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DEEP LEVEL DEFECTS IN SI-IMPLANTED LEC UNDOPED Si-GaAs
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作者 粱振宪 罗晋生 《Journal of Electronics(China)》 1991年第3期276-282,共7页
The residual electrically active defects in(4×10<sup>12</sup>cm<sup>-2</sup>(30KeV)+5×10<sup>12</sup>cm<sup>-2</sup>(130KeV))si-implanted LEC undoped si-Ga... The residual electrically active defects in(4×10<sup>12</sup>cm<sup>-2</sup>(30KeV)+5×10<sup>12</sup>cm<sup>-2</sup>(130KeV))si-implanted LEC undoped si-GaAs activated by two-step rapid thermal annealing(RTA)LABELED AS 970℃(9S)+750℃(12S)have been investigated with deep level transient spec-troscopy(DLTS).Two electron traps ET<sub>1</sub>(E<sub>c</sub>-0.53eV,σ<sub>n</sub>=2.3×10<sup>-16</sup>cm<sup>2</sup>)and ET<sub>2</sub>(E<sub>c</sub>-0.81eV,σ<sub>n</sub>=9.7×10(-13)cm<sup>2</sup>)are detected.Furthermore,the noticeable variations of trap’s con-centration and energy level in the forbidden gap with the depth profile of defects induced by ion im-plantation and RTA process have also been observed.The[As<sub>i</sub>·V<sub>As</sub>·As<sub>Ga</sub>]and[V<sub>As</sub>·As<sub>i</sub>·V<sub>Ga</sub>·As<sub>Ga</sub>]are proposed to be the possible atomic configurations of ET<sub>1</sub> and ET<sub>2</sub>,respectively to explaintheir RTA behaviors. 展开更多
关键词 si:gaas Rapid thermal ANNEALING Ion IMPLANTATION deep level
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GaAs/Si/AlAs异质结的DLTS实验研究 被引量:2
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作者 李永平 田强 牛智川 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期923-926,共4页
利用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究了Si夹层和GaAs层不同生长温度对GaAs/AlAs异质结晶体 品质的影响。发现Si夹层的引入并没有引起明显深能级缺陷,而不同温度下生长的GaAs/Si/AlAs异质结随着 温度的降低,深能级缺陷明显增加,并进行了分... 利用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究了Si夹层和GaAs层不同生长温度对GaAs/AlAs异质结晶体 品质的影响。发现Si夹层的引入并没有引起明显深能级缺陷,而不同温度下生长的GaAs/Si/AlAs异质结随着 温度的降低,深能级缺陷明显增加,并进行了分析,得到深能级是由Ga空位引起的,在600℃时生长的晶体 质量最佳。 展开更多
关键词 光电子学 深能级瞬态谱 深能级缺陷 si夹层 gaas/AlAs异质结
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Si夹层对GaAs/AlAs异质结的影响 被引量:1
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作者 李永平 刘杰 +1 位作者 姜永超 田强 《山东大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期40-42,48,共4页
用MBE生长了GaAs/Si/AlAs异质结及其对比样,通过深能级瞬态谱技术(DLTS)和X射线光电子谱测量(XPS)研究了Si夹层的引入对异质结的影响,研究发现Si夹层的引入不会引起明显的深能级缺陷,异质结仍保持较好的质量,但使GaAs/AlAs的带阶发生了... 用MBE生长了GaAs/Si/AlAs异质结及其对比样,通过深能级瞬态谱技术(DLTS)和X射线光电子谱测量(XPS)研究了Si夹层的引入对异质结的影响,研究发现Si夹层的引入不会引起明显的深能级缺陷,异质结仍保持较好的质量,但使GaAs/AlAs的带阶发生了改变。 展开更多
