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W(110)表面反常STM图像的密度泛函理论研究
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作者 蔡建秋 尚学府 陶向明 《浙江大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期51-55,共5页
采用密度泛函理论的第一性原理方法研究了W(110)p(1×1)表面的STM图像对于衬底偏压的依赖性.计算结果表明:在衬底负偏压条件下,W(110)p(1×1)表面的钨原子在STM图像中显示为暗点而非通常在其它过渡金属中观察到的亮斑,并且暗点... 采用密度泛函理论的第一性原理方法研究了W(110)p(1×1)表面的STM图像对于衬底偏压的依赖性.计算结果表明:在衬底负偏压条件下,W(110)p(1×1)表面的钨原子在STM图像中显示为暗点而非通常在其它过渡金属中观察到的亮斑,并且暗点随偏压绝对值的减小而逐渐弱化.计算还模拟了恒流模式的STM测量时针尖的起伏变化.当衬底偏压在0~100meV区间时,针尖起伏高度最为明显(~0.006nm).在更高的正偏压下,STM的针尖起伏随偏压改变而线性变化(0.0015~0.0035nm).这些结果说明了W(110)p(1×1)表面是非常平坦的.由于钨原子的价电子为5d态,和3d电子相比具有更为扩展的行为,表面态电子波函数交叠区间集中在原子周围,所以STM测量时亮点突起出现在原子的周围. 展开更多
关键词 W(110) p(1)表面 表面弛豫 STM图像
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