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High-quality industrial n-type silicon wafers with an efficiency of over 23% for Si heterojunction solar cells 被引量:3
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作者 Fanying MENG Jinning LIU +8 位作者 Leilei SHEN Jianhua SHI Anjun HAN Liping ZHANG Yucheng LIU Jian YU Junkai ZHANG Rui ZHOU Zhengxin LIU 《Frontiers in Energy》 SCIE CSCD 2017年第1期78-84,共7页
n-type CZ-Si wafers featuring longer minority carrier lifetime and higher tolerance of certain metal contamination can offer one of the best Si-based solar cells. In this study, Si heterojuction (SHJ) solar cells wh... n-type CZ-Si wafers featuring longer minority carrier lifetime and higher tolerance of certain metal contamination can offer one of the best Si-based solar cells. In this study, Si heterojuction (SHJ) solar cells which was fabricated with different wafers in the top, middle and tail positions of the ingot, exhibited a stable high efficiency of〉 22% in spite of the various profiles of the resistivity and lifetime, which demonstrated the high material utilization of n-type ingot. In addition, for effectively converting the sunlight into electrical power, the pyramid size, pyramid density and roughness of surface of the Cz-Si wafer were investigated by scanning electron microscope (SEM) and transmission electron microscope (TEM). Furthermore, the dependence of SHJ solar cell open- circuit voltage on the surface topography was discussed, which indicated that the uniformity of surface pyramid helps to improve the open-circuit voltage and conversion efficiency. Moreover, the simulation revealed that the highest efficiency of the SHJ solar cell could be achieved by the wafer with a thickness of 100 μm. Fortunately, over 23% of the conversion efficiency of the SHJ solar cell with a wafer thickness of 100 μm was obtained based on the systematic optimization of cell fabrication process in the pilot production line. Evidently, the large availability of both n-type ingot and thinner wafer strongly supported the lower cost fabrication of high efficiency SHJ solar cell. 展开更多
关键词 n-type Cz-si thinner wafer surface texture high efficiency SHJ solar cell
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Comparative study of the electrical properties of Au/n-Si(MS) and Au/Si_3N_4 /n-Si(MIS) Schottky diodes
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作者 Adem Tataroglu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第6期627-632,共6页
In this paper, the electrical parameters of Au/n-Si (MS) and Au/Si3N4/n-Si (MIS) Schottky diodes are obtained from the forward bias current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) measurements at room temp... In this paper, the electrical parameters of Au/n-Si (MS) and Au/Si3N4/n-Si (MIS) Schottky diodes are obtained from the forward bias current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) measurements at room temperature. Experimental results show that the rectifying ratios of the MS and MIS diodes at ± 5 V are found to be 1.25 ×103 and 1.27 ×104, respectively. The main electrical parameters of the MS and MIS diodes, such as the zero-bias barrier height (rbBo) and ideality factor (n), are calculated to be 0.51 eV (I-V), 0.53 eV (C-V), and 4.43, and 0.65 eV (I-V), 0.70 eV (C-V), and 3.44, respectively. In addition, the energy density distribution profile of the interface states (Nss) is obtained from the forward bias I-V, and the series resistance (Rs) values for the two diodes are calculated from Cheung's method and Ohm's law. 展开更多
