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基于光谱椭偏仪的纳米光栅无损检测 被引量：1
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作者 马智超 徐智谋 +7 位作者 彭静 孙堂友 陈修国 赵文宁 刘思思 武兴会 邹超 刘世元 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期482-486,共5页
本文制备了硅基和光刻胶两种材料的纳米光栅,利用光谱椭偏仪对该纳米结构的光栅进行了测量,随后利用建立的拟合模型对其测量数据进行了拟合,结果证明了运用该仪器进行纳米光栅结构无损检测的可行性,在入射角60?,方位角75?的测量条件下,... 本文制备了硅基和光刻胶两种材料的纳米光栅,利用光谱椭偏仪对该纳米结构的光栅进行了测量,随后利用建立的拟合模型对其测量数据进行了拟合,结果证明了运用该仪器进行纳米光栅结构无损检测的可行性,在入射角60?,方位角75?的测量条件下,纳米结构关键尺寸、侧壁角等三维形貌参数的测量精度最大可达99.97%,该技术对于无损检测有着一定的推动意义. 展开更多
关键词 纳米压印 光栅 无损检测 拟合
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