期刊文献+
共找到74篇文章
< 1 2 4 >
每页显示 20 50 100
水溶液堆中子学优化和提取方式对^(99)Mo生产效率的影响研究 被引量:1
1
作者 郁长清 朱贵凤 +1 位作者 严睿 邹杨 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2023年第9期125-134,共10页
医用同位素生产水溶液堆(Medical Isotope Production aqueous Reactor,MIPR)具有尺寸小、功率低和固有安全性高等优点,是^(99)Mo和其他医用同位素生产的较佳候选堆型之一。本文重点研究低富集铀启堆模式下的提取方式以及处理能力对MIP... 医用同位素生产水溶液堆(Medical Isotope Production aqueous Reactor,MIPR)具有尺寸小、功率低和固有安全性高等优点,是^(99)Mo和其他医用同位素生产的较佳候选堆型之一。本文重点研究低富集铀启堆模式下的提取方式以及处理能力对MIPR生产^(99)Mo效率的影响。采用SCALE6.1蒙特卡罗程序、ENDF/B-Ⅶ238群数据库进行计算。首先,根据已有的实验数据对MIPR中子学计算方法进行了验证,并对堆芯设计进行了中子学优化。然后,根据优化的堆芯模型对不同提取方式以及处理能力下的^(99)Mo生产效率进行了研究,确定了可实现临界的铀浓度与富集度范围。结果表明:在不同富集度下存在最小临界质量,且随235U富集度的增加,最小临界铀质量时的铀浓度减小;有效倍增因子随硝酸浓度增加线性减小,相应的硝酸反应性系数约为-1.400×10^(-2)L·mol^(-1);随着铀浓度的增加,空泡和温度反应性系数减小,对应反应性系数分别约在(-100~-250)×10-3℃^(−1)和(-18~-30)×10-5℃^(−1)范围。MIPR生产^(99)Mo的效率在线提取方式略高于离线批处理方式,5 d生产周期下,生产效率提高约16%。后处理能力对在线提取方式的生产效率影响较大,5 d生产周期下,后处理速率提高5倍,生产效率提高约113%。 展开更多
关键词 水溶液堆 医用同位素 铀质量 ^(99)mo 反应性系数
下载PDF
A NEW REACTIVITY INDEX——PSEUDO ORBITAL INDEX
2
作者 Fu Jiang DING Liang Fu ZHANG Guang Nian LI 《Chinese Chemical Letters》 SCIE CAS CSCD 1991年第12期975-978,共4页
The concept of pseudo orbital has been proposed, which includes the interactions of all the orbitals and extends the applicable limit of Fukui's frontier orbitals. An example shows that the pseudo orbital reactivi... The concept of pseudo orbital has been proposed, which includes the interactions of all the orbitals and extends the applicable limit of Fukui's frontier orbitals. An example shows that the pseudo orbital reactivity indexes are probably able to explain more complicated phenomena in chemical reactions. 展开更多
关键词 AO A NEW reactivity INDEX PSEUDO orbital INDEX
下载PDF
The molecular orbital investigation of the metal triply bonded compounds M_2X_2(NMe_2)_4
3
作者 LiMing FuWentao DengChuanyue 《西南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1994年第4期403-408,共6页
ThemolecularorbitalinvestigationofthemetaltriplybondedcompoundsM_2X_2(NMe_2)_4LiMing,FuWentao,DengChuanyue(D... ThemolecularorbitalinvestigationofthemetaltriplybondedcompoundsM_2X_2(NMe_2)_4LiMing,FuWentao,DengChuanyue(DepartmentofChemis... 展开更多
