纳米Si_3N_4陶瓷粉体表面改性的研究

用钛酸酯偶联剂NDZ-102化学包覆纳米Si3N4陶瓷粉体,通过沉降实验、粒度测定和表面能测试等实验手段研究了改性前后粉体的溶液中稳定性、热重、粒度分布等物性。结果表明:NDZ改性纳米Si3N4粉体为化学改性,添加量为10%时,粉体在甲苯中悬浮性最好;粉体改性后粒径降低,为纳米级分布,表面能也大幅度下降。

Si_3N_4/SiC(N)纳米复相陶瓷的制备与性能研究

采用极性分散剂和超声分散技术 ,在微米Si3 N4基体中加入SiC纳米颗粒 ,用真空热压烧结法制备出Si3 N4/SiC(N)纳米复相陶瓷。研究结果表明 :加入SiC纳米颗粒可显著降低烧结温度 ,阻止 β Si3 N4晶粒的过度生长 ,细化晶粒组织 ,提高复合陶瓷材料的致密度和机械性能 ;含 15wt%SiC纳米颗粒的复相陶瓷具有最佳断裂韧度和较高抗弯强度 ,可作为高速切削刀具和模具的候选材料。

Si_3N_4/SiC纳米复合陶瓷的微观结构

利用ＪＥＭ２０００ＥＸⅡ高分辨电镜和ＨＦ２０００冷场发射枪透射电镜对Ｓｉ３Ｎ４ＳｉＣ纳米复合陶瓷材料的微观组织、结构和成分进行了研究。结果表明，ＳｉＣ颗粒弥散分布在基体相β－Ｓｉ３Ｎ４晶内和晶界。晶内ＳｉＣ颗粒与基体相的界面结构有三种类型：１）直接结合的界面；２）完全非晶态的界面；３）混合型的界面。晶间ＳｉＣ颗粒与基体相的界面大部分是直接结合的。

激光诱导化学气相沉积法制备a-Si_3N_4纳米粒子研究

给出激光化学气相沉积法制备ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子的原理和经验公式，在特定工艺参数下获得平均粒径为１０ｎｍ左右的优良ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子。红外吸收和拉曼光谱研究表明，ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子中存在Ｓｉ－Ｎ，Ｓｉ－Ｈ，Ｎ－Ｈ，Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ键，分析了ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子在不同的温度和气氛退火后的变化情况。

纳米Si_3N_4对反应烧结Si_3N_4结合SiC材料的影响

利用反应烧结机制 ,在 14 5 0℃制备了 Si3N4结合 Si C材料 ,研究表明 ,在引入微量纳米 Si3N4粉后 ,材料的力学性能得到明显提高 ,材料的组织也更加致密和均匀。通过 X-ary、扫描电镜等技术手段分析表明 ,由于纳米 Si3N4粉的高表面能、高活性以及颗粒小等特点 ,加大了反应生成的 Si3N4在纳米 Si3N4上沉积的几率 ,增大了氮化率 。

用聚碳硅烷为先驱体制备SiC/Si_3N_4纳米复相陶瓷

采用聚碳硅烷（ＰＣＳ）为先驱体，利用原位生长法制备ＳｉＣ／Ｓｉ３Ｎ４ 纳米复相陶瓷，其室温弯曲强度和断裂韧性达到了６３７ ＭＰａ 和８．１０ ＭＰａ·ｍ １／２。研究了材料微观结构的形成及断裂机理，指出在微观结构的形成过程中，控制ＳｉＣ纳米微晶的生成和β－Ｓｉ３Ｎ４ 柱状晶的生长是关键，而增韧补强的主要原因在于形成了晶内型结构和长径比大（大于７．５）的Ｓｉ３Ｎ４ 柱状晶，从而改变了断裂机理。

Si_2ON_2/LAS纳米复合材料的制备与性能研究

研究了 Si2 ON2 / L AS纳米复合材料的制备和性能。结果表明 ,纳米β- Si3N4可在较低温度下与玻璃热压烧结制备出 Si2 ON2 / L AS纳米复合材料。材料的力学性能与生成的纳米 Si2 ON2 含量有关。Si2 ON2 的含量在 2 0 %时材料的抗弯强度和断裂韧性达最高值 ,分别比未加 Si2 ON2 的材料提高 31%和 88%。纳米 Si2 ON2 的含量超过 2 0 %时 ,材料的力学性能急剧下降 。

离子注入对纳米氮化硅量子点蓝光增强效应

观察到纳米氮化硅量子点在室温下的蓝光发射现象 (44 9nm) .发现离子注入对蓝光发射有成倍增强效应 (高达 6 .3倍 ) ,并用量子限制 发光中心模型给出解释 .提供了一种新的蓝光发射材料 .