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水浸腐蚀对SiO_2/Ag/SiO_2复合膜光学特性的影响 被引量:1
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作者 孔令辉 姚寿山 许俊 《材料开发与应用》 CAS 2003年第1期16-19,共4页
用蒸镀法制备了SiO2 Ag SiO2 复合膜 ,探讨了水浸腐蚀和薄膜厚度对该复合膜光学特性的影响。试验结果表明 :适当增加复合膜中SiO2 膜层的厚度不但可以提高SiO2 Ag SiO2 复合膜可见光的透光率 ,而且可以相对有效地防止复合膜进一步被氧... 用蒸镀法制备了SiO2 Ag SiO2 复合膜 ,探讨了水浸腐蚀和薄膜厚度对该复合膜光学特性的影响。试验结果表明 :适当增加复合膜中SiO2 膜层的厚度不但可以提高SiO2 Ag SiO2 复合膜可见光的透光率 ,而且可以相对有效地防止复合膜进一步被氧化 ,提高SiO2 Ag SiO2 展开更多
关键词 水浸腐蚀 si02/Ag/si02复合 光学特性 银系低辐射 二氧化硅 蒸镀
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nc-Si/SiO_2多层膜的制备及蓝光发射 被引量:5
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作者 隋妍萍 马忠元 +3 位作者 陈坤基 李伟 徐骏 黄信凡 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期989-992,共4页
在等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)系统中 ,采用a Si∶H层淀积与原位等离子体氧化相结合的逐层生长的方法成功制备出a Si∶H SiO2 多层膜 (ML) ;利用限制性结晶原理通过两步退火处理使a Si∶H层晶化获得尺寸可控的nc Si SiO2 ML ,并... 在等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)系统中 ,采用a Si∶H层淀积与原位等离子体氧化相结合的逐层生长的方法成功制备出a Si∶H SiO2 多层膜 (ML) ;利用限制性结晶原理通过两步退火处理使a Si∶H层晶化获得尺寸可控的nc Si SiO2 ML ,并观察到室温下的蓝光发射 ;结合Raman散射和剖面透射电子显微镜技术分析了nc Si SiO2 ML的结构特性 ;通过对晶化样品光致发光谱和紫外 可见光吸收谱的研究 。 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相淀积 PECVD nc-si/si02多层膜 制备 蓝光发射 纳米硅多层 热退火
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