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Optical Emission Spectroscopic Studies of ICP Ar Plasma
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作者 齐雪莲 任春生 +1 位作者 张健 马腾才 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第5期578-581,共4页
The ion line of 434.8 nm and atom line of 419.8 nm of Ar plasma produced by an inductively coupled plasma (ICP) were measured by optical emission spectroscopy and the influences from the working gas pressure, radio-... The ion line of 434.8 nm and atom line of 419.8 nm of Ar plasma produced by an inductively coupled plasma (ICP) were measured by optical emission spectroscopy and the influences from the working gas pressure, radio-frequency (RF) power and different positions in the discharge chamber on the line intensities were investigated in this study. It was found that the intensity of Ar atom line increased firstly and then saturated with the increase of the pressure. The line intensity of Ar^+, on the other hand, reached a maximum value and then decreased along with the pressure. The intensity of the line in an RF discharge also demonstrated a jumping mode and a hysteresis phenomenon with the RF power. When the RF power increased to 400 W, the discharge jumped from the E-mode to the H-mode where the line intensity of Ar atom demonstrated a sudden increase, while the intensity of Ar^+ ion only changed slightly. If the RF power decreased from a high value, e.g., 1000 W, the discharge would jump from the H-mode back to the E-mode at a power of 300 W. At this time the intensities of Ar and Ar^+ lines would also decrease sharply. It was also noticed in this paper that the intensity of the ion line depended on the detective location in the chamber, namely at the bottom of the chamber the line was more intense than that in the middle of the chamber, but less intense than at the top, which is considered to be related to the capacitance coupling ability of the ICP plasma in different discharge areas. 展开更多
关键词 optical emission spectroscopy inductively coupled plasma spectral line intensity ar
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大气压Ar/NH_3同轴介质阻挡放电发射光谱诊断(英文) 被引量:3
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作者 李艳琴 部德才 +3 位作者 底兰波 张秀玲 刘志升 李学慧 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第3期765-771,共7页
