xAs二维电子气(2DEG)样品进行了生长.在样品生长过程中,分别改变掺杂浓度(Nd)、空间隔离层厚度(Wd)和AlxGa1 xAs中Al组分(xAl)的大小,并在双温(300 K,78 K)条件下对生长的样品进行了霍尔测量;结... 采用分子束外延技术对δ掺杂GaAs/AlxGa1 xAs二维电子气(2DEG)样品进行了生长.在样品生长过程中,分别改变掺杂浓度(Nd)、空间隔离层厚度(Wd)和AlxGa1 xAs中Al组分(xAl)的大小,并在双温(300 K,78 K)条件下对生长的样品进行了霍尔测量;结合测试结果,分别对Nd,Wd及xAl与GaAs/AlxGa1 xAs 2DEG的载流子浓度和迁移率之间的关系规律进行了细致的分析讨论.生长了包含有低密度InAs量子点层的δ掺杂GaAs/AlxGa1 xAs2DEG样品,采用梯度生长法得到了不同密度的InAs量子点.霍尔测量结果表明,随着InAs量子点密度的增加,GaAs/AlxGa1 xAs 2DEG的迁移率大幅度减小,实验中获得了密度最低为16×108/cm2的InAs量子点样品.实验结果为内嵌InAs量子点的δ掺杂GaAs/AlxGa1 xAs 2DEG的研究和应用提供了依据和参考. 展开更多
关键词 二维电子气 INAS量子点 载流子浓度 迁移率
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Modulation of drain current as a function of energies substrate for InP HEMT devices
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作者 S.Derrouiche B.Bouazza C.Sayah 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2018年第11期31-35,共5页
We present the drain current modulation for an HEMT using the TCAD SILVACO simulation tool with a drift–diffusion model at ambient temperature. The obtained results show that the decreases of substrate energies induc... We present the drain current modulation for an HEMT using the TCAD SILVACO simulation tool with a drift–diffusion model at ambient temperature. The obtained results show that the decreases of substrate energies induce the decreasing of the obtained drain current similarly to the transconductance, which described the device due to increasing the transferred electrons concentration towards the substrate region, consequently to increase the molar fraction where the concentration of transferred electrons increases from 49 × 10;to 65 × 10;cm;when the molar fraction increases from 0.1 to 0.9. On the other hand, the decrease of molar fraction from 0.9 to 0.1 induces the increasing of drain current by 63%, where it increases from 1.1 mA/mm to 3 mA/mm at V;= 0.6 V and V;= 1 V. This fact leads to ensuring the possibility of using the obtained results of this work related to drain current for producing performances devices that brings together the AC characteristics of HEMT with a weak drain current, which is important in the bioengineering domain. 展开更多
关键词 high electron mobility transistors (HEMT) electron concentration drain current modulation electron injection bio-engineering
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