基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究

为降低TFT-LCD生产过程中切换残影不良的发生率,在考虑残影的主要影响因素基础上,采用实验设计(DOE)中的部分因子实验设计筛选该不良的显著因子,结合生产实际开展切换残影的改善研究工作。研究结果表明:DOE方法能有效辨别残影不良的显著因子有覆盖层(Over coater,OC)、重叠部分(ITO-Vcom Overlay,OL)和摩擦扭转力(Rubbing Torque),在实际生产的不良改善过程中,彩膜玻璃(Color Filter,CF)增加OC、加大OL和提高Rubbing Torque值均能有效降低残影不良发生率;研究结果为切换残影和改善TFT-LCD生产过程中其他不良提供了新思路。