采用光谱在线技术(OES)检测了大气压Ar/NH_3 DBD等离子体中的主要粒子为NH,N,N^+,N_2,Ar,H_α,OH。NH是NH_3分解的产物,激发态Ar~*和NH_3分子的潘宁碰撞生成激发态中性粒子NH(c^1Ⅱ)和NH(A^3Ⅱ)。674.5 nm处N原子谱线表明等离子体中产生... 采用光谱在线技术(OES)检测了大气压Ar/NH_3 DBD等离子体中的主要粒子为NH,N,N^+,N_2,Ar,H_α,OH。NH是NH_3分解的产物,激发态Ar~*和NH_3分子的潘宁碰撞生成激发态中性粒子NH(c^1Ⅱ)和NH(A^3Ⅱ)。674.5 nm处N原子谱线表明等离子体中产生了N活性原子,为大气压Ar/NH_3同轴介质阻挡放电等离子体合成ε-Fe_3N磁性颗粒提供了可能。研究了各主要粒子谱线强度随NH_3流量和外加电压峰峰值的变化规律,研究结果表明:NH_3流量相同时,随外加电压峰峰值升高,各粒子谱线强度均逐渐增强;外加电压峰峰值相同时,各谱线强度随NH_3流量增加先增强后减弱。外加电压峰峰值相同时,随NH_3流量增加,N活性原子谱线强度先增强后减弱,NH_3流量为20 mL·min^(-1)时,N活性原子谱线强度最强。NH_3流量相同时,随外加电压峰峰值升高,N活性原子谱线强度逐渐减小,主要是由于大气压Ar/NH_3DBD放电模式由多脉冲大气压辉光放电转变为丝状放电造成。多脉冲大气压辉光放电的微放电通道之间相互重叠,各个微放电之间相互影响,导致随外加电压峰峰值升高各谱线强度的增加速率较快。当外加电压峰峰值从4 600 V升高到6 400 V时,大气压Ar/NH_3 DBD的放电模式由单脉冲APGD转变为二脉冲APGD,属于均匀大气压介质阻挡放电,随外加电压峰峰值升高谱线强度的增加速率较快,利于合成e-Fe_3N磁性颗粒。 展开更多
关键词 同轴介质阻挡放电 发射光谱 ar/NH3 等离子体
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Ar^+激光、Nd:YAG激光辐照亚心形扁藻生物学效应初探 被引量:4
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作者 王丽姜 庄惠如 +3 位作者 陈荣 黄祥英 欧琳 高如承 《激光生物学报》 CAS CSCD 2005年第5期331-335,共5页
采用Ar+激光(488 nm,照射时间分别为10 min、20 min、30 min)、Nd:YAG(1064 nm,照射时间为1 min、2min3、min)辐照扁藻,通过细胞计数以及扫描色素的吸收光谱研究激光辐照扁藻的生物效应。研究结果表明:非色素吸收峰的激光可以产生激光... 采用Ar+激光(488 nm,照射时间分别为10 min、20 min、30 min)、Nd:YAG(1064 nm,照射时间为1 min、2min3、min)辐照扁藻,通过细胞计数以及扫描色素的吸收光谱研究激光辐照扁藻的生物效应。研究结果表明:非色素吸收峰的激光可以产生激光生物效应;不同波长,不同剂量的激光辐照扁藻可以表现出相类似的生物效应;Ar+辐照20 min、Nd:YAG辐照2 min可以刺激扁藻生长,明显提高色素吸收光密度值,促进光合作用的进行。文中对不同激光辐照扁藻所产生的生物效应进行了比较和探讨。 展开更多
关键词 ar^+激光 ND:YAG激光 扁藻 生物效应 色素吸收光谱
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Cs-Ar混合蒸气中6P_(3/2)激发态的空间分布和辐射陷获 被引量:1
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作者 白振岙 赵亿坤 +2 位作者 陈洁 戴康 沈异凡 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期15-16,共2页
计算和测量了Cs-Ar混合蒸气中Cs(6P3/2)共振能级的有效辐射率。使用单模半导体激光器(泵浦激光)将Cs原子激发至6P3/2态,另一调谐到6P3/2→8S1/2的单模激光束(检测激光)与泵浦束反平行通过样品池,并在池的直径方向平行移动,通过对检测激... 计算和测量了Cs-Ar混合蒸气中Cs(6P3/2)共振能级的有效辐射率。使用单模半导体激光器(泵浦激光)将Cs原子激发至6P3/2态,另一调谐到6P3/2→8S1/2的单模激光束(检测激光)与泵浦束反平行通过样品池,并在池的直径方向平行移动,通过对检测激光束的吸收测定了激发态原子密度及其空间分布。由于辐射陷获存在,有效辐射率是自然辐射率与透射因子(发射的光子在探测区域内没有被吸收的平均概率)的乘积。6P3/2原子密度及其空间分布结合6P3/2←6S1/2跃迁线的碰撞增宽计算了透射因子,从而得到了不同Ar气压下,Cs D2线的有效辐射率。从6P3/2→6S1/2跃迁线强度I852的测量,得到了不同Ar气压下有效辐射率的比值与理论计算得到的比值相符。 展开更多
关键词 激光光谱 有效辐射率 辐射陷获 压力增宽 Cs-ar混合蒸气
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Cs-Ar混合蒸气中6S1/2→6P3/2激光激发的速度选择粒子数密度和饱和效应
