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激光干涉光刻法制作100nm掩模 被引量:8
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作者 陈欣 赵青 +2 位作者 方亮 王长涛 罗先刚 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期806-810,共5页
介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干涉图形对比度可能产生影响的两个参数分别进行了数值仿真,从而证明此方法的可行性和参数的优化选择。自... 介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干涉图形对比度可能产生影响的两个参数分别进行了数值仿真,从而证明此方法的可行性和参数的优化选择。自搭干涉光刻实验系统,用257 nm的激光光源实现光刻,得到特征尺寸为100 nm的图形,再经过离子束刻蚀,最终得到周期200 nm、线宽100 nm的掩模。 展开更多
关键词 激光干涉光刻 离子束刻蚀 纳米光刻 微纳结构制造
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Dip-pen刻蚀技术直接构建聚-L-赖氨酸纳米结构 被引量:4
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作者 周化岚 魏刚 +3 位作者 刘志国 王丽 宋永海 李壮 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期757-759,共3页
Dip-pen nanolithography(DPN) has been developed to pattern monolayer film of various molecules in submicrometer dimensions through the controlled movement of ink-coated atomic force microscopy(AFM) tip on a desired su... Dip-pen nanolithography(DPN) has been developed to pattern monolayer film of various molecules in submicrometer dimensions through the controlled movement of ink-coated atomic force microscopy(AFM) tip on a desired substrate, which makes DPN a potentially powerful tool for making the functional nanoscale devices. In this letter, using direct-write dip-pen nanolithography to generate nanoscale patterns of poly-L-lysine on mica was described. Poly-L-lysine molecules can anchor themselves to the mica surface through electrostatic interaction force, so stable poly-L-lysine patterns, such as square, line, circle and cross, could be obtained on freshly cleaved mica surface. From AFM image of the patterned poly-L-lysine nanostructures on mica, we know that poly-L-lysine was flatly bound to the mica surface. These oriented patterns of poly-L-lysine on mica can provide the prospect of building functional nanodevices and offer new options for this technique in a variety of other significant biomolecules. 展开更多
关键词 Dip-pen刻蚀技术 聚-L-赖氨酸 纳米结构
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纳米笔刻蚀技术构建小牛胸腺组蛋白纳米结构 被引量:2
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作者 周化岚 施文健 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期614-616,共3页
采用纳米笔刻蚀(DPN)技术控制针尖的运行,成功地将小牛胸腺组蛋白传递到新剥离的云母表面,获得了不同尺寸、形状的小牛胸腺组蛋白纳米结构,同时考察了针尖移动速率、针尖-基底接触时间对DPN技术的影响。结果表明,较快的针尖移动速率和... 采用纳米笔刻蚀(DPN)技术控制针尖的运行,成功地将小牛胸腺组蛋白传递到新剥离的云母表面,获得了不同尺寸、形状的小牛胸腺组蛋白纳米结构,同时考察了针尖移动速率、针尖-基底接触时间对DPN技术的影响。结果表明,较快的针尖移动速率和较短的针尖-基底接触时间沉积较少的墨水分子,同时形成的纳米图案和墨水分子的本身性质也有关系。这种方法可以用于构建其他蛋白质分子,为生物纳米器件的合成提供更多机会,同时组蛋白纳米结构的构建也可以作为模板沉积其他分子,在蛋白质监测、生物传感器方面有着潜在的应用。 展开更多