关键词 gaas/AlAs异质结 si夹层 X射线光电子谱测量 深能级瞬态谱测量
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SI-GaAs单晶中深能级陷阱退火特性研究 被引量:1
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作者 谢自力 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第7期10-12,17,共4页
研究了LEC-SI-GaAs单晶热处理前后深能级陷阱的变化,比较了原生晶体在不同条件的热退火后SI-GaAs单晶中深能级陷阱的特性,分析了产生变化的原因,并讨论了LEC-SI-GaAs中两个主要深能级陷阱EL2和EL6的可能构型。
关键词 深能级陷阱 退火特性 半绝缘砷化镓 热处理 光致电流瞬态谱
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金属有机物化学气相沉积GaAs/Si外延层中1.13eV发光带特性研究
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作者 赵家龙 高瑛 +5 位作者 刘学彦 窦恺 黄世华 虞家琪 梁家昌 高鸿楷 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期271-276,共6页
用不同温度和激发强度下的近红外光致发光研究了金属有机物化学气相沉积方法在Si衬底上生长的GaAs外延层中的1.13eV发光带的发光特性,表明此发光带为施主-受主对复合发光.根据1.13eV发光带的峰值能量和发光强度随... 用不同温度和激发强度下的近红外光致发光研究了金属有机物化学气相沉积方法在Si衬底上生长的GaAs外延层中的1.13eV发光带的发光特性,表明此发光带为施主-受主对复合发光.根据1.13eV发光带的峰值能量和发光强度随温度和激发强度的变化关系,确定施主和受主的束缚能分别为5和295meV,并证实GaAs/Si外延层中的1.13eV发光为硅施主-镓空位受主对的复合发光. 展开更多
关键词 光致发光 深能级 外延层 砷化镓
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生长在Si上的GaAs外延膜中有关深能级缺陷与其形貌间的关联研究(英文)
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作者 徐舟 梁家昌 《中国民航学院学报》 1999年第1期43-47,共5页
由于在GaAs和Si单晶材料间有着很大的格子常数及线性热膨胀系数差别,所以在St上生长的GaAs异质外延薄膜(GaAs/Si)中会存在着界面失配形变与高密度的结构缺陷。我们的实验显示,GaAs/Si外延膜的无序与其生长条件有关,尤其与其[As... 由于在GaAs和Si单晶材料间有着很大的格子常数及线性热膨胀系数差别,所以在St上生长的GaAs异质外延薄膜(GaAs/Si)中会存在着界面失配形变与高密度的结构缺陷。我们的实验显示,GaAs/Si外延膜的无序与其生长条件有关,尤其与其[As]/[Ga]比密切相关。与GaAs/Si无序相关的失配位错、线位错及畴区的形貌已用扫描电子显微镜作了观察;与深能级相关的缺陷与其形貌间的关联也已用实验说明。对于高有序GaAs/Si外延膜来说,其与离域相关的主发光峰的强度对温度的变化服从阿兰纽斯方程,而对低有序的GaAs/Si外延膜来说,其与局域相关的主发光峰的强度对温度的变化关系则遵循对无定型半导体才成立的另一种方程。 展开更多
关键词 形貌 缺陷 深能级 砷化镓 薄膜
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在Si衬底上异质外延GaAs薄膜变激发强度的近红外光致发光 被引量:1
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作者 高瑛 赵家龙 +5 位作者 刘学彦 苏锡安 梁家昌 高鸿楷 龚平 王海滨 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期468-472,共5页
通过对用MOCVD(金属有机物化学气相沉积)方法在Si衬底上生长的GaAs外延薄膜,用不同激发强度下的近红外光致发光研究了液氮温度下峰值能量为1.13eV和1.04eV两个带谱的发光特性,表明这两个带均属于施主-受主... 通过对用MOCVD(金属有机物化学气相沉积)方法在Si衬底上生长的GaAs外延薄膜,用不同激发强度下的近红外光致发光研究了液氮温度下峰值能量为1.13eV和1.04eV两个带谱的发光特性,表明这两个带均属于施主-受主对复合发光。由于发光带中存在着电子-声子耦合,所以应在施主-受主对复合发光能量表示式中计及Frank-Condon位移,从而对复合发光能量表示式进行修正。通过对复合发光带能量随激发强度变化的实验曲线和理论表达式的拟合,确定了峰值为1.13eV与1.04eV这两个发光带深施主-受主对的束缚能之和分别为0.300eV和0.401eV。 展开更多
关键词 红外光致发光 异质外延 砷化镓 薄膜 衬底
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