金膜光学常数的椭圆偏振光谱测量精度研究

为了利用可变入射角椭圆偏振光谱仪最佳地测出固体材料的光学常数,我们特别对金膜从理论和实验两方面研究了不同入射波长下入射角的选取对光学常数测量精度的影响,发现对不同的入射波长,在相应的主角下测出的光学常数具有最高的精度,主入射角下测量最佳条件对其它固体材料光学常数的测量同样适用。

薄膜厚度和光学常数的主要测试方法

准确地测量和控制薄膜厚度和光学常数等参数,在薄膜制备和分析和应用都是极为重要的。对薄膜的厚度和光学常数测试方法作了归纳和分类,并对几种主要的测试方法作了简要的介绍,分析了各自的特点及存在的问题。在测量薄膜的厚度和光学常数时,必须根据待测样品和测量精度要求选择合适的方法。

先进光谱椭偏测量技术及其在OLED中的应用

阐述光谱椭偏测量技术基本原理和椭偏测量数据分析方法,发展宽光谱穆勒矩阵椭偏仪等先进光谱椭偏测量技术和仪器。利用光谱椭偏测量技术精确标定典型OLED(organic light-emitting diode)材料基础光学数据,分析揭示有机材料分子取向及其导致的光学各向异性。构建复杂叠层有机发光器件光学计算模型,模拟分析其关键性能参数,提出光学协同优化设计方法,指导高性能OLED器件设计。结果和讨论展示了光谱椭偏技术在OLED材料与器件表征以及高性能OLED器件设计中的应用。

氧化铟锡薄膜的椭偏光谱研究

用溅射法在Si片上制备了厚度为140nm的氧化铟锡（ITO）薄膜。X射线衍射研究表明所制备的薄膜为多晶结构。在1．5～4．5eV范围内对ITO薄膜进行了椭偏测量。分别用德鲁德-洛伦茨谐振子（Drude4-Lorenzoscillators）模型、层进模型结合有效介质近似模型对椭偏参量ψ、△进行了拟合，得到ITO薄膜的折射指数n的变化范围在1.8～2.6之间，可见光范围内消光系数k接近于零，在350nm波长附近开始明显变化，且随着波长的减小k迅速增加。计算得到直接和间接光学带隙分别是3．8eV和4．2eV。并在1．5～4．5eV段给出一套较为可靠的、具有实用价值的ITO介电常量和光学常量。