关键词 纳米笔刻蚀技术 纳米结构 小牛胸腺组蛋白 原子力显微镜
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蘸水笔刻蚀技术(DPN)影响因素分析 被引量:3
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作者 寿莎 《表面技术》 EI CAS CSCD 2007年第2期6-8,11,共4页
蘸水笔技术(Dip-Pen)是近年来发展起来的一种新的扫描探针刻蚀加工技术,有着广泛的应用前景。该技术是直接把弯曲形水层作为媒介来转移“墨汁”分子,在样品表面形成纳米结构。尖端曲率半径、针尖在基底表面滞留时间、针尖扫描速度、空... 蘸水笔技术(Dip-Pen)是近年来发展起来的一种新的扫描探针刻蚀加工技术,有着广泛的应用前景。该技术是直接把弯曲形水层作为媒介来转移“墨汁”分子,在样品表面形成纳米结构。尖端曲率半径、针尖在基底表面滞留时间、针尖扫描速度、空气湿度、表面粗糙度等均会影响纳米结构的线宽。针尖在基底表面滞留时间与圆半径的平方成一次函数关系,线宽随着尖端半径的增大而变宽,扫描速度与线宽成反比关系。通过控制湿度可以控制“墨水”分子的转移速度,从而影响纳米结构的线宽。线宽随着样品表面粗糙度增加而变宽。 展开更多
关键词 蘸水笔 原子力显微镜 纳米结构 刻蚀
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扫描探针加工和自组装技术相结合的研究进展——表面图形可控的功能纳米结构的制备 被引量:2
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作者 刘善堂 《武汉工程大学学报》 CAS 2007年第4期1-4,共4页
随着扫描指针和分子组装技术的快速发展,人们不仅可以在固体表面构建纳米尺度的结构,而且也可以使表面的纳米结构进一步功能化,并且还能够更进一步制备出精确控制的复合功能材料及理想的原型器件.本文在简单介绍扫描探针加工技术和分子... 随着扫描指针和分子组装技术的快速发展,人们不仅可以在固体表面构建纳米尺度的结构,而且也可以使表面的纳米结构进一步功能化,并且还能够更进一步制备出精确控制的复合功能材料及理想的原型器件.本文在简单介绍扫描探针加工技术和分子自组装膜制备的基础上,总结了原子力显微镜纳米刻蚀和分子组装相结合的最新进展,并着重介绍了具有广泛应用前景和研究进展的构筑纳米刻蚀法和蘸笔水刻蚀法. 展开更多
关键词 扫描探针显微镜 纳米加工 自组装膜 纳米刻蚀 纳米结构 自组装技术
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基于原子力显微镜操纵构建纳米颗粒杂合结构
6
作者 汪颖 张益 《电子显微学报》 CAS CSCD 2013年第2期101-104,共4页
纳米颗粒是构造功能性纳米器件的重要元件。本文介绍了一种基于原子力显微镜操纵的、以不同材料纳米颗粒为元件组成的杂合结构。该方法制造的纳米结构不仅构建元件的化学组成与粒径具有多样性,而且结构的几何形状及颗粒间距也灵活可变... 纳米颗粒是构造功能性纳米器件的重要元件。本文介绍了一种基于原子力显微镜操纵的、以不同材料纳米颗粒为元件组成的杂合结构。该方法制造的纳米结构不仅构建元件的化学组成与粒径具有多样性,而且结构的几何形状及颗粒间距也灵活可变。该方法特别适用于构建各种模式体系,定量研究不同材料纳米颗粒杂合结构内元件间相对位置的变化对元件间相互作用的影响。这些数据将对优化纳米器件的功能提供重要信息。 展开更多
关键词 原子力显微镜 纳米操纵 杂合纳米结构 纳米颗粒
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纳米光刻技术现状与进展 被引量:4
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作者 耿磊 陈勇 《世界科技研究与发展》 CSCD 2005年第3期7-11,共5页
随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础。纳米光刻技术是制作纳米结构的基础,具有重要的应用前景。文章介绍了几种极有潜力的下一代纳米光刻技术,包括极紫外光刻技术、电子束光刻技术、纳米压印光刻技术的新... 随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础。纳米光刻技术是制作纳米结构的基础,具有重要的应用前景。文章介绍了几种极有潜力的下一代纳米光刻技术,包括极紫外光刻技术、电子束光刻技术、纳米压印光刻技术的新途径、发展现状和关键问题,最后讨论了纳米光刻技术的应用前景。 展开更多
关键词 纳米技术 纳米光刻 纳米结构制作 纳米光刻技术 现状与进展 纳米结构器件 极紫外光刻技术 电子束光刻技术 纳米加工技术 集成电路
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纳米光刻技术的现状和未来 被引量:6
8
作者 陈献忠 姚汉民 +2 位作者 陈旭南 李展 罗先刚 《物理》 CAS 北大核心 2002年第11期691-695,共5页
纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重要的应用前景 .文章对光学光刻技术进行了概述 ,介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题 。
关键词 纳米技术 纳米光刻 纳米结构制作 应用前景 纳米材料
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