武汉光源脉冲的非线性冲击磁铁设计研究

近年来,基于非线性冲击磁铁的离轴注入方案逐渐成为一种新兴的研究方向,尤其适用于动力学孔径较小的储存环。该方案的特点是磁场在注入束流位置有较大值在中心轨道处接近零,显著降低了脉冲磁场对储存束流的扰动。设计了一种基于八导线布局的非线性冲击磁铁,重点研究了一些关键参数对磁场性能的影响,包括导线布局、磁铁端部边缘场、陶瓷真空镀膜等,并相应地综合优化了这些关键参数。结果表明所设计的非线性冲击磁铁能够满足在研的高亮度正负电子对撞环和高亮度同步辐射环的注入系统要求。

合肥先进光源注入非线性冲击磁铁设计研究

合肥先进光源(Hefei Advanced Light Facility,HALF)是第四代衍射极限储存环型光源,其同步辐射光在真空紫外与软X射线波段。合肥先进光源的预研项目正在进行中,目前的注入系统拟采用非线性冲击磁铁的离轴注入方案,并处于重点考虑中。针对合肥先进光源项目,设计并研制了一种新型的适用于低发射度储存环的非线性冲击磁铁,对其进行了磁场的模拟,分析了其磁场对储存束流的影响以及陶瓷管内部镀膜对磁场场型的影响。加工了一套样机,同时对非线性冲击磁铁的磁场进行了实际测量,结果表明:实际磁场场型满足设计要求。