关键词 金属三重键 化合物 分子轨道
下载PDF
Preparation and properties of flame-sprayed Mo-FeB-Fe cermet coatings 被引量:8
4
作者 马壮 王伟 +3 位作者 邹积峰 董世知 张连勇 李智超 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第6期1314-1321,共8页
The powders of Mo2FeB2 cermet were prepared with Mo powders, Fe-B alloy powders and Fe powders as raw materials. Mo2FeB2 cermet coatings were prepared on Q235 steel by reactive thermal spraying (RTS) method and heat... The powders of Mo2FeB2 cermet were prepared with Mo powders, Fe-B alloy powders and Fe powders as raw materials. Mo2FeB2 cermet coatings were prepared on Q235 steel by reactive thermal spraying (RTS) method and heated at 1 000 ℃ in vacuum oven of 1 kPa for 5 h. The properties of coatings were investigated. The results indicate that Fe2B appears after milling for 15 h in the powder at room temperature, a part of ternary borides (Mo2FeB2) are generated in powder sintered at 900 ℃. The coatings are composed of the major phases Mo2FeB2 and a-Fe, a little of Fe203, FeO and some pores. The bonding strength between the substrate and the ceramic coating is 32.73 MPa, the thermal-shock times is about 43 and the wear resistance is enhanced by approximately 5.28 times compared with that of the substrate, respectively. The comprehensive properties of Mo2FeB2 cermet coatings can be imoroved further after vacuum heat-treatment at 1 000 ℃ for 5 h. 展开更多
关键词 mo2FeB2 cermet coating reactive thermal spraying HARDNESS thermal shock resistance wear resistance
下载PDF
直流反应磁控溅射制备的Mo掺杂TiO_2薄膜的光电特性 被引量:8
5
作者 颜秉熙 罗胜耘 沈杰 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第2期381-386,共6页
通过直流反应磁控溅射制备了不同Mo掺杂量的Mo-TiO2薄膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)仪、X射线光电子能谱(XPS)仪、紫外-可见(UV-Vis)分光光度计详细研究了Mo掺杂量对薄膜表面形貌、晶体结构、元素价态及吸收带边的影响.用瞬... 通过直流反应磁控溅射制备了不同Mo掺杂量的Mo-TiO2薄膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)仪、X射线光电子能谱(XPS)仪、紫外-可见(UV-Vis)分光光度计详细研究了Mo掺杂量对薄膜表面形貌、晶体结构、元素价态及吸收带边的影响.