Optical Measurements to Reveal Roles of Slightly Crosslinked Poly (dimethyldiallylammonium chloride) s in Fixing Anionic Dyes on Cotton Fabric

The roles of slightly crosslinked poly( dimethyldiallylammonium chloride) s( PDMDAACs) in fixing anionic dyes on cotton fabric were verified more precisely by optical analysis technologies,to achieve the new theoretical guides for the widely applications. Firstly,one method of optical CIELAB color difference analysis was designed to exactly measure the values of dyefixing performances, so that the suitable molecular weights and structures of the slightly crosslinked PDMDAACs could be precisely confirmed to play a role in the development of their dye-fixing performances. Secondly,the FT-IR absorption shift of the dye on dyed cotton sample fixed by slightly crosslinked PDMDAACs was nearly in agreement with that of forming water-insoluble color lakes,indicating that the expected color lakes could be formed on dyed cotton fabric,and would play a role in further development of the fastness of dyes on cotton fabric. Thirdly,the FT-IR spectra of fixed undyed cotton samples and that of fixed dyed cotton samples both showed the absorptions of slightly crosslinked PDMDAACs,further revealing that the slightly crosslinked PDMDAACs could be penetrated into cotton fabric and be convenient to interact with dyes when fixing. However,those absorptions of the slightly crosslinked PDMDAACs fixed on cotton samples would be absent after being adequately washed to a constant weight,suggesting that the fixing interactions of the slightly crosslinked PDMDAAC and cotton fabric were very weak.

激光直写制备衍射光学元件的研究及应用

衍射光学元件作为一种典型的微光学元件,其体积小、质量轻、设计自由度多、成像质量良好,在光学成像、光学数据存储、激光技术、生物医学等领域具有广阔的应用前景。随着现代光学系统的不断发展,对衍射光学元件的加工效率和制备精度提出了更高的要求。激光直写技术凭借加工精度高、工艺简单、灵活性好等优势,成为制备高精密仪器中关键光学元件所必需的一种加工方式。针对不同的加工需求,开发了多种激光直写系统,并在应用过程中不断地改进升级。另外,突破衍射极限的飞秒激光微纳结构制造技术,能够获得更高的加工精度和更好的分辨率,为微光学元件的制备提供了新的方法。首先介绍了激光直写技术的特点;其次综述了衍射光学元件直写加工技术的研究进展,包括直写技术的影响因素、激光直写系统和多光束加工技术;接着介绍了衍射光学元件的典型应用,如红外成像、色差校正、光束整形、图像显示;最后,对激光直写技术制备衍射光学元件存在的问题和未来发展趋势做出了总结。

衍射光学元件制作技术及未来展望

回顾了衍射光学元件（ＤＯＥ）制作技术的发展过程，介绍了未来制作技术的发展以及元件演变的未来趋势。

新型光刻技术研究进展

集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点,在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术,分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用。对未来光刻技术的发展方向进行了展望。

氧化锌铝薄膜的光电特性、制备技术及应用

ZAO薄膜具有低电导率、高可见光透射率、高红外光反射率及其它半导体特性,应用于平板显示器件、太阳能电池、反射热镜、气体敏感器件、特殊功能窗口涂层等领域。ZAO薄膜原料易得,制造成本低廉,无毒,易于实现掺杂,且在等离子体中稳定性好,易刻蚀,因而有可能成为ITO的替代产品,尤其是在太阳能电池透明电极领域。

二元光学元件的制作技术与进展

综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法。分析了这些方法的优缺点,并对其制作技术的发展进行了评述。

二元光学

介绍了二元光学的基本原理、优化设计方法、加工工艺、复制工艺以及一些应用实例，最后就二元光学的应用前景做了初步探讨。

适于光纤到家庭的新型光纤:多芯单模光纤

本文介绍法国电信公司和阿尔卡特公司开发的多芯单模光纤，重点介绍了４ 芯单模光纤的结构设计、预制棒制造工艺、拉丝技术和光纤特性，也介绍了该新型光纤在ＦＴＴＨ 用途中的技术经济优越性。

增强现实近眼显示设备中光波导元件的研究进展

增强现实技术是一种将虚拟环境信息叠加在真实世界中并加以有效利用的一种新型显示技术,在教育、医疗、旅游、汽车、建筑等领域有广阔的应用前景。增强现实近眼显示设备是增强现实技术的重要组成部分,而光波导是实现增强现实近眼显示设备高性能与微型化等特性的核心光学元件。光波导主要分为几何光波导和衍射光波导,几何光波导原理简单,其制备技术较为完善并且可以实现量产,但视场角与出瞳范围较小、制备工艺复杂;衍射光波导则具有极高的设计自由度及优良的性能,但成像时存在的彩虹效应与色散等问题仍待解决。本文综述了不同类型光波导的设计和制备技术,分析了几何光波导和衍射光波导在原理、结构参数、性能评价和制备流程等方面的表现,最后总结了目前增强现实近眼显示技术所面临的挑战,并对未来的发展前景进行展望。

超吸水性控温绿色伪装织物的制备与性能研究

从控制目标表面辐射温度、模拟绿色植被光谱反射特性出发,借鉴植物叶片的结构特点,通过超吸水性树脂进行纤维原位聚合、绿色伪装色水性色浆计算机配色的技术途径,开发了超吸水性控温绿色伪装织物,试制了超吸水性伪装样网。经测试:织物在380~1 800 nm波长范围内具有与绿色植物相似的光谱反射特性,能够模拟绿色植物的水分吸收特征峰;通过水分的缓慢蒸腾降温,超吸水性伪装样网在24 h内可基本模拟植被的红外辐射温度,红外热图与植被融合较好。实现了材料吸水保水的可调控,提高了材料的工程化应用程度。

国内光纤技术及光纤产业发展现状

通过国产光纤与进口光纤的性能比较和使用,说明国产G.652光纤的性能和质量与世界先进水平的光纤相比已无实质上的差距,应改变进口光纤一定比国产光纤质优的观念。我国制棒技术和规模与世界先进水平相比有较大差距,应通过多种方式发展制棒产业和提高制棒技术,以改变主要靠进口光棒拉丝的现状。

光刻亚微米线条研究

本文根据惠更新-菲涅耳原理,研究了提高光刻分辨率,提高光刻套准精度和在制版困难的条件下光刻亚微米线条的几种方法;并用实验证实了结论。

表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)

表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.

