焊接方法对铝合金焊接接头微弧氧化色差的影响

目的分析铝合金焊接接头微弧氧化过程中色差产生的原因。方法采用单激光和激光-MIG复合焊2种焊接方法焊接2A12铝合金,利用RGB值定性描述不同焊接试样的色差差异大小,采用金相、SEM和微区XRD观察2A12铝合金单激光和激光-MIG复合焊接头微弧氧化前后的组织、微观形貌和表面物相组成。结果经微弧氧化处理后,2A12铝合单激光焊焊件的焊缝和母材之间无明显色差,2A12铝合金激光-MIG复合焊焊件的焊缝和母材之间存在明显色差,结合金相组织、表面和截面的SEM形貌以及表面EDS和XRD测试分析结果可知,成分和表面熔融物颗粒的大小不同是铝合金焊接接头微弧氧化色差形成的主要原因,焊接接头的组织对铝合金焊接接头微弧氧化色差的产生没有影响。结论单激光焊接接头微弧氧化后的氧化色差较激光-MIG复合焊接头的小;铝合金(2A12)焊接接头产生氧化色差主要是因为焊接接头的成分和表面熔融物颗粒大小不同,而组织对色差无影响。

微弧氧化着色膜层制备技术研究进展

铝、镁、钛等合金材料常被用作3C机身结构件,尤其是制作笔记本电脑和手机的外壳时,不仅要求表面硬度高、耐磨性好,还要求其外观华丽精致,微弧氧化着色膜也因此成为研究热点。概述了微弧氧化着色膜的着色原理、着色方法,包括改变电解液组成、改变合金组成等,基于目前采用最多的添加过渡金属盐的方法对着色的颜色种类如黑色、棕色、蓝色、绿色等进行了重点论述,分析了微弧氧化膜的着色原因及显色物质成分,并在此过程中探讨了可能会对膜层颜色产生影响的工艺参数,揭示了微弧氧化着色膜层存在的光泽度低、色彩暗淡无光等问题。为解决微弧氧化着色膜装饰性较差的问题,使其更好地应用于电子产品,其未来的发展方向将是:(1)深入研究微弧氧化着色机理;(2)改善微弧氧化电解液体系;(3)探索工艺参数影响,以提高着色膜的装饰性;(4)拓展微弧氧化膜的颜色种类,从而满足更多场景的应用需求。

基于Arc/Info的地貌晕渲法的技术和实践

根据地貌晕渲基本理论和技术,利用Arc/Info制作了彩色晕渲图,并探讨了不同参数下的晕渲效果,最后还尝试了将晕渲图加载到表面视图,以从不同的角度来观察地貌形态。

终电压对铝合金Mo和V黑色微弧氧化膜形成过程的影响

目的以钼酸盐和钒酸盐为着色剂,探究终电压对黑色微弧氧化膜形成过程的影响。方法在六偏磷酸钠和硅酸钠的微弧氧化体系中,添加NH4VO_(3)和Na2MoO4作为着色剂,在清洁的6063铝合金表面获得不同终电压下的微弧氧化膜,通过SEM、XRD、XPS分析膜层的形貌、结构和成分,通过色差仪和紫外可见分光光度计表征膜层的颜色特性和吸光率,通过极化曲线和电化学阻抗谱分析膜层的电化学性能。结果膜层的主要成分为O、Al、P、Si、Mo、V,其中Mo、V以MoO_(3)、MoO_(2)、V_(2)O_(5)、V_(2)O_(3)的形式存在。当终电压从350 V提高至550 V时,微弧氧化膜层的微孔变得少而大,颜色由褐色逐渐变为黑色,L从65.01减小到22.63,对可见光(波长250~800 nm)的吸收率从69.4%增至96.5%以上,膜层厚度和粗糙度从4.00、0.55μm分别增至35.00、2.41μm,自腐蚀电流密度降至1.48×10^(−6) A/cm^(2),自腐蚀电位(vs.SCE)正移至−0.07 V,阻抗值大幅提高,达到2.48×10^(5)Ω·cm^(2)。结论NH_(4)VO_(3)、Na2MoO4是铝合金黑色微弧氧化的有效着色剂,反应生成的V_(2)O_(5)、V_(2)O_(3)、MoO_(3)、MoO_(2)是膜层呈现黑色的根本原因,随着终电压的升高,膜层吸光率和耐蚀性均提高,氧化膜的完整性对膜层性能的影响显著。

圆弧形建筑中彩钢板围护结构的设计及施工方法

介绍了圆弧形建筑中需要圆弧形布局的彩钢板围护结构的三种不同情况的设计及施工方法,同行们可以在以后的工程实践中,对相关设计及施工进行借鉴、参考。

有向图的邻点可区别弧染色

研究了有向图的邻点可区别弧染色,证明了每个有向图D都有χ′_(-,+)(D)≤Δ*(D)+2。对于完全有向图,完全对称二部有向图和有向树,给出了邻点可区别弧染色数的更精确结果。