用瞬态光电流和循环伏安法考察了不同Mo含量ITO/Mo-TiO2电极的光电特性.结果表明:在TiO2薄膜中掺入的Mo以Mo6+和Mo5+两种价态存在;随着Mo掺杂量的增加,Mo-TiO2薄膜的晶粒尺寸逐渐减小,晶格畸变增大,吸收阈值显著红移;薄膜的禁带宽度先减小后增大,在Mo掺杂量为2.7%(n(Mo)/n(Ti))时禁带宽度最小;Mo掺杂量为0.9%的样品在氙灯下的光生电流最大,且随着所加阳极偏压的提高光生电流并未呈现出饱和的趋势.此后随着掺杂量的提高,薄膜的光生电流开始下降,当Mo掺杂量达到3.6%时,薄膜的光电流小于未掺杂的样品;说明适当浓度的Mo掺杂能够提高Mo-TiO2薄膜光电性能,光生电流最大可达未掺杂的2.4倍. 展开更多
关键词 光生电流 循环伏安 直流反应磁控溅射 二氧化钛薄膜 钼掺杂
下载PDF
Mo电极上磁控反应溅射AlN薄膜 被引量:4
6
作者 熊娟 顾豪爽 +1 位作者 胡宽 吴小鹏 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第A02期230-233,共4页
采用射频反应磁控溅射法在Mo电极上沉积了AlN薄膜。研究了溅射气压、靶基距、溅射功率、衬底温度及N2含量等不同工艺条件对AlN薄膜择优取向生长的影响。用XRD分析了薄膜的择优取向,用原子力显微镜、高分辨场发射扫描电镜表征了薄膜的形... 采用射频反应磁控溅射法在Mo电极上沉积了AlN薄膜。研究了溅射气压、靶基距、溅射功率、衬底温度及N2含量等不同工艺条件对AlN薄膜择优取向生长的影响。用XRD分析了薄膜的择优取向,用原子力显微镜、高分辨场发射扫描电镜表征了薄膜的形貌。实验结果表明,靶基距和溅射气压的减小,衬底温度及溅射功率的升高有利于AlN(002)晶面的择优取向生长。氮氩比对AlN薄膜择优取向生长影响较小,N2≥50%(体积分数)时均可制得高c轴择优取向的AlN薄膜。经优化工艺参数制备的AlN柱状晶薄膜适用于体声波谐振滤波器的制备。 展开更多
关键词 ALN薄膜 射频磁控反应溅射 c轴择优取向 mo电极
下载PDF
反应等离子喷涂TiCN-Mo涂层的组织与性能 被引量:4
7
作者 倪攀 牛景辉 +5 位作者 刘红兵 张海峰 孟海龙 江德华 龚月 邵林 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 北大核心 2018年第2期192-198,共7页
利用反应等离子喷涂技术在钢基体上沉积了3种不同Mo含量的TiCN-Mo金属基陶瓷涂层。通过XRD、SEM及EDS对涂层显微结构进行分析,通过显微硬度计测量涂层的硬度和压痕韧性,并对显微硬度进行Weibull分布统计。结果表明:涂层由TiC_(0.7)N_(0.... 利用反应等离子喷涂技术在钢基体上沉积了3种不同Mo含量的TiCN-Mo金属基陶瓷涂层。通过XRD、SEM及EDS对涂层显微结构进行分析,通过显微硬度计测量涂层的硬度和压痕韧性,并对显微硬度进行Weibull分布统计。结果表明:涂层由TiC_(0.7)N_(0.3),TiN,金属Mo相,少量Ti_2O及钼的氧化物组成;Mo以白色条带状均匀分布在TiCN周围,交替叠加,形成紧密的显微结构;三种涂层显微硬度均服从Weibull分布,具有一定分散性;与单一TiCN涂层相比,当Mo质量分数为10%时,制备的涂层显微硬度具有较小的分散性,结构致密,具有较高的压痕韧性和强度。 展开更多
关键词 TiCN-mo涂层 反应等离子喷涂 显微硬度 WEIBULL分布
下载PDF
Mo-Si材料相组成与热膨胀性能的研究 被引量:2
8
作者 肖来荣 蔡志刚 +1 位作者 易丹青 刘瑞 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 2006年第4期65-69,共5页
利用液相反应烧结制备不同配比的Mo-S i复合材料,用X射线分析相组成,扫描电镜观察微观组织形貌,热膨胀仪测不同块体材料的热膨胀系数(CTE)。研究结果表明,不同配比烧结体相组成以MoS i2为主,当S i/Mo为2.2∶1(at%)时MoS i2基体中仍含有... 利用液相反应烧结制备不同配比的Mo-S i复合材料,用X射线分析相组成,扫描电镜观察微观组织形貌,热膨胀仪测不同块体材料的热膨胀系数(CTE)。研究结果表明,不同配比烧结体相组成以MoS i2为主,当S i/Mo为2.2∶1(at%)时MoS i2基体中仍含有极少量的Mo5S i3相,而S i/Mo为2.3∶1时生成纯MoS i2。复合材料的CTE随Mo5S i3相含量的减少而增加,当S i/Mo达到2.3∶1时,CTE为最大值(8.16×10-6K-1)。 展开更多
关键词 液相反应烧结 mo-Si复合材料 热膨胀系数
下载PDF
