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光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析 被引量:3
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作者 杨旺 黄玮 +1 位作者 许伟才 尚红波 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期227-231,共5页
研究了光学表面中频误差对杂散光的影响规律,提出使用功率谱密度函数描述表面中频误差,并通过该描述方法进行杂散光分析;同时利用等效光瞳空间频率对表面中频误差进行公差分析。利用以上方法,对工作波长为193nm、数值孔径为0.75的光刻... 研究了光学表面中频误差对杂散光的影响规律,提出使用功率谱密度函数描述表面中频误差,并通过该描述方法进行杂散光分析;同时利用等效光瞳空间频率对表面中频误差进行公差分析。利用以上方法,对工作波长为193nm、数值孔径为0.75的光刻物镜进行元件表面中频公差分析,当要求在2~10μm范围内的杂散光强度占比小于0.5%时,中低频等效光瞳空间频率界限为16,中高频等效光瞳空间频率界限为78。当元件表面功率谱曲线指数取1.5时,功率谱密度系数小于0.06的元件表面满足杂散光要求。结果表明该方法可以有效分析光学系统杂散光和元件表面中频公差。 展开更多
关键词 光学设计 杂散光 功率谱密度 公差分析 光刻物镜
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