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作者 刘静 周恒伟 +2 位作者 张国良 戴康 沈异凡 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1958-1961,共4页
利用一步激发的饱和吸收光谱技术测量了激发态Cs(6P3/2)态的原子密度。室温下的Cs-Ar混合蒸气被852nm激光激发,在6S1/2→6P3/2跃迁线轮廓接近纯Doppler增宽线型、激光线宽远小于非均匀的Doppler线宽而与均匀Lorentz线宽相比的条件下,可... 利用一步激发的饱和吸收光谱技术测量了激发态Cs(6P3/2)态的原子密度。室温下的Cs-Ar混合蒸气被852nm激光激发,在6S1/2→6P3/2跃迁线轮廓接近纯Doppler增宽线型、激光线宽远小于非均匀的Doppler线宽而与均匀Lorentz线宽相比的条件下,可以确定基态Cs原子中可能被激光吸收的具有速度分量vz的粒子数密度N(vz)。在激光功率20μW至2.5mW的范围内,测量了吸收系数,得到了6P3/2态的速度选择布居数密度。利用从Cs空心阴极灯发出的8S1/2→6P3/2窄谱线的吸收测量,也可以测得6P3/2态的原子密度,两种测量方法所得结果符合得很好。Cs-Ar碰撞的谱线增宽增加了有效泵浦率,有5%的基态原子被单模半导体激光器激发到6P3/2态。由测量不同6P3/2态原子密度时的共振852nm荧光,也证实了饱和吸收测量激发态原子密度方法的可靠性。 展开更多
关键词 激光光谱 饱和吸收 速度选择粒子数密度 Cs-ar混合蒸气
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Ar原子偶字称 3p^5(2P1/2)nl′ [K′]J (l′=1, 3) 自电离Rydberg态共振增强激发光谱
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作者 李春燕 何志巍 +3 位作者 王婷婷 甄军锋 陈旸 张劲松 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2013年第3期259-264,I0003,共7页
用脉冲直流放电产生Ar原子亚稳态3p54s[3/2]2和3p54s′[1/2]0在单光予32500-35600cm-1能量范围内,结合飞行时间质谱技术获得Ar原子共振增强激发光谱.光谱分析表明,所有谱线来源于Ar原子3p54s[3/2]2SD3p54s′[1/2]0两个亚稳态吸... 用脉冲直流放电产生Ar原子亚稳态3p54s[3/2]2和3p54s′[1/2]0在单光予32500-35600cm-1能量范围内,结合飞行时间质谱技术获得Ar原子共振增强激发光谱.光谱分析表明,所有谱线来源于Ar原子3p54s[3/2]2SD3p54s′[1/2]0两个亚稳态吸收单个光子向偶宇称np′、nf′自电离Rydberg态序列的跃迁.实验观测到许多新的自电离能级,并获得更精确和系统的能级位置和量子亏损值数据. 展开更多
关键词 ar原子 脉冲直流放电 共振增强光激发谱 自电离Rydberg态
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Ar离子辐照PET膜引起的表面结构和组分变化研究
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作者 刘昌龙 朱智勇 +8 位作者 金运范 孙友梅 侯明东 王衍斌 王志光 陈晓曦 刘杰 张崇宏 李保权 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期288-294,共7页
用 35MeV u的Ar离子室温下辐照多层堆叠的半晶质的聚酯 (PET)膜 ,采用X射线衍射技术和X射线光电子谱仪分析研究了辐照引起的表面结构和组分的变化。结果表明 ,Ar离子辐照PET膜引起了明显的非晶化转变和化学键断裂 ,断键主要发生在甲氧... 用 35MeV u的Ar离子室温下辐照多层堆叠的半晶质的聚酯 (PET)膜 ,采用X射线衍射技术和X射线光电子谱仪分析研究了辐照引起的表面结构和组分的变化。结果表明 ,Ar离子辐照PET膜引起了明显的非晶化转变和化学键断裂 ,断键主要发生在甲氧基和羰基功能团上 ,并使这两个功能团中的C和O的比分相对减少。非晶化效应和化学键断裂同时依赖于离子的照射剂量和离子在样品表面的电子能量损失 ,剂量越高 ,表面电子能量损失越大 ,效应就明显。 展开更多
关键词 表面结构 组分改性 X射线衍射技术 X射线光电子谱仪 氩离子辐照 聚酯膜
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Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析
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作者 刘黎明 杨培志 黄宗坦 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期379-382,共4页