氧化钼催化剂的ab initio MO研究 被引量:1
9
作者 袁淑萍 王建国 +1 位作者 李永旺 彭少逸 《燃料化学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第S1期138-142,共5页
采用原子簇模型,用从头计算分子轨道方法研究了模拟MoO3(010)晶面的几个簇Mo2O11H10、Mo3O16H14和Mo7O32H22,在RHF/MINI/ECP-SBK或UHF/3-21G/ECP-SBK水平上对其结构进行了完全优化,得到了MoO3(010)面上三种结构不等价氧的成键特性、电... 采用原子簇模型,用从头计算分子轨道方法研究了模拟MoO3(010)晶面的几个簇Mo2O11H10、Mo3O16H14和Mo7O32H22,在RHF/MINI/ECP-SBK或UHF/3-21G/ECP-SBK水平上对其结构进行了完全优化,得到了MoO3(010)面上三种结构不等价氧的成键特性、电子性质以及轨道布居等结构性质。发现结构不等价氧与钼原子的成键特性是有差异的,且轨道布居等数据可以为解释在丙烯选择氧化为丙烯醛的反应中,氧亲核插入烯丙基过程中的活性位提供信息。 展开更多
关键词 氧化钼 abinitiomo方法 成键特性 轨道布居
下载PDF
表面预处理对Ge MOS电容特性的影响 被引量:2
10
作者 邹晓 蒋万翔 徐静平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期573-575,606,共4页
通过不同气体(NO、N2O、NH3)对Ge衬底进行表面预处理,生长GeOxNy界面层,然后采用反应磁控溅射方法生长HfTiO薄膜,制备HfTiO/GeOxNy叠层高k栅介质GeMOS电容,研究表面预处理对界面层以及界面层对器件性能的影响。隧穿电子扫描电镜(TEM)、... 通过不同气体(NO、N2O、NH3)对Ge衬底进行表面预处理,生长GeOxNy界面层,然后采用反应磁控溅射方法生长HfTiO薄膜,制备HfTiO/GeOxNy叠层高k栅介质GeMOS电容,研究表面预处理对界面层以及界面层对器件性能的影响。隧穿电子扫描电镜(TEM)、栅电容-电压(C-V)栅极漏电流-电压(J-V)的测量结果表明,湿NO表面预处理能生长高质量的界面层,降低界面态密度,抑制MOS电容的栅极漏电流密度。施加高场应力后,湿NO表面预处理样品的平带漂移及漏电流增加最小,表示器件的可靠性得到有效增强。 展开更多
关键词 锗金属氧化物半导体 氧化钛铪 表面预处理 界面层 高k 磁控溅射法
下载PDF
CVD方法制备Mo_2C膜的化学反应机制和组分含量的热力学计算 被引量:2
11
作者 平荣刚 吕弋 《西南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期284-289,共6页
报道了采用CVD方法制备Mo2C膜的方法,在实验上证实了Mo2C膜的化学反应机制包括Mo(CO)6的分解和Mo的碳化两个过程,根据自由能极小原理对薄膜中各组分的含量与沉积温度的关系作了计算。
关键词 热力学 组分含量 碳化钼膜 CVD 化学反应
下载PDF
环境温度对Ti-Mo-N薄膜摩擦磨损性能的影响 被引量:1
12
作者 鞠洪博 汪然 +1 位作者 喻利花 许俊华 《江苏科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第5期12-17,共6页
采用多靶共聚焦射频磁控溅射仪制备了Mo含量为46.0%的Ti-Mo-N薄膜,研究了不同环境温度对薄膜摩擦磨损性能的影响.结果表明,Ti-Mo-N薄膜平均摩擦系数(μ)及磨损率(W)受环境温度影响很大,根据其变化趋势,可将环境温度分为3个区间(A,B,C),... 采用多靶共聚焦射频磁控溅射仪制备了Mo含量为46.0%的Ti-Mo-N薄膜,研究了不同环境温度对薄膜摩擦磨损性能的影响.结果表明,Ti-Mo-N薄膜平均摩擦系数(μ)及磨损率(W)受环境温度影响很大,根据其变化趋势,可将环境温度分为3个区间(A,B,C),对应环境温度范围分别为25~200℃、200~300℃、300~600℃.随环境温度升高,区间A内μ逐渐升高,W略有降低;区间B内μ及W基本保持稳定;区间C内μ逐渐降低,W逐渐升高.分析认为磨痕中具有自润滑作用的氧化相的量是导致薄膜μ及W出现上述变化趋势的主要原因. 展开更多
关键词 磁控溅射 Ti-mo-N薄膜 环境温度 氧化物量 摩擦磨损性能
下载PDF
原子及分子轨道演示软件——Orbital Viewer
13
作者 范志宏 郭继虎 杜慧玲 《山西农业大学学报(社会科学版)》 2005年第6期15-16,共2页