关键词 Au/n-si and Au/si3N4/n-si type diodes I-V and C-V measurements ideality factor barrier height
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掺Si补偿Cu高阻n-GaAs单晶
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作者 武壮文 郑安生 +3 位作者 于洪国 赵静敏 袁泽海 张海涛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期961-963,987,共4页
用水平布里奇曼法(HB法)研制掺Si补偿Cu的n-GaAs高阻单晶。既要提高多晶背景纯度,减少总杂质含量(包括减少掺Cu量和掺Si量,单晶中Cu的质量分数要≤2.00×10-5,Si的质量分数要≤1.00×10-6),又要采用熔体Cu,Si双掺的方法生长单晶... 用水平布里奇曼法(HB法)研制掺Si补偿Cu的n-GaAs高阻单晶。既要提高多晶背景纯度,减少总杂质含量(包括减少掺Cu量和掺Si量,单晶中Cu的质量分数要≤2.00×10-5,Si的质量分数要≤1.00×10-6),又要采用熔体Cu,Si双掺的方法生长单晶,将单晶切片,并划成圆片,然后分组放入炉内在确定温度下和一定时间内进行退火。研制中发现Cu主要集中在晶体表面,导致同一晶片的上部呈p型高阻,而中下部呈n型低阻,退火可使Cu在晶片中均匀分布。 展开更多
关键词 si补偿Cu n型GaAs 高阻 HB法
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高效率n型硅离子注入双面太阳电池
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作者 李晓苇 史金超 +2 位作者 张伟 沈艳娇 李锋 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期211-215,共5页
为进一步提升n型硅双面太阳电池的转化效率,采用了磷离子注入技术制备n型硅双面太阳电池的背场。基于离子注入技术准直性和均匀性好的特点,掺杂后硅片的表面复合电流密度降低到了1.4×10^-13A/cm2,隐性开路电压可达670 mV,且分布区... 为进一步提升n型硅双面太阳电池的转化效率,采用了磷离子注入技术制备n型硅双面太阳电池的背场。基于离子注入技术准直性和均匀性好的特点,掺杂后硅片的表面复合电流密度降低到了1.4×10^-13A/cm2,隐性开路电压可达670 mV,且分布区间更紧凑。在电阻率为13Ω·cm的n型硅片基底上,采用磷离子注入技术工业化生产的n型硅双面太阳电池的正面平均转化效率达到了20.64%,背面平均转化效率达到了19.52%。内量子效率的分析结果显示,离子注入太阳电池效率的增益主要来自长波段光谱响应的提升。 展开更多
关键词 双面太阳电池 n型si 转化效率 背场 离子注入
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利用三元合金保护和催化的硅光阳极与廉价硅太阳能电池相结合实现12.0%的太阳能制氢效率
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作者 何凌云 洪欣 +5 位作者 王亦清 邢众航 耿嘉峰 郭鹏慧 苏进展 沈少华 《Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第6期128-137,M0006,共11页
n型硅(n-Si)表面在水溶液中容易被氧化和钝化,导致其在光电化学(PEC)分解水的析氧反应(OER)动力学缓慢。本工作通过欠电位沉积成功地在p^(+)n-Si基底上电沉积了三金属Ni_(0.9)Fe_(0.05)Co_(0.05)保护层。制备的Ni_(0.9)Fe_(0.05)Co_(0.0... n型硅(n-Si)表面在水溶液中容易被氧化和钝化,导致其在光电化学(PEC)分解水的析氧反应(OER)动力学缓慢。本工作通过欠电位沉积成功地在p^(+)n-Si基底上电沉积了三金属Ni_(0.9)Fe_(0.05)Co_(0.05)保护层。制备的Ni_(0.9)Fe_(0.05)Co_(0.05)/p^(+)n-Si光阳极具有优异的稳定性和PEC水氧化活性,具有相对低的OER起始电位(相对于可逆氢电极电势(RHE)仅为0.938 V),并且在1.23 V vs.RHE电位时具有较高的光电流密度(33.1 m A·cm^(-2)),显著优于Ni/p^(+)n-Si光阳极。工作证明了Fe在Ni层的掺杂会在Ni_(0.9)Fe_(0.05)Co_(0.05)/p^(+)n-Si界面处产生较大的能带弯曲,促进界面电荷分离。此外,Co的加入会产生丰富的Ni^(3+)和氧空位(Ov),作为活性位点可以加速OER动力学过程,协同促进PEC过程中的水氧化的活性。令人鼓舞的是,通过将Ni_(0.9)Fe_(0.05)Co_(0.05)/p^(+)n-Si光阳极连接到廉价的硅太阳能电池上,所制备的集成光伏/PEC(PV/PEC)器件实现了无偏压下高达12.0%的太阳制氢能量转换效率。这项工作提供了一种简单的方法来设计高效、稳定的n-Si基光阳极,并对其构效关系有了深刻的理解;这种方法制备的材料在集成低成本PV/PEC器件用于无辅助太阳能驱动水分解方面具有巨大的潜力。 展开更多
关键词 欠电位沉积 电极电势 阳极连接 硅太阳能电池 能量转换效率 太阳能制氢 能带弯曲 光阳极
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锗近红外光电探测器制备工艺研究进展 被引量:2
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作者 黄志伟 汪建元 +2 位作者 黄巍 陈松岩 李成 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2020年第1期40-47,共8页
Ge材料由于在近红外波段具有较大的吸收系数、高的载流子迁移率、以及与Si工艺相兼容等优势而被视为制备近红外光电探测器最理想的材料之一。针对Ge光电探测器制备过程中面临的挑战,文中综述了近年来笔者所在的课题组在Ge探测器材料、... Ge材料由于在近红外波段具有较大的吸收系数、高的载流子迁移率、以及与Si工艺相兼容等优势而被视为制备近红外光电探测器最理想的材料之一。针对Ge光电探测器制备过程中面临的挑战,文中综述了近年来笔者所在的课题组在Ge探测器材料、器件及工艺方面的研究进展。首先介绍了Si基Ge材料的制备工艺,利用低温缓冲层生长技术、Ge/Si键合技术、Ge浓缩技术等分别制备得到高晶体质量的Si基Ge材料。研究了Ge材料n型掺杂工艺,利用离子注入结合两步退火处理(低温预退火和激光退火)以及利用固态磷旋涂工艺等分别实现Ge材料n型高掺浅结制备。最后探究了金属/Ge接触势垒高度的调制方法,结合金属中间层和透明导电电极ITO制备得到性能良好的Ge肖特基光电探测器。 展开更多
关键词 Ge光电探测器 si基Ge材料 N型掺杂 肖特基势垒高度
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WVP1N06硅N沟增强型功率场效应晶体管的研制
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作者 王嘉蓉 《现代电子技术》 2002年第9期87-88,90,共3页
介绍了研制 WVP1N0 6硅 N沟增强型功率场效应管的设计及基本工艺。
关键词 WVP1N06 硅N沟场效应晶体管 增强型 功率器件 技术性能参数
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