用X射线光电子能谱(XPS)研究了3.0keVAr离子轰击高定向裂解石墨(HOPG)引起的表面结构的变化。通过对C1s、CKLL及C2s谱峰形状的定性和定量分析,表明Ar离子轰击将破坏共价π键并导致表面局域sp2杂化C键向sp3杂化C键转化。sp3/sp2之比依赖... 用X射线光电子能谱(XPS)研究了3.0keVAr离子轰击高定向裂解石墨(HOPG)引起的表面结构的变化。通过对C1s、CKLL及C2s谱峰形状的定性和定量分析,表明Ar离子轰击将破坏共价π键并导致表面局域sp2杂化C键向sp3杂化C键转化。sp3/sp2之比依赖于离子轰击时间。 展开更多
关键词 表面分析 ar离子轰击 高定向裂解石墨 X射线光电子能谱
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Ar离子刻蚀聚酰亚胺薄膜的XPS研究
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作者 辛建娇 申书昌 王佳宝 《化工时刊》 CAS 2015年第1期1-3,共3页
本文用3.0ke VAr离子刻蚀聚酰亚胺薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对薄膜表面元素组成、化学环境进行了分析,考察了不同刻蚀深度的薄膜表面的化学结构变化。
关键词 聚酰亚胺 ar离子刻蚀 X射线光电子能谱 表面分析
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金刚石表面Ar离子溅射效应的电子能谱分析
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作者 林志东 刘黎明 张万荣 《武汉化工学院学报》 2004年第2期46-49,共4页
用 X射线光电子能谱 ( XPS)对微波等离子体 ( MPCVD)合成的金刚石进行了 Ar离子溅射效应原位分析 .原始表面的 C1 s光电子峰位于 2 85 .80 e V,随着溅射时间的延长 ,C1 s峰位向低结合能方向移动 ,1 h后移至 2 85 .40 e V.在溅射过程中 ,... 用 X射线光电子能谱 ( XPS)对微波等离子体 ( MPCVD)合成的金刚石进行了 Ar离子溅射效应原位分析 .原始表面的 C1 s光电子峰位于 2 85 .80 e V,随着溅射时间的延长 ,C1 s峰位向低结合能方向移动 ,1 h后移至 2 85 .40 e V.在溅射过程中 ,C1 s的半高峰宽 ( FWHM)由最初的 1 .80 e V增加到 2 .2 0 e V.C1 s峰的解叠结果表明经 Ar离子溅射后 ,金刚石表面出现了石墨态碳 ,而且其含量随溅射的增强而增加 .由于 Ar离子的溅射 ,俄歇电子谱 ( XAES)也发生了明显的变化 ,XAES微分特征距离 D值则由 1 4 .3 7e V增加到 1 9.3 4e V,同时 C的价带电子谱 ( VBS)金刚石特征消失 ,这些结果补充证明了 Ar离子的溅射效应是诱导金刚石向石墨转化 . 展开更多
关键词 金刚石 ar离子溅射 XPS
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Influence of Additive Gas on Electrical and Optical Characteristics of Non-equilibrium Atmospheric Pressure Argon Plasma Jet 被引量:1
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作者 费小猛 Shin-ichi KURODA +2 位作者 Yuki KONDO Tamio MORI Katsuhiko HOSOI 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第5期575-582,共8页
Electrical and optical properties of an argon plasma jet were characterized. In particular, effects of an additive gas, namely nitrogen or oxygen, on these properties were studied in detail. The plasma jet was found t... Electrical and optical properties of an argon plasma jet were characterized. In particular, effects of an additive gas, namely nitrogen or oxygen, on these properties were studied in detail. The plasma jet was found to be of a glow-like discharge, which scarcely changed upon the injection of an additive gas, either directly or through a glass capillary. Optical emission