针对传统教学活动中,讲述原子、分子轨道内容大多依赖于挂图与实物模型等教具的现状,本文介绍了原子及分子轨道演示软件Orbital Viewer的安装与运行、使用方法、输入、输出格式,并着重对参数设定以及各种显示功能进行了论述。
关键词 原子轨道 分子轨道 orbital VIEWER
下载PDF
新型(不预硫化)Mo-Co/TiO_2加氢转化催化剂的反应机理、制备和性能评价 被引量:8
14
作者 秦玉楠 《中国钼业》 1998年第4期30-33,共4页
主要详述新型(不预硫化)Mo-Co/TiO2HDS催化剂的反应机理、制备和性能评价方法等。评价结果表明,新型催化剂与传统Co-Mo/Al2O3HDS催化剂相比具有不需预硫化和初活性、稳定性均高的特点。
关键词 加氢转化脱硫 催化剂 反应机理 初活性 预硫化
下载PDF
Mo活化NH_3的自旋禁阻反应机理
15
作者 刘玲玲 王永成 张力 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第3期519-526,共8页
采用密度泛函理论的UB3LYP方法,计算研究了气相中Mo活化NH3的反应机理。为了理解由Mo活化NH3过程中自旋翻转行为,对自旋态分别为七、五、三和单等4个反应势能面进行了计算研究,其结果表明,Mo活化NH3的过程是通过各自旋态势能面交叉产生... 采用密度泛函理论的UB3LYP方法,计算研究了气相中Mo活化NH3的反应机理。为了理解由Mo活化NH3过程中自旋翻转行为,对自旋态分别为七、五、三和单等4个反应势能面进行了计算研究,其结果表明,Mo活化NH3的过程是通过各自旋态势能面交叉产生的典型的自旋禁阻反应,最低能量交叉点(MECPs)附近的系间窜越导致2步H转移和脱H2反应能垒降低。此外运用自然键(NBO)轨道理论分析了反应中较为重要的几个物种的成键特性。通过计算在最低能量交叉点(MECPs)附近不同自旋态之间的自旋-轨道耦合常数,再运用Landau-Zener跃迁几率公式估算了MECPs处系间窜越几率。所确定的最低能量反应路径为:7Mo+NH3→7IM1→7/5MECP1→5TS12→5IM2→5/3MECP2→3TS23→3IM3→3TS34→3IM4→3HMoN+H2。 展开更多
关键词 mo活化NH3 自旋禁阻反应 最低能量交叉点 自旋-轨道耦合 系间窜越几率
下载PDF
化合物Mo(CO)_n^+(n=1~6)构型和键解离能的密度泛函研究
16
作者 章永凡 项生昌 李俊篯 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2000年第8期962-970,共9页
采用DFT/B_3LYP方法研究了化合物Mo(CO)_n^+(n=1~6)的基态可能构型,对于各n值,基态可能构型(电子态)依次为:直线型(~6∑^+),直线型(~6∑_g^+),C_(2v)(~2A_2)或D_(3h)(~6A_1),D_(4h)(~4A_(lg)),C_(2v)(~2B_2)或 C_(4v)'(~2B_1),D_(3d)(... 采用DFT/B_3LYP方法研究了化合物Mo(CO)_n^+(n=1~6)的基态可能构型,对于各n值,基态可能构型(电子态)依次为:直线型(~6∑^+),直线型(~6∑_g^+),C_(2v)(~2A_2)或D_(3h)(~6A_1),D_(4h)(~4A_(lg)),C_(2v)(~2B_2)或 C_(4v)'(~2B_1),D_(3d)(~2A_(lg)).计算结果表明,对于n≥3时,碎片离子的构型与体系自旋多重度关系敏感.进一步计算了Mo-CO键的逐级解离能,计算值与实验结果能较好吻合,并从Mo原子4d和5s轨道杂化角度来解释该键解离能随n值的非单调变化. 展开更多
关键词 密度泛函 键解离能 钼羰基配合物 树型
下载PDF
引入基态施主能级分裂的SiC基MOS电容模型
17
作者 戴振清 杨瑞霞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期150-154,共5页
基态施主能级分裂因素被引入了SiC基MOS电容模型。考虑到能级分裂后,电容C-V特性曲线平带附近的Kink效应,得到有效减弱;并且能级分裂对C-V特性的影响,随掺杂浓度的增加和温度的降低而增强,同时也与杂质能级深度相关。对于耗尽区和弱积累... 基态施主能级分裂因素被引入了SiC基MOS电容模型。考虑到能级分裂后,电容C-V特性曲线平带附近的Kink效应,得到有效减弱;并且能级分裂对C-V特性的影响,随掺杂浓度的增加和温度的降低而增强,同时也与杂质能级深度相关。对于耗尽区和弱积累区,由于能级分裂的影响,电容的表面电荷面密度将分别有所增加和降低。 展开更多
关键词 基态施主能级分裂 碳化硅 金属氧化物半导体电容 电容-电压特性 表面电荷
