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基于N-on-P结构的背照射延伸波长640×1线列InGaAs探测器
被引量:
5
1
作者
朱耀明
李永富
+7 位作者
李雪
唐恒敬
邵秀梅
陈郁
邓洪海
魏鹏
张永刚
龚海梅
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第1期11-14,90,共5页
在N-on-P型In0.78Al0.22As/In0.78Ga0.22As外延材料上,采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术制备了背照射640×1线列InGaAs探测器芯片,研究了探测器光电性能.结果表明,室温下单元器件响应截止波长和峰值波长分别为2.36μm和1.92μm,...
在N-on-P型In0.78Al0.22As/In0.78Ga0.22As外延材料上,采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术制备了背照射640×1线列InGaAs探测器芯片,研究了探测器光电性能.结果表明,室温下单元器件响应截止波长和峰值波长分别为2.36μm和1.92μm,平均优值因子(R0A)为16.0Ω.cm2,峰值量子效率达到了37.5%;在1 ms积分时间下焦平面探测器平均峰值探测率达到了2.01×1011 cmHz1/2/W,响应非均匀性为8.77%,盲元率约为0.6%.
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关键词
ICP刻蚀
n-on-p结构
线列探测器
光电性能
下载PDF
职称材料
质子注入MBE碲镉汞n-on-p结性能研究
被引量:
8
2
作者
陈贵宾
李志锋
+4 位作者
蔡炜颖
何力
胡晓宁
陆卫
沈学础
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第6期1496-1499,共4页
基于中波响应波段的分子束外延碲镉汞薄膜材料成功制备出不同质子注入剂量的大光敏元 ( 5 0 0 μm× 5 0 0 μm)的n on p结构的p n结 ,并对相应的p n结的电流 电压 (I V)特性进行了研究 .质子注入剂量为 2× 10 1 5cm- 2 时R0 ...
基于中波响应波段的分子束外延碲镉汞薄膜材料成功制备出不同质子注入剂量的大光敏元 ( 5 0 0 μm× 5 0 0 μm)的n on p结构的p n结 ,并对相应的p n结的电流 电压 (I V)特性进行了研究 .质子注入剂量为 2× 10 1 5cm- 2 时R0 A达 3 12 .5Ω·cm2 ,低温热处理后达 490Ω·cm2 .
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关键词
质子注入
分子束外延
碲镉汞薄膜
n-on-p结构
p-n结
电流-电压特性
I-V特性
MBE
原文传递
题名
基于N-on-P结构的背照射延伸波长640×1线列InGaAs探测器
被引量:
5
1
作者
朱耀明
李永富
李雪
唐恒敬
邵秀梅
陈郁
邓洪海
魏鹏
张永刚
龚海梅
机构
中国科学院上海技术物理研究所传感技术国家重点实验室
中国科学院红外成像材料与器件重点实验室
中国科学院研究生院
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第1期11-14,90,共5页
基金
国家自然科学基金重点项目(50632060)
中国科学院知识创新工程青年人才领域前沿前瞻项目资助(Q-ZY-9、C2-32)~~
文摘
在N-on-P型In0.78Al0.22As/In0.78Ga0.22As外延材料上,采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术制备了背照射640×1线列InGaAs探测器芯片,研究了探测器光电性能.结果表明,室温下单元器件响应截止波长和峰值波长分别为2.36μm和1.92μm,平均优值因子(R0A)为16.0Ω.cm2,峰值量子效率达到了37.5%;在1 ms积分时间下焦平面探测器平均峰值探测率达到了2.01×1011 cmHz1/2/W,响应非均匀性为8.77%,盲元率约为0.6%.
关键词
ICP刻蚀
n-on-p结构
线列探测器
光电性能
Keywords
n-on-p
configuration
ICP etching
linear detector array
photoelectric characteristics
分类号
TN21 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
质子注入MBE碲镉汞n-on-p结性能研究
被引量:
8
2
作者
陈贵宾
李志锋
蔡炜颖
何力
胡晓宁
陆卫
沈学础
机构
中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第6期1496-1499,共4页
基金
国家自然科学基金 (批准号 :10 0 740 68
60 2 440 0 2 )
国家重点基础研究项目 (批准号 :G19980 614 0 4)资助的课题~~
文摘
基于中波响应波段的分子束外延碲镉汞薄膜材料成功制备出不同质子注入剂量的大光敏元 ( 5 0 0 μm× 5 0 0 μm)的n on p结构的p n结 ,并对相应的p n结的电流 电压 (I V)特性进行了研究 .质子注入剂量为 2× 10 1 5cm- 2 时R0 A达 3 12 .5Ω·cm2 ,低温热处理后达 490Ω·cm2 .
关键词
质子注入
分子束外延
碲镉汞薄膜
n-on-p结构
p-n结
电流-电压特性
I-V特性
MBE
Keywords
current-voltage characteristic
HgCdTe film
proton implantation
p-n junction
分类号
O475 [理学—半导体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于N-on-P结构的背照射延伸波长640×1线列InGaAs探测器
朱耀明
李永富
李雪
唐恒敬
邵秀梅
陈郁
邓洪海
魏鹏
张永刚
龚海梅
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
2
质子注入MBE碲镉汞n-on-p结性能研究
陈贵宾
李志锋
蔡炜颖
何力
胡晓宁
陆卫
沈学础
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
8
原文传递
已选择
0
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