镁合金微弧氧化黄色陶瓷膜的制备和结构研究

用微弧氧化方法在AZ91D镁合金基体上获得黄色的氧化膜陶瓷层,分别研究了电解液的成分和添加剂对氧化膜的影响规律。结果表明:样品在Na2SiO3为主盐溶液中加入KMnO4的电解液体系进行微弧氧化反应,可以得到颜色均匀、致密性较好的黄色氧化膜陶瓷层;添加柠檬酸钠能降低起弧电压和弧光的强度,减缓反应速度,并且防止孔蚀形成,从而使形成的氧化膜陶瓷层更加致密。

采用光谱诊断法测量长间隙空气电弧温度

电弧温度是表征长间隙空气电弧物理特性的重要参量。采用光谱诊断法测量长间隙空气电弧温度,为分析输电线路潜供电弧的自熄特性提供了依据。基于空气电弧等离子体辐射的光谱诊断原理,由附加光学预处理装置的高速图像采集系统来拍摄电弧图像,结合数字图像处理技术、阿贝尔(Abel)变换和光谱相对强度比色法,计算得到电弧等离子体的温度分布。研制了长间隙空气电弧温度的测量系统,对小电流电弧温度特性进行测试分析。结果表明,所提出的光谱诊断测温法能有效测量长间隙空气电弧等离子体的温度分布,为研究潜供电弧的自熄机制提供了重要手段。

基于彩色摄像和光谱分析联合测温方法的电弧温度场分布测量

温度是描述电弧物理特性的关键参数,掌握电弧温度分布随时间变化的规律对分析电弧燃烧机理及其对触头的烧蚀过程具有重要意义。利用彩色高速摄像机和光谱分析仪进行联合测温,得到电弧温度场空间分布随时间的变化规律。通过开距可调的电弧发生装置产生稳态电弧,进行测温系统标定,得到了稳态电弧温度场分布。在此基础上研究了不同稳态电流下电弧温度场分布,得到了电流对于标定系数及电弧温度场分布的影响规律。

基于彩色CCD的三色法测量电弧温度场分布

电器触头是低压电器的主要部件,电弧温度是影响电器触头寿命的主要因素。根据ＣＣＤ器件感光成像原理、图像还原原理及普朗克辐射公式阐述了三色法测温的原理,利用彩色ＣＣＤ摄像机摄取的电弧图像中的彩色分量,运用数字图像处理技术进行了噪声消除,重建了电弧的二维温度场分布,描述了测量系统的构成,并给出了电弧实测结果。

矿井机车运输监控系统调度联锁过程的Petri网建模

分析了机车运输监控系统中调度联锁的基本规则,采用有色Petri网对矿井机车调度联锁过程进行了建模.在建模的过程中,对库所和变迁进行了着色;使用约束组合弧并结合外部输入的车到和过车信息,对机车运行路线错误、任务内闯红灯等意外情况进行了描述;对进路的闭锁和解锁情况进行了细分,根据保证安全和兼顾效率的原则,建立了不同的控制方式;最后给出了调度联锁过程的整体Petri网模型.

镁合金微弧氧化棕黑色膜的制备及性能研究

镁合金微弧氧化在汽车和电子产品等民用领域具有广泛应用,这些领域对色彩的多样性提出要求.采用微弧氧化技术对镁合金表面进行着色处理.在以硅酸钠、偏铝酸钠、氢氧化钠和氟化钾为电解液的基础上,添加钒酸铵作为着色盐制备了棕黑色陶瓷膜.分别应用SEM观察了表面形貌,EDS检测元素构成,XRD分析涂层的相组成,电化学工作站分析了涂层的耐腐蚀性能.结果显示:随NH4VO3质量浓度的升高,陶瓷膜颜色由浅绿色逐渐变为棕黑色,陶瓷膜表面微孔尺寸减小,耐腐蚀性能提高;陶瓷膜相组成为MgO,MgSiO3,MgAl2O4,Al2O3,VO2;钒的氧化物存在使陶瓷膜显色.

多弧离子镀装饰膜层的色泽研究

运用多弧离子镀的方法,在1Cr13不锈钢及黄铜镀铬基体的表面上制备了氮化钛仿金装饰膜层。对氮化钛装饰膜层的色泽进行了研究,发现膜层具有装饰效果的黄金色彩,并讨论了镀膜工艺对膜层色泽的影响。

NaVO_3对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响

对AZ91D镁合金进行了微弧氧化处理,获得了棕黄色的陶瓷氧化膜层,并研究了不同质量溶度的NaVO3对微弧氧化膜颜色、结构和性能的影响。结果表明,微弧氧化膜层的生长速率随着NaVO3质量溶度的增加逐渐增大,耐蚀性呈先增大后减小的趋势,同时膜层颜色也逐渐变深,但是过量NaVO3的加入不利于反应成膜。EPMA分析表明膜层主要含有Mg、Al、V、O和少量P元素,但含P物相在XRD分析中并没有被检测到,应归因于膜层中P元素含量较少和生成的膜层较薄,使得含P物相在膜层中的沉积量较少。