spectroscopy characterization revealed that excited argon atoms were the predominant active species in this plasma jet. Metastable argon atoms were highly quenched, and N2(C3yIu) became the main energy carrier following nitrogen injection. When oxygen was added to the afterglow zone through a glass capillary, no significant quenching effect was observed and the number of oxygen atoms decreased with the increase in oxygen concentration. Finally, to demonstrate an application of this plasma jet, a high-density polyethylene surface was treated with argon, argon/nitrogen, and argon/oxygen plasmas. 展开更多
关键词 atmospheric pressure ar plasma jet additive gas DISCHarGE optical emission spectroscopy
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氚深度分布对β射线诱发X射线光谱法测量能谱中Ar(Kα)强度的影响
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作者 陈杨 陈志林 +3 位作者 杨阳 瞿金辉 程胜寒 李余 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第12期2368-2373,共6页
BIXS(β射线诱发X射线光谱法)是一种针对材料中氚的无损测量方法,该方法通过探测氚在材料与工作气体(氩气)中诱发的特征X射线与轫致辐射X射线谱计算材料表层(β射线射程范围内)与基体中的氚含量与分布。通常认为氩的Kα特征峰强度与材... BIXS(β射线诱发X射线光谱法)是一种针对材料中氚的无损测量方法,该方法通过探测氚在材料与工作气体(氩气)中诱发的特征X射线与轫致辐射X射线谱计算材料表层(β射线射程范围内)与基体中的氚含量与分布。通常认为氩的Kα特征峰强度与材料表层氚含量呈正比,然而该结论的前提是氚在材料表层均匀分布,而未考虑非均匀分布的情形。本文详细评估了氚在材料表层的深度分布对BIXS能谱中Ar(Kα)强度的影响,结果表明,在均匀分布的情况下,β射线最大射程的1/10范围内的氚对Ar(Kα)强度的贡献约为50%;在非均匀分布的情况下,Ar(Kα)的强度与均匀分布有数倍的差异。因此在实际测量中需根据氚在材料表层的具体分布对结果进行修正。 展开更多
关键词 β射线诱发X射线光谱法 β射线射程范围 深度分布 ar(Kα)
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Measurement of the O_2 Dissociation Fraction in RF Low Pressure O_2/Ar Plasma Using Optical Emission Spectrometry
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作者 刘忠伟 李森 +2 位作者 陈强 杨丽珍 王正铎 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第4期458-461,共4页
Measurement of the oxygen dissociation fraction in RF low pressure oxygen/argon plasma using optical emission spectrometry is presented. The oxygen dissociation fraction and its evolutions as functions of operational ... Measurement of the oxygen dissociation fraction in RF low pressure oxygen/argon plasma using optical emission spectrometry is presented. The oxygen dissociation fraction and its evolutions as functions of operational parameters were determined using argon as the actinometer. At a pressure of 30 Pa, the oxygen dissociation fraction decreased from 13.4% to 9.5% as the input power increased from 10 W to 70 W. At an input power of 50 W, the oxygen dissociation fraction decreased from 12.3% to 7.7% when the gas pressure increased from 10 Pa to 40 Pa. The influences of operational parameters on the generation of atomic oxygen were also discussed. 展开更多