介质超构表面的CMOS兼容制备工艺的进展

超构表面为纳米光子器件赋予了更高的自由度与灵活度,使实用的微纳米光子器件的实现成为可能。基于高折射率半导体材料的介质超构表面制备技术可以和半导体集成电路的制作工艺结合,有希望在攻克超构表面大面积和高通量制备技术难题上发挥重要的作用,因此对其光场调控性能和制备工艺的研究是该领域近年来的重要发展方向。本文从硅、氮化硅和二氧化钛等介质超构表面出发,介绍了超构表面高通量制造技术的发展。此外,介绍了基于大面积制造技术实现实际应用的基于纳米光子器件的光学器件,如显示、成像、光调控器件。

基于飞秒激光加工非金属血管支架的工艺研究

利用飞秒激光器具有超短脉冲和超高峰值功率的特性,对非金属可降解血管支架的切割加工进行了研究,实验证明利用飞秒激光切割非金属支架可以达到无热损伤的精密加工的目的。通过正交实验得到加工非金属血管支架各参数之间的关系,求出最佳加工参数:激光脉冲频率10kHz,脉冲宽度412fs,激光功率1.6 W,辅助Ar气压0.8MPa,切割速度1.2mm/s,达到对非金属材料聚乳酸切线精细平直、切边光滑,表面无碳化、无残渣残留的加工效果,加工出了相应的非金属支架样品。

光学自由曲面数控化加工方法

在光学系统中，为了满足特殊的成像要求，需要使用自由曲面光学零件，但由于自由曲面是一类非常复杂的曲面，用传统的光学加工方法很难加工。本文概要介绍了光学非球面的多种加工方法，探索了这些方法加工光学自由曲面的可能性，提出了用数控化加工方法加工光学自由曲面，并利用这种方法加工了一块自由曲面透镜。

一种新型聚合物微透镜阵列的制造技术

提出了一种利用软模压印制备微透镜阵列的技术。采用传统的光刻胶热熔方法制备微透镜阵列母板,利用复制模具的方法在聚二甲基硅氧烷(PDMS)上得到一个和母板表面图形相反的模具,最后通过压印的方法把PDMS模具上的图形转移到涂有紫外固化胶的玻璃基片上,待紫外胶完全固化后可得到和母板一致的微透镜阵列。经过测试微透镜阵列的焦点图像和表面形貌可发现最后制备的微透镜阵列表面形貌均匀、聚焦性能良好、光强均匀。

飞秒激光在金属钼表面诱导产生纳米量级周期条纹结构的研究

针对近红外(800 nm)及其二倍频(400 nm)飞秒激光脉冲在金属钼表面诱导产生周期性条纹结构的情况进行了研究,分析比较了入射激光能量、脉冲重叠数、激光中心波长和加工氛围等实验参数对金属表面自组织形成的条纹结构空间周期的影响,并利用中心波长为400 nm的飞秒激光在水环境中于单晶钼表面制备出了空间周期仅约160 nm的条纹结构。同时针对水中加工的情况,在理论上提出了入射激光与表面等离子体波发生干涉和表面等离子体波形成驻波两种机制相互竞争的物理模型,很好地解释了实验现象,对于深入理解飞秒激光在金属表面进行纳米尺度的加工制备具有重要意义。

基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法

提出了一种基于多染色体遗传算法(GA)的像素化光源掩模优化(SMO)方法。该方法使用多染色体遗传算法,实现了像素化光源和像素化掩模的联合优化。与采用矩形掩模优化的单染色体GASMO方法相比,多染色体GASMO方法具有更高的优化自由度,可以获得更优的光刻成像质量和更快的优化收敛速度。典型逻辑图形的仿真实验表明,多染色体方法得到的最优光源和最优掩模的适应度值比单染色体方法小7.6%,提高了光刻成像质量。仿真实验还表明,多染色体方法仅需132代进化即可得到适应度值为5200的最优解,比单染色体方法少127代,加快了优化收敛速度。

大尺寸连熔N31型掺钕磷酸盐激光玻璃的性能研究

报道了磷酸盐激光钕玻璃的连续熔炼线，以及采用连续熔炼工艺获得的400mm口径N31钕玻璃的主要性能。连熔所制备的N31-35钕玻璃的掺杂离子浓度为3．47（±0．02）×10^20cm^-3；1053nm处的折射率为1．5336~0．0005；400nm处的吸收系数平均值为O．098cm～；1053nm处的激光波长损耗为0．13～0．15％cm～；3000cm^-1处的吸收系数平均值为0．83cm^-1。400mm口径连熔N31钕玻璃的透射波前畸变在633nm处小于A／3波长。采用1053nm、脉冲为3ns激光作用下连熔钕玻璃的体破坏阈值大于40J／cm^2。结果表明，在N31钕玻璃的连续熔炼工艺中，除铂金和除水都取得了很好的效果。