不同电压下CrO_3对镁合金微弧氧化膜的影响

在硅酸盐体系电解液中加入CrO3制备微弧氧化膜,并研究不同电压下CrO3对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响.结果表明:硅酸盐系电解液中CrO3的加入使膜层中生成新的物相MgCr2O4,该物相具有尖晶石结构,有利于提高膜层的耐蚀性,且CrO3加入后获得绿色的微弧氧化膜,其中起显色作用的物质就是MgCr2O4.随着CrO3含量的增加,膜层的厚度变化不明显,只是膜层颜色逐渐加深,然而CrO3微小的添加量对膜层耐蚀性的提高有显著贡献,其添加量无需超过0.3g/L.在高电压、较高的成膜速率条件下可以获得比低电压更厚的微弧氧化膜层,并且高电压下所获得膜层具有良好的耐蚀性,这主要源自于较大的膜层厚度、较低的表面孔隙率.

硬铝合金表面微弧氧化着色工艺研究

介绍了利用微弧氧化的方法在铝合金基体上制备有色陶瓷层的工艺研究,通过微弧实验得到制备黑褐色及深黑色膜的最佳工艺。分析了电解液的成分以及添加剂的质量浓度对氧化膜着色的影响,并讨论了实验过程中可能出现的问题及解决办法。

多弧离子镀TiN薄膜颜色性能的研究

用多弧离子镀技术在3Cr13不锈钢表面沉积TiN薄膜,用扫描电子显微镜和可见光分光光度计研究了大颗粒、氮气流量与靶电流对膜层颜色性能的影响及其作用规律。结果表明,大颗粒由表面结晶层、中间层和液滴层组成,大颗粒数量较少时不会影响薄膜的颜色性能。增加氮气流量,样品的反射率呈下降趋势,颜色坐标红/绿值a*和黄/蓝值b*增大,明度L*减小,彩度指数C*ab增大,色调角H*ab减小,薄膜颜色由银灰色逐渐变化为深黄色;然而,随着靶电流的增大,色调角H*ab增大,彩度指数C*ab、红/绿值a*和黄/蓝值b*减小,薄膜颜色从深黄色逐渐变为银白色。靶电流的变化改变了膜层中钛和氮的原子比,可对氮气流量的变化起到补偿作用。

铝合金黄色微弧氧化膜的制备及其性能

目前,铝合金微弧氧化膜色泽单一,多为白色,影响了其装饰性和在光学仪器方面的应用。为此,以高锰酸钾为着色剂,通过控制电解液的组成及其浓度,在铝合金表面原位生成了黄色微弧氧化膜。用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)分析、观察了氧化膜层的相结构和表面形貌。结果表明:陶瓷膜层致密,与基体结合紧密;膜层主要组成相为Al,Al2O3,Mn5O8,Mn3O4,MnWO4;黄色陶瓷膜色泽稳定,较铝合金基体腐蚀电位有所提高。

不同电压下钼酸钠对镁合金微弧氧化膜的影响

在硅酸盐体系中添加钼酸钠,对比研究不同电压下钼酸钠对AZ91D镁合金微弧氧化膜层耐蚀性的影响.通过TT260涂层测厚仪、SEM和XRD分别检测了膜层厚度、膜层表面形貌和物相组成.采用点滴和电化学实验评估了膜层的耐蚀性能.结果表明:电解液中加入Na_2MoO_4后,膜层厚度变化不大,膜层点滴耐蚀性有所降低,但电化学耐蚀性呈增加趋势.在高电压下,添加0.42g/L Na_2MoO_4获得的膜层耐蚀性最佳,比低电压下的高约1个数量级,比无添加剂时的高出31倍,比基体高约2个数量级.同时,Na_2MoO_4的加入,可在AZ91D镁合金表面制得棕色系的膜层,起显色作用的物质是MoO2,该物相微溶于HNO3,但在电化学测试的NaCl介质中化学性质稳定,故可根据应用场合进行选择性使用.

6061铝合金微弧氧化着色工艺研究

采用微弧氧化工艺对6061铝合金手柄表面进行处理,研究了电解液的成分及浓度、微弧氧化电参数对氧化膜耐磨性和颜色的影响。结果表明:随着氧化时间和电流密度的增加,膜层与基体的结合强度增大,但电流密度过大会烧蚀膜层;在电解液中添加KMnO4可以获得黑色陶瓷膜,添加Na2WO4可制备黄色陶瓷膜;改变电解液成分及浓度、微弧氧化电参数均可使成膜质量和膜层颜色发生变化,可以满足手柄表面耐磨和着色两方面的需求。