关键词 optical emission spectroscopy RF O2/ar plasma ACTINOMETRY
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基于三维荧光时间序列双阈值的饮用水污染事件检测方法研究
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作者 薛方家 喻洁 +5 位作者 尹航 夏戚宇 施杰根 侯迪波 黄平捷 张光新 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期3081-3088,共8页
目前,三维荧光技术在应急性饮用水污染事件检测中的应用越来越广泛,但其仍存在易受水环境波动影响、低浓度污染事件检出率较低等不足。因此针对在线检测需求,提出了一种基于时间序列双阈值的三维荧光饮用水异常事件检测方法。该方法采... 目前,三维荧光技术在应急性饮用水污染事件检测中的应用越来越广泛,但其仍存在易受水环境波动影响、低浓度污染事件检出率较低等不足。因此针对在线检测需求,提出了一种基于时间序列双阈值的三维荧光饮用水异常事件检测方法。该方法采用主成分分析法提取检测样本的三维荧光光谱主元特征值,进行线性自回归(AR)模型训练并对未来时段水质样本主元特征值进行预测,通过与实测样本主元特征值作差得到特征值差值,同时结合实测特征值的变化率,设置特征值差值-特征值变化率双阈值,最终确定污染事件的时间起始点与结束点,从而确定整个污染事件。研究通过模拟高浓度污染事件、低浓度污染事件、供水水质波动等场景对所提方法进行了验证。实验结果表明,该方法不仅保持了高浓度污染事件检测的准确性,在检测低浓度污染、高干扰环境下的低浓度污染时,该方法相较于常规判别方法,检测结果准确率分别提高了9.4%和20.7%。 展开更多
关键词 水质异常事件检测 三维荧光光谱 时间序列双阈值 主成分分析(PCA) 线性自回归(ar)
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基于单片机的红外遥控开关控制器 被引量:9
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作者 朱光忠 吕梅蕾 杨子鸣 《计算机工程与设计》 CSCD 北大核心 2006年第11期2097-2099,共3页
介绍了一种可以由普通遥控器作为信号输入的开关控制器。该控制器可以通过学习、分析和记忆多种遥控器的编码,实现对多种电器的开关控制。简单介绍了由AT89C51单片机构成的红外遥控开关控制器的结构、功能及工作原理,阐述了解码程序的... 介绍了一种可以由普通遥控器作为信号输入的开关控制器。该控制器可以通过学习、分析和记忆多种遥控器的编码,实现对多种电器的开关控制。简单介绍了由AT89C51单片机构成的红外遥控开关控制器的结构、功能及工作原理,阐述了解码程序的基本结构和程序框图。该控制器可用于一些其它的控制场合。 展开更多
关键词 单片机 AT89C51 红外遥控 解码
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空气氧化对钢液成分直接测量的影响 被引量:2
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作者 姚顺春 陆继东 +4 位作者 李俊彦 陈凯 潘圣华 董美蓉 李军 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期63-67,共5页
搭建了一套基于激光诱导击穿光谱技术的钢液成分直接测量实验系统,针对钢液表面被空气氧化的问题进行了实验,评估了氧化层对测量结果的影响.在此基础上,利用氩气作为保护气,对比分析了不同氩气流量下,钢液内各元素谱线强度和测量稳定性... 搭建了一套基于激光诱导击穿光谱技术的钢液成分直接测量实验系统,针对钢液表面被空气氧化的问题进行了实验,评估了氧化层对测量结果的影响.在此基础上,利用氩气作为保护气,对比分析了不同氩气流量下,钢液内各元素谱线强度和测量稳定性的变化趋势.结果表明:钢液氧化会令大部分合金元素在表面富集,从而使相关谱线的相对强度增大,因此不宜在大气环境下进行钢液成分的直接测量;而选择合适流量的氩气作为保护气可以实现稳定的钢液成分直接测量. 展开更多
关键词 钢液 直接测量 激光诱导击穿光谱 氧化 氩气
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无机爆炸物及其主要成分的激光诱导击穿光谱实验研究 被引量:3