下载PDF
还原温度对Mo基催化剂物相及其加氢脱氧性能的影响 被引量:1
18
作者 梁俊梅 陈宇 +4 位作者 丁冉冉 孟永强 王要武 杨明德 吴玉龙 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期1452-1459,共8页
以碳纳米管(CNTs)为载体,通过控制催化剂合成的还原温度制备了一系列负载型Mo基催化剂。采用XRD、TEM、N2物理吸附、XPS以及NH_3/H_2-TPD等技术对催化剂进行了表征,并研究了Mo基催化剂对硬脂酸催化加氢脱氧性能的影响。结果表明:随着还... 以碳纳米管(CNTs)为载体,通过控制催化剂合成的还原温度制备了一系列负载型Mo基催化剂。采用XRD、TEM、N2物理吸附、XPS以及NH_3/H_2-TPD等技术对催化剂进行了表征,并研究了Mo基催化剂对硬脂酸催化加氢脱氧性能的影响。结果表明:随着还原温度的升高,催化剂表面的Mo物种逐渐被还原,还原过程为:Mo O_3→Mo O_2→Mo→Mo_2C。还原温度为450℃和550℃时,催化剂的活性相为Mo O_2;还原温度为600℃时,催化剂的活性相为Mo O_2/Mo/β-Mo_2C的混合相;还原温度为650℃和700℃时,催化剂的活性相全部转化为β-Mo_2C。与活性相Mo O_2催化剂相比,β-Mo_2C催化剂具有更高的加氢脱氧活性。此外,还原温度为600℃的Mo O_2/Mo/β-Mo_2C混合相催化剂因具有较大的比表面积、较多的酸中心数量和较强的H_2吸附能力,使得该催化剂在硬脂酸加氢脱氧反应中表现出最优越的催化活性。 展开更多
关键词 mo基催化剂 还原 加氢 活性
下载PDF
沉积温度对IMO透明导电薄膜光电性能的影响 被引量:3
19
作者 袁果 黎建明 +2 位作者 张树玉 刘伟 闫兰琴 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期676-679,共4页
采用射频磁控反应溅射法在K9玻璃衬底上制备了掺钼氧化铟(Mo:In2O3,IMO)透明导电薄膜,研究了不同沉积温度条件下IMO薄膜的晶体结构、形貌及光电性能。结果表明:不同沉积温度下IMO薄膜均具有(222)择优取向。随着沉积温度的升高,IMO薄膜... 采用射频磁控反应溅射法在K9玻璃衬底上制备了掺钼氧化铟(Mo:In2O3,IMO)透明导电薄膜,研究了不同沉积温度条件下IMO薄膜的晶体结构、形貌及光电性能。结果表明:不同沉积温度下IMO薄膜均具有(222)择优取向。随着沉积温度的升高,IMO薄膜的载流子浓度增大、载流子迁移率增大、电阻率减小;沉积温度为350℃时,薄膜的最低电阻率为6.9×10-4Ω.cm,载流子浓度为2.15×1020cm-3,迁移率为45 cm2V-1s-1。在可见及近红外区,IMO薄膜的平均透过率大于80%以上。在近红外区,薄膜透过率随沉积温度的升高而增大;在中红外区,由于载流子的吸收,薄膜透过率迅速下降。 展开更多
关键词 掺钼氧化铟薄膜 射频磁控反应溅射 电学性能 光学性能
下载PDF
新型熔盐快堆的物理优化设计及^(99)Mo产量分析 被引量:1
20
作者 刘小林 周波 +3 位作者 邹杨 严睿 徐洪杰 陈亮 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期93-100,共8页
为提高新型熔盐快堆的堆芯中子经济与安全性能,并利用^(235)U的裂变反应进行^(99)Mo同位素生产,应用SCALE6.1程序进行了堆芯几何参数优化,基于优化后的堆芯对^(99)Mo同位素的生产进行相关分析。结果表明:适当增加燃料元件半径、减小燃... 为提高新型熔盐快堆的堆芯中子经济与安全性能,并利用^(235)U的裂变反应进行^(99)Mo同位素生产,应用SCALE6.1程序进行了堆芯几何参数优化,基于优化后的堆芯对^(99)Mo同位素的生产进行相关分析。结果表明:适当增加燃料元件半径、减小燃料栅元半径可提高有效增殖因子,同时降低冷却剂温度系数;当燃料元件容器壁厚为0.1 cm、燃料元件半径为3.5 cm、栅元半径为5 cm、活性区半径和反射层厚度分别为63 cm和100 cm时,堆芯运行寿期满足32个月,此时总反应性温度系数为−1.615×10^(−5)K^(−1),保证了堆芯的固有安全性;选最外层燃料元件作为^(99)Mo生产的燃料靶件可提高^(99)Mo的产量,当燃料靶件提取周期为7 d时,^(99)Mo出堆年产量达到6.25×10^(16)Bq,比活度为2.77×10^(15)Bq∙g^(-1)。 展开更多
关键词 新型熔盐快堆 ^(99)mo同位素 反应性温度系数
下载PDF
上一页 1 2 4 下一页 到第
使用帮助 返回顶部