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作者 赵华 王茜蒨 +1 位作者 刘凯 葛聪慧 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期577-581,共5页
以一种常见的无机爆炸物——黑火药及其主要成分硝酸钾作为研究对象,硝酸钠样品作为参照物,使用1 064nm调Q激光器作为光源,进行实验研究。获得了不同环境气体(空气和氩气)中三种样品的击穿诱导等离子体光谱,在不同延迟条件下获得了三种... 以一种常见的无机爆炸物——黑火药及其主要成分硝酸钾作为研究对象,硝酸钠样品作为参照物,使用1 064nm调Q激光器作为光源,进行实验研究。获得了不同环境气体(空气和氩气)中三种样品的击穿诱导等离子体光谱,在不同延迟条件下获得了三种样品的时间分辨谱,并分析了三种样品的O/N谱线强度比值随延时的变化,得出在延时596ns时,O/N比值达到最大值。 展开更多
关键词 激光诱导击穿光谱 时间分辨 黑火药 氩气
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二维红外相关光谱在两面针与单面针鉴别中的应用 被引量:5
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作者 陈铁寓 彭兴 +1 位作者 龙盛京 赵农 《现代仪器》 2011年第4期36-38,共3页
利用傅里叶变换红外光谱法及二维红外相关光谱法对两面针与单面针进行研究,探讨其一维、二维红外光谱特征及其差异,为快速鉴定两面针样品提供依据。两面针与单面针均为芸香科花椒属木本植物,均可入药,2者外形极为相似,药材市场常用靡价... 利用傅里叶变换红外光谱法及二维红外相关光谱法对两面针与单面针进行研究,探讨其一维、二维红外光谱特征及其差异,为快速鉴定两面针样品提供依据。两面针与单面针均为芸香科花椒属木本植物,均可入药,2者外形极为相似,药材市场常用靡价的单面针制成饮片冒充两面针。本实验结果表明:两面针与单面针的一维红外光谱差别甚小,但通过二阶导数光谱结合二维傅里叶红外光谱的方法可以将2者完全区分开采。本方法快速、廉价、有效,对两面针的鉴别提供一种新的方法和技术。 展开更多
关键词 两面针 单两针傅里叶变换红外光谱(FTIR)二堆相关红外光谱(2D FTIR)二维相关红外光谱
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氩稀释无氨氮化硅薄膜的制备 被引量:2
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作者 赵润 高鹏飞 +2 位作者 刘浩 李庆伟 何刚 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第5期345-350,共6页
氮化硅(SiNx)薄膜是一种广泛应用于半导体光电器件的介质膜,其性质的优劣直接影响器件的性能。使用SiH4与NH3作为反应气体制备出的氮化硅薄膜含有大量氢,应用于某些光电器件时,会导致器件工作时光电特性不稳定。针对此问题研发了一种使... 氮化硅(SiNx)薄膜是一种广泛应用于半导体光电器件的介质膜,其性质的优劣直接影响器件的性能。使用SiH4与NH3作为反应气体制备出的氮化硅薄膜含有大量氢,应用于某些光电器件时,会导致器件工作时光电特性不稳定。针对此问题研发了一种使用SiH4与N2作为反应气体,Ar作为稀释气体的工艺方法,即无氨工艺。使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法,通过研究各工艺参数对薄膜性能的影响,制备出了一种含氢量低的氮化硅薄膜。通过傅里叶变换红外吸收谱(FTIR)测试了无氨工艺制备的氮化硅薄膜的含氢量,和使用SiH4与NH3作为反应气体制备出的氮化硅薄膜相比含氢量明显降低。 展开更多
关键词 氮化硅(SiNx)薄膜 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 无氨工艺 氩稀释 傅里叶变换红外光谱分析法(FTIR)
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显微分析技术在涂料中的应用研究 被引量:2
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作者 王玉鹏 李广东 樊艳梅 《中国涂料》 CAS 2016年第2期67-72,共6页
显微分析技术为研究微观结构提供了强有力的技术支持,目前显微分析技术大致可以分为两类,一类是光学显微分析技术,另外一类是电子显微分析技术。在涂料行业中最常用的是光学显微镜、扫描电镜能谱和显微红外光谱分析技术,本文就这几类技... 显微分析技术为研究微观结构提供了强有力的技术支持,目前显微分析技术大致可以分为两类,一类是光学显微分析技术,另外一类是电子显微分析技术。在涂料行业中最常用的是光学显微镜、扫描电镜能谱和显微红外光谱分析技术,本文就这几类技术的原理和应用展开讨论。 展开更多
关键词 显微分析技术 涂料 光学显微镜 扫描电镜能谱 显微红外光谱
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